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山東紫外光刻膠國產(chǎn)廠家

來源: 發(fā)布時間:2025-04-18

LCD 正性光刻膠(YK-200)應(yīng)用場景:LCD 面板的電極圖案化(如 TFT-LCD 的柵極,、源漏極),、彩色濾光片制造,。特點:高感光度與均勻涂布性,確保顯示面板的高對比度和色彩還原度,。
厚膜光刻膠(JT-3001)應(yīng)用場景:Mini LED/Micro LED 顯示基板的巨量轉(zhuǎn)移技術(shù),以及 OLED 面板的封裝工藝,。特點:膜厚可控(可達(dá)數(shù)十微米),,滿足高密度像素陣列的精細(xì)加工需求。
PCB 光刻膠(如 SU-3 負(fù)性光刻膠)應(yīng)用場景:高多層 PCB,、HDI(高密度互連)板的線路成像,,以及 IC 載板的精細(xì)線路制作。特點:抗電鍍性能優(yōu)異,,支持細(xì)至 50μm 以下的線寬 / 線距,,適應(yīng) 5G 通信、服務(wù)器等 PCB 需求,。 正性光刻膠生產(chǎn)廠家。山東紫外光刻膠國產(chǎn)廠家

山東紫外光刻膠國產(chǎn)廠家,光刻膠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,主要涵蓋厚板,、負(fù)性、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,,以滿足不同領(lǐng)域的需求。

厚板光刻膠:JT-3001 型號,,具有優(yōu)異的分辨率和感光度,,抗深蝕刻性能良好,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),,保質(zhì)期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,如特定電路板制造,。

負(fù)性光刻膠

  • SU-3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,,對比度良好,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),,重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。
  • 負(fù)性光刻膠 JT-1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,具有優(yōu)異的分辨率,、良好的對比度和高曝光靈敏度,,光源適應(yīng)。主要應(yīng)用于對光刻精度要求高的領(lǐng)域,,如半導(dǎo)體器件制造,。
  • 耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT-NF100:重量 1L,,具備耐腐蝕特性。適用于有腐蝕風(fēng)險的光刻工藝,,如特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造,。


湖北光刻膠國產(chǎn)廠商嚴(yán)苛光刻膠標(biāo)準(zhǔn)品質(zhì),吉田半導(dǎo)體綠色制造創(chuàng)新趨勢,。

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技術(shù)優(yōu)勢:23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破

 全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實現(xiàn)了從樹脂合成,、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如,,其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系,,實現(xiàn)了3μm的分辨率,適用于MEMS傳感器,、光學(xué)器件等領(lǐng)域,。
技術(shù)壁壘:公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗,掌握光刻膠主要原材料(如樹脂,、光酸)的合成技術(shù),,部分原材料純度達(dá)PPT級。

 細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn)

? 納米壓印光刻膠:在納米級圖案化領(lǐng)域(如量子點顯示,、生物芯片)實現(xiàn)技術(shù)突破,,分辨率達(dá)3μm,填補國內(nèi)空缺,。

? LCD光刻膠:針對顯示面板行業(yè)需求,,開發(fā)出高感光度、高對比度的光刻膠,,適配AMOLED,、Micro LED等新型顯示技術(shù)。

 研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證,,與新材料領(lǐng)域同伴們合作開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠,,計劃2025年啟動半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā)。

國際標(biāo)準(zhǔn)與客戶認(rèn)證
公司通過ISO9001,、ISO14001等認(rèn)證,,并嚴(yán)格執(zhí)行8S現(xiàn)場管理,生產(chǎn)環(huán)境潔凈度達(dá)Class 10級,。其光刻膠產(chǎn)品已通過京東方,、TCL華星的供應(yīng)商認(rèn)證,在顯示面板領(lǐng)域的市占率約5%,,成為本土企業(yè)中少數(shù)能與日本JSR,、德國默克競爭的廠商。

