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甘肅紫外光刻膠工廠

來源： 發(fā)布時(shí)間：2025-05-19

公司嚴(yán)格執(zhí)行 ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系與 8S 現(xiàn)場管理標(biāo)準(zhǔn)，通過工藝革新與設(shè)備升級實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)過程的低污染、低能耗,。注塑廢氣,、噴涂廢氣經(jīng)多級凈化處理后達(dá)標(biāo)排放，生活污水經(jīng)預(yù)處理后納入市政管網(wǎng),，冷卻水循環(huán)利用率達(dá) 100%,。危險(xiǎn)廢物（如廢機(jī)油、含油抹布）均委托專業(yè)機(jī)構(gòu)安全處置,，一般工業(yè)固廢（如邊角料,、廢包裝材料）則通過回收或再生利用實(shí)現(xiàn)資源循環(huán)。

公司持續(xù)研發(fā)環(huán)保型材料,，例如開發(fā)水性感光膠替代傳統(tǒng)油性產(chǎn)品,，降低有機(jī)溶劑使用量；優(yōu)化錫膏助焊劑配方,，減少焊接過程中的煙霧與異味,。此外，其 BGA 助焊膏采用低溫固化技術(shù),，在提升焊接效率的同時(shí)降低能源消耗。通過與科研機(jī)構(gòu)合作,，公司還在探索生物基材料在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用,，為行業(yè)低碳發(fā)展提供新路徑。
松山湖光刻膠廠家吉田,，2000 萬級產(chǎn)能,，48 小時(shí)極速交付！甘肅紫外光刻膠工廠

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板,、負(fù)性、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領(lǐng)域的需求。

厚板光刻膠：JT-3001 型號,，具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),，保質(zhì)期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造,。

負(fù)性光刻膠

  • SU-3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異,，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng),，重量 100g,。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。


正性光刻膠 重慶納米壓印光刻膠品牌負(fù)性光刻膠生產(chǎn)廠家,。

  • LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光、高分辨率,、良好涂布和附著力,，重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,，確保 LCD 生產(chǎn)中圖形精確轉(zhuǎn)移和良好涂布效果,。
  • 半導(dǎo)體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,，滿足半導(dǎo)體器件對光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。
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市場與客戶優(yōu)勢：全球化布局與頭部客戶合作

 全球客戶網(wǎng)絡(luò)
產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球，與三星,、LG,、京東方等世界500強(qiáng)企業(yè)建立長期合作，在東南亞,、北美市場市占率超15%,。

 區(qū)域市場深耕
依托東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群，與華為,、OPPO等本土企業(yè)合作,，在消費(fèi)電子、汽車電子領(lǐng)域快速響應(yīng)客戶需求,。

產(chǎn)業(yè)鏈配套優(yōu)勢：原材料與設(shè)備協(xié)同

 主要原材料自主化
公司自主生產(chǎn)光刻膠樹脂,、光引發(fā)劑，降低對進(jìn)口依賴,，成本較國際競品低20%,。

 設(shè)備與工藝協(xié)同
與國內(nèi)涂膠顯影設(shè)備廠商合作，開發(fā)適配國產(chǎn)設(shè)備的光刻膠配方,，提升工藝兼容性,。

作為東莞松山湖的企業(yè)，吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年,，成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠,。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，良率達(dá) 98% 以上,，已通過中芯國際等晶圓廠驗(yàn)證,；JT-2000 突破耐高溫極限，在 250℃復(fù)雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性,，適用于 EUV 光刻前道工藝,。依托進(jìn)口原材料與全自動化生產(chǎn)工藝，產(chǎn)品通過 ISO9001 認(rèn)證及歐盟 RoHS 標(biāo)準(zhǔn),，遠(yuǎn)銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作,，加速國產(chǎn)替代進(jìn)程。半導(dǎo)體材料選吉田,，歐盟認(rèn)證,，支持定制化解決方案！

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  1. 正性光刻膠（如 YK-300）
    應(yīng)用場景：用于芯片的精細(xì)圖案化,，如集成電路（IC）,、分立器件（二極管、三極管）的制造,。
    特點(diǎn)：高分辨率（可達(dá)亞微米級）,，適用于多層光刻工藝，確保芯片電路的高精度與可靠性,。
  2. 負(fù)性光刻膠（如 JT-1000）
    應(yīng)用場景：用于功率半導(dǎo)體（如 MOSFET,、IGBT）的制造，以及傳感器（如 MEMS）的微結(jié)構(gòu)成型,。
    特點(diǎn)：抗蝕刻能力強(qiáng)，適合復(fù)雜圖形的轉(zhuǎn)移,，尤其在深寬比要求較高的工藝中表現(xiàn)優(yōu)異,。
  3. 納米壓印光刻膠（JT-2000）
    應(yīng)用場景：第三代半導(dǎo)體（GaN、SiC）芯片,、量子點(diǎn)器件及微流控芯片的制造,。特點(diǎn)：耐高溫（250℃）、耐酸堿,，支持納米級精度圖案復(fù)制,，降低芯片的制造成本。
PCB光刻膠國產(chǎn)化率超50%,?；葜?微米光刻膠國產(chǎn)廠商

吉田半導(dǎo)體強(qiáng)化研發(fā)，布局下一代光刻技術(shù),。甘肅紫外光刻膠工廠

 上游原材料：

? 樹脂：彤程新材,、鼎龍股份實(shí)現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成,，金屬雜質(zhì)含量<5ppb（國際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb）。

? 光引發(fā)劑：久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑,，累計(jì)形成噸級訂單,；威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產(chǎn)線。

? 溶劑：怡達(dá)股份電子級PM溶劑全球市占率超40%,，與南大光電合作開發(fā)配套溶劑,，技術(shù)指標(biāo)達(dá)SEMI G5標(biāo)準(zhǔn)。

設(shè)備與驗(yàn)證：

? 上海新陽與上海微電子聯(lián)合開發(fā)光刻機(jī)適配參數(shù),，驗(yàn)證周期較國際廠商縮短6個(gè)月,；徐州博康實(shí)現(xiàn)“單體-樹脂-成品膠”全鏈條國產(chǎn)化，適配ASML Twinscan NXT系列光刻機(jī),。

? 國內(nèi)企業(yè)通過18-24個(gè)月的晶圓廠驗(yàn)證周期（如中芯國際,、長江存儲），一旦導(dǎo)入不易被替代,。
甘肅紫外光刻膠工廠

標(biāo)簽： 錫片 光刻膠