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深圳紫外光刻膠生產(chǎn)廠家

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-04-24

 吉田半導(dǎo)體納米壓印光刻膠 JT-2000:國(guó)產(chǎn)技術(shù)突破耐高溫極限

自主研發(fā) JT-2000 納米壓印光刻膠耐受 250℃高溫,,為國(guó)產(chǎn)納米器件制造提供關(guān)鍵材料,。吉田半導(dǎo)體 JT-2000 納米壓印光刻膠采用國(guó)產(chǎn)交聯(lián)樹(shù)脂,在 250℃高溫下仍保持圖形保真度 > 95%,。產(chǎn)品采用國(guó)產(chǎn)原材料與全自動(dòng)化工藝,,其高粘接強(qiáng)度與耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿特性,適用于光學(xué)元件,、傳感器等精密器件,。產(chǎn)品已通過(guò)國(guó)內(nèi)科研機(jī)構(gòu)驗(yàn)證,,應(yīng)用于國(guó)產(chǎn) EUV 光刻機(jī)前道工藝,幫助客戶(hù)實(shí)現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)加工自主化,。
LCD 光刻膠供應(yīng)商哪家好,?吉田半導(dǎo)體高分辨率 + 低 VOC 配方!深圳紫外光刻膠生產(chǎn)廠家

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依托自主研發(fā)與國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈,,吉田半導(dǎo)體 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,,躋身國(guó)內(nèi)前段企業(yè)。吉田半導(dǎo)體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國(guó)產(chǎn)樹(shù)脂與單體,,實(shí)現(xiàn) 100% 國(guó)產(chǎn)化替代,。其分辨率 0.35μm,附著力 > 3N/cm,,性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列,。通過(guò)與國(guó)內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作,產(chǎn)品覆蓋智能手機(jī),、電視等顯示終端,,年供貨量超 200 噸。公司建立國(guó)產(chǎn)原材料溯源體系,,確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性,,推動(dòng) LCD 面板材料國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。

江西UV納米光刻膠供應(yīng)商耐高溫光刻膠 JT-2000,,250℃環(huán)境穩(wěn)定運(yùn)行,圖形保真度超 95%,,用于納米結(jié)構(gòu)制造,!

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  1. 產(chǎn)品特點(diǎn):耐溶劑型優(yōu)良,抗潮耐水性好,,耐印率高,;固含量高,流平性好,,涂布性能優(yōu)良,;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,網(wǎng)版平滑,、無(wú)白點(diǎn),、無(wú)沙眼、亮度高,;剝膜性好,,網(wǎng)版可再生使用;解像性,、高架橋性好,,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條,;感光度高,曝光時(shí)間短,,曝光寬容度大,,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間,提高工作效率 ,。
  2. 應(yīng)用范圍:適用于塑料,、皮革、標(biāo)牌,、印刷電路板(PCB),、廣告宣傳、玻璃,、陶瓷,、紡織品等產(chǎn)品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案,,滿(mǎn)足皮革制品精細(xì)印刷需求,,制作各類(lèi)標(biāo)牌保證圖案清晰,用于 PCB 制造滿(mǎn)足高精度要求等,。

國(guó)家大基金三期:注冊(cè)資本3440億元,,明確將光刻膠列為重點(diǎn)投資領(lǐng)域,計(jì)劃投入超500億元支持樹(shù)脂,、光引發(fā)劑等原料研發(fā),,相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍。

地方專(zhuān)項(xiàng)政策:湖北省對(duì)通過(guò)驗(yàn)證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購(gòu)補(bǔ)貼+稅收減免,,武漢太紫微憑借全流程國(guó)產(chǎn)化技術(shù)獲中芯國(guó)際百萬(wàn)級(jí)訂單,;福建省提出2030年化工新材料自給率達(dá)90%,光刻膠是重點(diǎn)突破方向,。

研發(fā)專(zhuān)項(xiàng):科技部“雙十計(jì)劃”設(shè)立20億元經(jīng)費(fèi),,要求2025年KrF/ArF光刻膠國(guó)產(chǎn)化率突破10%,并啟動(dòng)EUV光刻膠預(yù)研,。
光刻膠的技術(shù)挑戰(zhàn)現(xiàn)在就是需要突破難關(guān),!

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光刻膠的工作原理:

1. 涂覆與曝光:在基底(如硅片、玻璃,、聚合物)表面均勻涂覆光刻膠,,通過(guò)掩膜(或直接電子束掃描)對(duì)特定區(qū)域曝光。

2. 化學(xué)變化:曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)(正性膠曝光后溶解,,負(fù)性膠曝光后交聯(lián)不溶),。

3. 顯影與刻蝕:溶解未反應(yīng)的部分,留下圖案化的膠層,作為后續(xù)刻蝕或沉積的掩模,,將圖案轉(zhuǎn)移到基底上,。

在納米技術(shù)中,關(guān)鍵挑戰(zhàn)是突破光的衍射極限(λ/2),,因此需依賴(lài)高能束曝光技術(shù)(如電子束光刻,、極紫外EUV光刻)和高性能光刻膠(高分辨率、低缺陷),。

PCB廠商必看,!這款G-line光刻膠讓生產(chǎn)成本直降30%。廈門(mén)納米壓印光刻膠報(bào)價(jià)

納米級(jí)圖案化的主要工具,。深圳紫外光刻膠生產(chǎn)廠家

吉田半導(dǎo)體 YK-300 正性光刻膠:半導(dǎo)體芯片制造的材料

YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性,,成為 45nm 及以上制程的理想選擇。
YK-300 正性光刻膠分辨率達(dá) 0.35μm,,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,,適用于半導(dǎo)體芯片前道工藝。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出,,在顯影與蝕刻過(guò)程中保持圖形穩(wěn)定性,。產(chǎn)品已通過(guò)中芯國(guó)際量產(chǎn)驗(yàn)證,良率達(dá) 98% 以上,,生產(chǎn)過(guò)程執(zhí)行 ISO9001 標(biāo)準(zhǔn),,幫助客戶(hù)降低封裝成本 20% 以上。支持小批量試產(chǎn)與定制化需求,,為國(guó)產(chǎn)芯片制造提供穩(wěn)定材料支撐,。
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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司是一家有著雄厚實(shí)力背景、信譽(yù)可靠,、勵(lì)精圖治,、展望未來(lái)、有夢(mèng)想有目標(biāo),,有組織有體系的公司,堅(jiān)持于帶領(lǐng)員工在未來(lái)的道路上大放光明,,攜手共畫(huà)藍(lán)圖,,在廣東省等地區(qū)的電工電氣行業(yè)中積累了大批忠誠(chéng)的客戶(hù)粉絲源,也收獲了良好的用戶(hù)口碑,,為公司的發(fā)展奠定的良好的行業(yè)基礎(chǔ),,也希望未來(lái)公司能成為*****,努力為行業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展奉獻(xiàn)出自己的一份力量,,我們相信精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念以及自強(qiáng)不息,,斗志昂揚(yáng)的的企業(yè)精神將**吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起攜手步入輝煌,共創(chuàng)佳績(jī),一直以來(lái),,公司貫徹執(zhí)行科學(xué)管理,、創(chuàng)新發(fā)展、誠(chéng)實(shí)守信的方針,,員工精誠(chéng)努力,,協(xié)同奮取,以品質(zhì),、服務(wù)來(lái)贏得市場(chǎng),,我們一直在路上!

標(biāo)簽: 光刻膠