南京油性光刻膠報(bào)價(jià)

來(lái)源：發(fā)布時(shí)間：2025-06-14

在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借 23 年技術(shù)沉淀，已成為國(guó)內(nèi)光刻膠行業(yè)的企業(yè),。公司產(chǎn)品線覆蓋正性,、負(fù)性、厚膜,、納米壓印等多類(lèi)型光刻膠,，廣泛應(yīng)用于芯片制造、LCD 顯示,、PCB 電路板等領(lǐng)域,。

技術(shù)：自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品具備高分辨率（如 JT-3001 厚板光刻膠）、高感光度（如 JT-1000 負(fù)性光刻膠）及抗深蝕刻性能,，部分指標(biāo)達(dá)到水平,。
嚴(yán)苛品控：生產(chǎn)過(guò)程嚴(yán)格遵循 ISO9001 體系,，材料進(jìn)口率 100%,，并通過(guò) 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理確保制程穩(wěn)定性。
定制化服務(wù)：支持客戶需求定制,，例如為特殊工藝開(kāi)發(fā)光刻膠,，滿足多樣化場(chǎng)景需求。

公司位于松山湖開(kāi)發(fā)區(qū),，依托產(chǎn)業(yè)園區(qū)資源,，持續(xù)加大研發(fā)，與科研機(jī)構(gòu)合作推動(dòng)技術(shù)升級(jí),。目前,，吉田半導(dǎo)體已服務(wù)全球數(shù)千家客戶，以 “匠心品質(zhì),、售后無(wú)憂” 的理念贏得市場(chǎng)口碑,。

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? 化學(xué)反應(yīng)：

? 正性膠：曝光后光敏劑（如重氮醌DQN）分解,，生成羧酸,，在堿性顯影液中溶解；

? 負(fù)性膠：曝光后光敏劑引發(fā)交聯(lián)劑與樹(shù)脂形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),。

5. 顯影（Development）

? 顯影液：

? 正性膠：堿性水溶液（如0.26N四甲基氫氧化銨TMAH）,，溶解曝光區(qū)域,；

? 負(fù)性膠：有機(jī)溶劑（如二甲苯、醋酸丁酯）,，溶解未曝光區(qū)域,。

? 方法：噴淋顯影（PCB）或沉浸式顯影（半導(dǎo)體），時(shí)間30秒-2分鐘,，需控制顯影液濃度和溫度,。

6. 后烘（Post-Bake）

? 目的：固化膠膜，提升耐蝕刻性和熱穩(wěn)定性,。

? 條件：

? 溫度：100-150℃（半導(dǎo)體用正性膠可能更高,，如180℃）；

? 時(shí)間：15-60分鐘（厚膠或高耐蝕需求時(shí)延長(zhǎng)）,。

7. 蝕刻/離子注入（后續(xù)工藝）

? 蝕刻：以膠膜為掩膜,，通過(guò)濕法（酸堿溶液）或干法（等離子體）刻蝕基板材料（如硅、金屬,、玻璃）,；

? 離子注入：膠膜保護(hù)未曝光區(qū)域，使雜質(zhì)離子只能注入曝光區(qū)域（半導(dǎo)體摻雜工藝）,。

8. 去膠（Strip）

? 方法：

? 濕法去膠：強(qiáng)氧化劑（如硫酸+雙氧水）或有機(jī)溶劑（如N-甲基吡咯烷酮NMP）,；

? 干法去膠：氧等離子體灰化（半導(dǎo)體領(lǐng)域，無(wú)殘留）,。

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晶圓制造（前道工藝）

? 功能：在硅片表面形成高精度電路圖形,，是光刻工藝的主要材料。

? 細(xì)分場(chǎng)景：

? 邏輯/存儲(chǔ)芯片：用于28nm及以上成熟制程的KrF光刻膠（分辨率0.25-1μm）,、14nm以下先進(jìn)制程的ArF浸沒(méi)式光刻膠（分辨率≤45nm）,，以及極紫外（EUV）光刻膠（目標(biāo)7nm以下，研發(fā)中）,。

? 功率半導(dǎo)體（如IGBT）：使用厚膜光刻膠（膜厚5-50μm）,，滿足深溝槽刻蝕需求。

? MEMS傳感器：通過(guò)高深寬比光刻膠（如SU-8）實(shí)現(xiàn)微米級(jí)結(jié)構(gòu)（如加速度計(jì),、陀螺儀的懸臂梁）,。

芯片封裝（后道工藝）

? 先進(jìn)封裝技術(shù)：

? Flip Chip（倒裝芯片）：用光刻膠形成凸點(diǎn)（Bump）下的 Redistribution Layer（RDL），線寬精度要求≤10μm,。

? 2.5D/3D封裝：在硅通孔（TSV）工藝中,，光刻膠用于定義通孔開(kāi)口（直徑5-50μm）。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū),，是一家專注于半導(dǎo)體材料研發(fā),、生產(chǎn)與銷(xiāo)售的技術(shù)企業(yè)。公司注冊(cè)資本 2000 萬(wàn)元,，擁有 23 年行業(yè)經(jīng)驗(yàn),，產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠,、半導(dǎo)體錫膏,、焊片及靶材等，服務(wù)全球市場(chǎng)并與多家世界 500 強(qiáng)企業(yè)建立長(zhǎng)期合作關(guān)系,。

