作為東莞松山湖的企業(yè)，吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年,，成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠,。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,，線寬粗糙度（LWR）≤3nm,，良率達(dá) 98% 以上,，已通過(guò)中芯國(guó)際等晶圓廠驗(yàn)證,；JT-2000 突破耐高溫極限,，在 250℃復(fù)雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性，適用于 EUV 光刻前道工藝,。依托進(jìn)口原材料與全自動(dòng)化生產(chǎn)工藝,，產(chǎn)品通過(guò) ISO9001 認(rèn)證及歐盟 RoHS 標(biāo)準(zhǔn)，遠(yuǎn)銷全球并與跨國(guó)企業(yè)建立長(zhǎng)期合作,，加速國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程,。吉田公司以無(wú)鹵無(wú)鉛配方與低 VOC 工藝打造環(huán)保光刻膠。湖南水性光刻膠報(bào)價(jià)

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板,、負(fù)性,、正性、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領(lǐng)域的需求,。

UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號(hào)，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,，耐高溫達(dá) 250°C,，長(zhǎng)期可靠性高，粘接強(qiáng)度高,，重量 100g,。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝，如半導(dǎo)體器件制造,。

其他光刻膠

• 水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠,，具有工廠研發(fā)、可定制,、使用,、品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),，重量 1L,。
• 水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠，重量 5L,，具備上述通用優(yōu)勢(shì),，應(yīng)用場(chǎng)景。

以 15% 年研發(fā)投入為驅(qū)動(dòng),，吉田半導(dǎo)體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發(fā),，搶占行業(yè)制高點(diǎn)。布局下一代光刻技術(shù),。
面對(duì)極紫外光刻技術(shù)挑戰(zhàn),，吉田半導(dǎo)體與中科院合作開(kāi)發(fā)化學(xué)放大型 EUV 光刻膠，在感光效率（<10mJ/cm2）和耐蝕性（>80%）指標(biāo)上取得階段性進(jìn)展,。同時(shí),，公司前瞻性布局木基光刻膠研發(fā)，對(duì)標(biāo)日本王子控股技術(shù),，探索生物基材料在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用,。這些技術(shù)儲(chǔ)備為 7nm 及以下制程提供支撐，助力中國(guó)在下一代光刻技術(shù)中占據(jù)重要地位,。半導(dǎo)體芯片制造,，用于精細(xì)電路圖案光刻,，決定芯片性能與集成度。

光刻膠的顯示面板領(lǐng)域,。湖南水性光刻膠報(bào)價(jià)