全流程可追溯體系
吉田半導(dǎo)體建立了從原材料入庫到成品出庫的全流程追溯系統(tǒng),,關(guān)鍵批次數(shù)據(jù)(如樹脂分子量分布,、光敏劑純度)實時上傳云端,,確保產(chǎn)品一致性和可追溯性。這一體系使其在車規(guī)級芯片等對可靠性要求極高的領(lǐng)域獲得突破,,2023年車用光刻膠銷售額同比增長120%,。
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 綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟(jì)
公司采用水性光刻膠技術(shù),,溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%,,符合歐盟REACH法規(guī)和國內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。同時,,其光刻膠廢液回收項目已投產(chǎn),,通過膜分離+精餾技術(shù)實現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用,年減排VOCs(揮發(fā)性有機物)超100噸,。

 低碳供應(yīng)鏈管理
吉田半導(dǎo)體與上游供應(yīng)商合作開發(fā)生物基樹脂,,部分產(chǎn)品采用可再生原料(如植物基丙烯酸酯),碳排放強度較傳統(tǒng)工藝降低30%,。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領(lǐng)域獲得客戶青睞,,相關(guān)訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%。
半導(dǎo)體芯片制造,,用于精細(xì)電路圖案光刻,決定芯片性能與集成度,。山東光刻膠

松山湖光刻膠廠家吉田,,23 年經(jīng)驗 + 全自動化產(chǎn)線,支持納米壓印光刻膠定制,!山東紫外光刻膠國產(chǎn)廠家

主要應(yīng)用場景

 印刷電路板(PCB):

? 通孔/線路加工:負(fù)性膠厚度可達(dá)20-50μm,,耐堿性蝕刻液(如氯化鐵、堿性氯化銅),,適合制作大尺寸線路(線寬/線距≥50μm),,如雙面板、多層板的外層電路,。

? 阻焊層:作為絕緣保護(hù)層,,覆蓋非焊盤區(qū)域,需厚膠(50-100μm)和高耐焊接溫度(260℃以上),,負(fù)性膠因工藝簡單,、成本低而廣泛應(yīng)用。

 微機電系統(tǒng)(MEMS):

? 深硅蝕刻(DRIE):負(fù)性膠作為蝕刻掩膜,,厚度可達(dá)100μm以上,,耐SF?等強腐蝕性氣體,用于制作加速度計,、陀螺儀的高深寬比結(jié)構(gòu)(深寬比>20:1),。

? 模具制造:在硅或玻璃基板上制作微流控芯片的通道模具,,利用負(fù)性膠的厚膠成型能力。

 平板顯示(LCD):

? 彩色濾光片(CF)基板預(yù)處理:在玻璃基板上制作絕緣層或緩沖層,,耐濕法蝕刻(如HF溶液),,確保后續(xù)RGB色阻層的精確涂布。

 功率半導(dǎo)體與分立器件:

? IGBT,、MOSFET的隔離區(qū)蝕刻:負(fù)性膠用于制作較寬的隔離溝槽(寬度>10μm),,耐高濃度酸堿蝕刻,降低工藝成本,。
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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才,,集企業(yè)奇思,創(chuàng)經(jīng)濟(jì)奇跡,,一群有夢想有朝氣的團(tuán)隊不斷在前進(jìn)的道路上開創(chuàng)新天地,,繪畫新藍(lán)圖,在廣東省等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的信譽,,信奉著“爭取每一個客戶不容易,,失去每一個用戶很簡單”的理念,市場是企業(yè)的方向,,質(zhì)量是企業(yè)的生命,,在公司有效方針的領(lǐng)導(dǎo)下,全體上下,,團(tuán)結(jié)一致,,共同進(jìn)退,**協(xié)力把各方面工作做得更好,,努力開創(chuàng)工作的新局面,,公司的新高度,未來吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起奔向更美好的未來,,即使現(xiàn)在有一點小小的成績,,也不足以驕傲,過去的種種都已成為昨日我們只有總結(jié)經(jīng)驗,,才能繼續(xù)上路,,讓我們一起點燃新的希望,放飛新的夢想,!

標(biāo)簽: 光刻膠 錫片