作為國(guó)家技術(shù)企業(yè),，吉田半導(dǎo)體以科技創(chuàng)新為驅(qū)動(dòng)力，擁有多項(xiàng)技術(shù),，并通過(guò) ISO9001:2008 質(zhì)量體系認(rèn)證,。生產(chǎn)過(guò)程嚴(yán)格遵循 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn)，原材料均采用美,、德,、日等國(guó)進(jìn)口的材料，確保產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定可靠,。公司配備全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備,，具備行業(yè)大型的規(guī)模化生產(chǎn)能力,，致力于成為 “半導(dǎo)體材料方案提供商”,。

其明星產(chǎn)品包括：適用于 LCD 制造的正性光刻膠 YK-200/YK-300，具備高分辨率與優(yōu)異涂布性能,；3 微米負(fù)性光刻膠 SU-3,，適用于厚膜工藝；耐高溫達(dá) 250℃的納米壓印光刻膠 JT-2000,，可滿足高精度微納加工需求,。所有產(chǎn)品均符合要求,，部分型號(hào)通過(guò)歐盟 ROHS 認(rèn)證,。

松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田，全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!

研發(fā)投入的“高門(mén)檻”

一款KrF光刻膠的研發(fā)費(fèi)用約2億元,，而國(guó)際巨頭年研發(fā)投入超10億美元,。國(guó)內(nèi)企業(yè)如彤程新材2024年半導(dǎo)體光刻膠業(yè)務(wù)營(yíng)收只5.4億元，研發(fā)投入占比不足15%,，難以支撐長(zhǎng)期技術(shù)攻關(guān),。

2. 價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)的“雙重?cái)D壓”

國(guó)內(nèi)PCB光刻膠價(jià)格較國(guó)際低30%，但半導(dǎo)體光刻膠因性能差距,，價(jià)格為進(jìn)口產(chǎn)品的70%,，而成本卻高出20%。例如,，國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠售價(jià)約150萬(wàn)元/噸,，而日本同類(lèi)產(chǎn)品為120萬(wàn)元/噸,，且性能更優(yōu)。

突破路徑與未來(lái)展望

原材料國(guó)產(chǎn)化攻堅(jiān)：聚焦樹(shù)脂單體合成,、光酸純化等關(guān)鍵環(huán)節(jié),，推動(dòng)八億時(shí)空、怡達(dá)股份等企業(yè)實(shí)現(xiàn)百噸級(jí)量產(chǎn),。

技術(shù)路線創(chuàng)新：探索金屬氧化物基光刻膠,、電子束光刻膠等新方向，華中科技大學(xué)團(tuán)隊(duì)已實(shí)現(xiàn)5nm線寬原型驗(yàn)證,。

產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新：借鑒“TSMC-供應(yīng)商”模式,，推動(dòng)晶圓廠與光刻膠企業(yè)共建聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室，縮短認(rèn)證周期,。

政策與資本雙輪驅(qū)動(dòng)：依托國(guó)家大基金三期,，對(duì)通過(guò)驗(yàn)證的企業(yè)給予設(shè)備采購(gòu)補(bǔ)貼（30%），并設(shè)立專項(xiàng)基金支持EUV光刻膠研發(fā),。

政策支持：500億加碼產(chǎn)業(yè)鏈,。廣州3微米光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家

吉田公司以無(wú)鹵無(wú)鉛配方與低 VOC 工藝打造環(huán)保光刻膠。南京油性光刻膠報(bào)價(jià)

光刻膠（Photoresist）是一種對(duì)光敏感的高分子材料,，主要用于光刻工藝中,，通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移，是半導(dǎo)體,、集成電路（IC）,、印刷電路板（PCB）、液晶顯示（LCD）等制造領(lǐng)域的材料之一,。

光刻膠特性與組成

? 光敏性：在特定波長(zhǎng)（如紫外光,、極紫外光EUV等）照射下，會(huì)發(fā)生化學(xué)結(jié)構(gòu)變化（如交聯(lián)或分解）,，從而改變?cè)陲@影液中的溶解性,。

? 主要成分：

? 樹(shù)脂（成膜劑）：形成基礎(chǔ)膜層，決定光刻膠的機(jī)械和化學(xué)性能,。

? 光敏劑：吸收光能并引發(fā)化學(xué)反應(yīng)（如光分解,、光交聯(lián)）。

? 溶劑：調(diào)節(jié)粘度,，便于涂覆成膜,。

? 添加劑：改善性能（如感光度、分辨率,、對(duì)比度等）,。

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標(biāo)簽：光刻膠錫膏錫片

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