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山東紫外光刻膠國產(chǎn)廠家

來源： 發(fā)布時間：2025-04-18

LCD 正性光刻膠（YK-200）應(yīng)用場景：LCD 面板的電極圖案化（如 TFT-LCD 的柵極,、源漏極）,、彩色濾光片制造,。特點：高感光度與均勻涂布性，確保顯示面板的高對比度和色彩還原度,。
厚膜光刻膠（JT-3001）應(yīng)用場景：Mini LED/Micro LED 顯示基板的巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)，以及 OLED 面板的封裝工藝,。特點：膜厚可控（可達(dá)數(shù)十微米）,，滿足高密度像素陣列的精細(xì)加工需求。
PCB 光刻膠（如 SU-3 負(fù)性光刻膠）應(yīng)用場景：高多層 PCB,、HDI（高密度互連）板的線路成像,，以及 IC 載板的精細(xì)線路制作。特點：抗電鍍性能優(yōu)異,，支持細(xì)至 50μm 以下的線寬 / 線距,，適應(yīng) 5G 通信、服務(wù)器等 PCB 需求,。 正性光刻膠生產(chǎn)廠家。山東紫外光刻膠國產(chǎn)廠家

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板,、負(fù)性、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領(lǐng)域的需求。

厚板光刻膠：JT-3001 型號,，具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),，保質(zhì)期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造,。

負(fù)性光刻膠

  • SU-3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異,，對比度良好，曝光靈敏度高,，光源適應(yīng),，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。
  • 負(fù)性光刻膠 JT-1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格，具有優(yōu)異的分辨率,、良好的對比度和高曝光靈敏度,，光源適應(yīng)。主要應(yīng)用于對光刻精度要求高的領(lǐng)域,，如半導(dǎo)體器件制造,。
  • 耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT-NF100：重量 1L,，具備耐腐蝕特性。適用于有腐蝕風(fēng)險的光刻工藝,，如特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造,。


湖北光刻膠國產(chǎn)廠商嚴(yán)苛光刻膠標(biāo)準(zhǔn)品質(zhì)，吉田半導(dǎo)體綠色制造創(chuàng)新趨勢,。

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技術(shù)優(yōu)勢：23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破

 全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實現(xiàn)了從樹脂合成,、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如,，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系,，實現(xiàn)了3μm的分辨率，適用于MEMS傳感器,、光學(xué)器件等領(lǐng)域,。
技術(shù)壁壘：公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗，掌握光刻膠主要原材料（如樹脂,、光酸）的合成技術(shù),，部分原材料純度達(dá)PPT級。

 細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn)

? 納米壓印光刻膠：在納米級圖案化領(lǐng)域（如量子點顯示,、生物芯片）實現(xiàn)技術(shù)突破,，分辨率達(dá)3μm，填補國內(nèi)空缺,。

? LCD光刻膠：針對顯示面板行業(yè)需求,，開發(fā)出高感光度、高對比度的光刻膠,，適配AMOLED,、Micro LED等新型顯示技術(shù)。

 研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證,，與新材料領(lǐng)域同伴們合作開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠,，計劃2025年啟動半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā)。

國際標(biāo)準(zhǔn)與客戶認(rèn)證
公司通過ISO9001,、ISO14001等認(rèn)證,，并嚴(yán)格執(zhí)行8S現(xiàn)場管理，生產(chǎn)環(huán)境潔凈度達(dá)Class 10級,。其光刻膠產(chǎn)品已通過京東方,、TCL華星的供應(yīng)商認(rèn)證，在顯示面板領(lǐng)域的市占率約5%,，成為本土企業(yè)中少數(shù)能與日本JSR,、德國默克競爭的廠商。

全流程可追溯體系
吉田半導(dǎo)體建立了從原材料入庫到成品出庫的全流程追溯系統(tǒng),，關(guān)鍵批次數(shù)據(jù)（如樹脂分子量分布,、光敏劑純度）實時上傳云端,，確保產(chǎn)品一致性和可追溯性。這一體系使其在車規(guī)級芯片等對可靠性要求極高的領(lǐng)域獲得突破,，2023年車用光刻膠銷售額同比增長120%,。
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 綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟(jì)
公司采用水性光刻膠技術(shù),，溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%,，符合歐盟REACH法規(guī)和國內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。同時,，其光刻膠廢液回收項目已投產(chǎn),，通過膜分離+精餾技術(shù)實現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用，年減排VOCs（揮發(fā)性有機物）超100噸,。

 低碳供應(yīng)鏈管理
吉田半導(dǎo)體與上游供應(yīng)商合作開發(fā)生物基樹脂,，部分產(chǎn)品采用可再生原料（如植物基丙烯酸酯），碳排放強度較傳統(tǒng)工藝降低30%,。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領(lǐng)域獲得客戶青睞,，相關(guān)訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%。
半導(dǎo)體芯片制造,，用于精細(xì)電路圖案光刻，決定芯片性能與集成度,。山東光刻膠

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主要應(yīng)用場景

 印刷電路板（PCB）：

? 通孔/線路加工：負(fù)性膠厚度可達(dá)20-50μm,，耐堿性蝕刻液（如氯化鐵、堿性氯化銅）,，適合制作大尺寸線路（線寬/線距≥50μm）,，如雙面板、多層板的外層電路,。

? 阻焊層：作為絕緣保護(hù)層,，覆蓋非焊盤區(qū)域，需厚膠（50-100μm）和高耐焊接溫度（260℃以上）,，負(fù)性膠因工藝簡單,、成本低而廣泛應(yīng)用。

 微機電系統(tǒng)（MEMS）：

? 深硅蝕刻（DRIE）：負(fù)性膠作為蝕刻掩膜,，厚度可達(dá)100μm以上,，耐SF?等強腐蝕性氣體，用于制作加速度計,、陀螺儀的高深寬比結(jié)構(gòu)（深寬比＞20:1）,。

? 模具制造：在硅或玻璃基板上制作微流控芯片的通道模具,，利用負(fù)性膠的厚膠成型能力。

 平板顯示（LCD）：

? 彩色濾光片（CF）基板預(yù)處理：在玻璃基板上制作絕緣層或緩沖層,，耐濕法蝕刻（如HF溶液）,，確保后續(xù)RGB色阻層的精確涂布。

 功率半導(dǎo)體與分立器件：

? IGBT,、MOSFET的隔離區(qū)蝕刻：負(fù)性膠用于制作較寬的隔離溝槽（寬度＞10μm）,，耐高濃度酸堿蝕刻，降低工藝成本,。
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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才,，集企業(yè)奇思，創(chuàng)經(jīng)濟(jì)奇跡,，一群有夢想有朝氣的團(tuán)隊不斷在前進(jìn)的道路上開創(chuàng)新天地,，繪畫新藍(lán)圖，在廣東省等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的信譽,，信奉著“爭取每一個客戶不容易,，失去每一個用戶很簡單”的理念，市場是企業(yè)的方向,，質(zhì)量是企業(yè)的生命,，在公司有效方針的領(lǐng)導(dǎo)下，全體上下,，團(tuán)結(jié)一致,，共同進(jìn)退，**協(xié)力把各方面工作做得更好,，努力開創(chuàng)工作的新局面,，公司的新高度，未來吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起奔向更美好的未來,，即使現(xiàn)在有一點小小的成績,，也不足以驕傲，過去的種種都已成為昨日我們只有總結(jié)經(jīng)驗,，才能繼續(xù)上路,，讓我們一起點燃新的希望，放飛新的夢想,！

標(biāo)簽： 光刻膠 錫片