應(yīng)用場景
半導(dǎo)體集成電路(IC)制造:
? 邏輯芯片(CPU/GPU):在28nm以下制程中,,正性DUV/EUV膠用于晶體管、互連布線的精細圖案化(如10nm節(jié)點線寬只有100nm),。
? 存儲芯片(DRAM/NAND):3D堆疊結(jié)構(gòu)中,,正性膠用于層間接觸孔(Contact)和柵極(Gate)的高深寬比圖形(深寬比>10:1),。
平板顯示(LCD/OLED):
? 彩色濾光片(CF):制作黑矩陣(BM)和彩色層(R/G/B),,要求高透光率和邊緣銳利度(線寬5-10μm),。
? OLED電極:在柔性基板上形成微米級透明電極,,需低應(yīng)力膠膜防止基板彎曲變形,。
印刷電路板(PCB):
? 高密度互連(HDI):用于細線路(線寬/線距≤50μm),,如智能手機主板,相比負性膠,正性膠可實現(xiàn)更精細的線路邊緣,。
微納加工與科研:
? MEMS傳感器:制作微米級懸臂梁,、齒輪等結(jié)構(gòu),需耐干法蝕刻的正性膠(如含硅樹脂膠),。
? 納米光刻:電子束光刻膠(正性為主)用于研發(fā)級納米圖案(分辨率<10nm),。
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產(chǎn)品優(yōu)勢:多元化布局與專業(yè)化延伸
全品類覆蓋
吉田產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠,、半導(dǎo)體錫膏等,,形成“光刻膠+配套材料”的完整產(chǎn)品線。例如:
? 芯片光刻膠:覆蓋i線,、g線光刻膠,,適用于6英寸、8英寸晶圓制造,。
? 納米壓印光刻膠:用于MEMS,、光學(xué)器件等領(lǐng)域,替代傳統(tǒng)光刻工藝,。
專業(yè)化延伸
公司布局半導(dǎo)體用KrF光刻膠,,計劃2025年啟動研發(fā),目標進入中芯國際,、長江存儲等晶圓廠供應(yīng)鏈。
質(zhì)量與生產(chǎn)優(yōu)勢:嚴格品控與自動化生產(chǎn)
ISO認證與全流程管控
公司通過ISO9001:2008質(zhì)量體系認證,,生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行8S管理,,原材料采用美、德,、日進口高質(zhì)量材料,,確保產(chǎn)品批次穩(wěn)定性。
質(zhì)量指標:光刻膠金屬離子含量低于0.1ppb,,良率超99%,。
自動化生產(chǎn)能力
擁有行業(yè)前列的全自動化生產(chǎn)線,年產(chǎn)能達2000噸(光刻膠及配套材料),,支持大規(guī)模訂單交付,。
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產(chǎn)品特點:耐溶劑型優(yōu)良,,抗潮耐水性好,耐印率高;固含量高,,流平性好,,涂布性能優(yōu)良;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,,網(wǎng)版平滑,、無白點、無沙眼,、亮度高,;剝膜性好,網(wǎng)版可再生使用,;解像性,、高架橋性好,易做精細網(wǎng)點和線條,;感光度高,,曝光時間短,曝光寬容度大,,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時間,,提高工作效率 。
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應(yīng)用范圍:適用于塑料,、皮革,、標牌、印刷電路板(PCB),、廣告宣傳,、玻璃、陶瓷,、紡織品等產(chǎn)品的印刷,。例如在塑料表面形成牢固圖案,滿足皮革制品精細印刷需求,,制作各類標牌保證圖案清晰,,用于 PCB 制造滿足高精度要求等。
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,各有特性與優(yōu)勢,,適用于不同領(lǐng)域。
LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力的特點,重量 100g,。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,,能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果,。
半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300:具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,,重量 100g。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,,滿足半導(dǎo)體器件對光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。
耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100:重量 1L,具有耐腐蝕的特性,,適用于在有腐蝕風險的光刻工藝中,,比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。
光刻膠技術(shù)突破加速,,對芯片制造行業(yè)有哪些影響,?
國家大基金三期:注冊資本3440億元,明確將光刻膠列為重點投資領(lǐng)域,,計劃投入超500億元支持樹脂,、光引發(fā)劑等原料研發(fā),相當于前兩期投入總和的3倍,。
地方專項政策:湖北省對通過驗證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購補貼+稅收減免,,武漢太紫微憑借全流程國產(chǎn)化技術(shù)獲中芯國際百萬級訂單;福建省提出2030年化工新材料自給率達90%,,光刻膠是重點突破方向,。
研發(fā)專項:科技部“雙十計劃”設(shè)立20億元經(jīng)費,要求2025年KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率突破10%,,并啟動EUV光刻膠預(yù)研,。
吉田半導(dǎo)體公司基本概況。深圳PCB光刻膠耗材
吉田半導(dǎo)體:以技術(shù)革新驅(qū)動光刻膠產(chǎn)業(yè)升級,。山西正性光刻膠工廠
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,主要涵蓋厚板、負性,、正性、納米壓印及光刻膠等類別,,以滿足不同領(lǐng)域的需求。
UV 納米壓印光刻膠:JT-2000 型號,,耐強酸強堿,,耐高溫達 250°C,長期可靠性高,,粘接強度高,,重量 100g。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進行納米壓印光刻的工藝,如半導(dǎo)體器件制造,。
其他光刻膠
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水油光刻膠 JT-2001:屬于水油兩用光刻膠,,具有工廠研發(fā)、可定制,、使用,、品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點,,重量 1L,。
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水油光刻膠 SR-3308:同樣為水油兩用光刻膠,重量 5L,,具備上述通用優(yōu)勢,,應(yīng)用場景。
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