廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板,、負性,、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領域的需求。

厚板光刻膠：JT-3001 型號,，具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好,，符合歐盟 ROHS 標準,，保質(zhì)期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,，如特定電路板制造,。

負性光刻膠

• SU-3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異,，對比度良好,，曝光靈敏度高,，光源適應,，重量 100g,。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域,。

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• LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力，重量 100g,。適用于液晶顯示領域的光刻工藝,，確保 LCD 生產(chǎn)中圖形精確轉移和良好涂布效果,。
• 半導體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g。主要用于半導體制造工藝,，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板,、負性,、正性、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領域的需求,。

厚板光刻膠：JT-3001 型號，具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好,，符合歐盟 ROHS 標準，保質(zhì)期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,，如特定電路板制造。

負性光刻膠

• SU-3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異,，對比度良好,，曝光靈敏度高，光源適應,，重量 100g,。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域,。
• 負性光刻膠 JT-1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,，具有優(yōu)異的分辨率,、良好的對比度和高曝光靈敏度,，光源適應,。主要應用于對光刻精度要求高的領域，如半導體器件制造,。
• 耐腐蝕負性光刻膠 JT-NF100：重量 1L,，具備耐腐蝕特性,。適用于有腐蝕風險的光刻工藝,，如特殊環(huán)境下的半導體加工或電路板制造,。

浙江納米壓印光刻膠工廠感光膠的工藝和應用,。

吉田半導體水性感光膠 JT-1200：水油兼容,，鋼片加工精度 ±5μm

聚焦先進封裝需求,，吉田半導體提供從光刻膠到配套材料的一站式服務,，助力高性能芯片制造。
在 5G 芯片與 AI 處理器封裝領域，吉田半導體研發(fā)的 SU-3 負性光刻膠支持 3μm 厚膜加工,，抗深蝕刻速率 > 500nm/min,，為高密度金屬互連提供可靠支撐。其 BGA 助焊膏采用低溫固化技術（180℃）,，焊接空洞率 < 5%,；針筒錫膏適用于 01005 超微型元件，印刷精度達 ±5μm,。通過標準化實驗室與快速響應團隊,，公司為客戶提供工藝優(yōu)化建議，幫助降低生產(chǎn)成本,，增強市場競爭力,。發(fā)展戰(zhàn)略與行業(yè)地位。

半導體芯片制造,，用于精細電路圖案光刻，決定芯片性能與集成度,。湖南制版光刻膠價格