微納加工大致可以分為“自上而下”和“自下而上”兩類?！白陨隙隆笔菑暮暧^對(duì)象出發(fā),，以光刻工藝為基礎(chǔ)，對(duì)材料或原料進(jìn)行加工,，小結(jié)果尺寸和精度通常由光刻或刻蝕環(huán)節(jié)的分辨力決定,。“自下而上”技術(shù)則是從微觀世界出發(fā),，通過控制原子,、分子和其他納米對(duì)象的相互作用力將各種單元構(gòu)建在一起，形成微納結(jié)構(gòu)與器件,?；诠饪坦に嚨奈⒓{加工技術(shù)主要包含以下過程：掩模（mask）制備、圖形形成及轉(zhuǎn)移（涂膠,、曝光,、顯影）、薄膜沉積,、刻蝕,、外延生長、氧化和摻雜等,。在基片表面涂覆一層某種光敏介質(zhì)的薄膜（抗蝕膠）,，曝光系統(tǒng)把掩模板的圖形投射在（抗蝕膠）薄膜上,，光（光子）的曝光過程是通過光化學(xué)作用使抗蝕膠發(fā)生光化學(xué)作用,，形成微細(xì)圖形的潛像，再通過顯影過程使剩余的抗蝕膠層轉(zhuǎn)變成具有微細(xì)圖形的窗口,，后續(xù)基于抗蝕膠圖案進(jìn)行鍍膜,、刻蝕等可進(jìn)一步制作所需微納結(jié)構(gòu)或器件,。 機(jī)械微加工是微納制造中較方便，也較接近傳統(tǒng)材料加工方式的微成型技術(shù),！淄博鍍膜微納加工

    淺談表面功能微納結(jié)構(gòu)及其加工方法：目前可以實(shí)現(xiàn)表面微納結(jié)構(gòu)的加工方法主要有以下幾種,。（1）光刻技術(shù)，利用電子束或激光光束可以得到加工尺寸在幾十納米的微納結(jié)構(gòu),，該方法優(yōu)勢(shì)在于精度高,，得到的微納結(jié)構(gòu)形狀可以得到很好的控制；（2）飛秒激光加工技術(shù),，由于飛秒激光具有不受衍射極限限制的特點(diǎn),，可以加工出遠(yuǎn)小于光斑直徑的尺寸，研究人員通過試驗(yàn)發(fā)現(xiàn),，采用飛秒激光加工出10nm寬的納米線,，在微納加工領(lǐng)域具有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。另外飛秒激光雙分子聚合技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)納米尺寸結(jié)構(gòu)的加工,；（3）自組裝工藝,，光刻與自組裝和刻蝕工藝結(jié)合，通過自組裝工藝,，可以得到6nm左右的納米孔,。（4）等離子刻蝕技術(shù)，等離子刻蝕技術(shù)是應(yīng)用廣的微納米加工手段,，加工精度高,，是集成電路制造中關(guān)鍵的工藝之一。（5）沉積法,，主要包括物相沉積和化學(xué)氣相沉積,，該方法主要是利用氣相發(fā)生的物理化學(xué)過程，在工件表面形成功能型或裝飾性的金屬,，可以用來實(shí)現(xiàn)微納米結(jié)構(gòu)涂層的制造,。（6）微納增材制造技術(shù)，微納增材制造技術(shù)主要指微納尺度電噴增材制造和微激光增材制造技術(shù),，由于微納增材技術(shù)可以不受形狀限制,，可多材料協(xié)同制造，具有較大的發(fā)展前景,。除以上幾種加工技術(shù)外,。 安徽石墨烯微納加工微納加工技術(shù)的特點(diǎn)多學(xué)科交叉。

微納加工MEMS器件設(shè)計(jì)：根據(jù)客戶需求,，初步確定材料,、工藝、和技術(shù)路線，并出具示意圖,。版圖設(shè)計(jì)：在器件設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)上,，將客戶需求細(xì)化，并轉(zhuǎn)化成版圖設(shè)計(jì),。工藝設(shè)計(jì)：設(shè)計(jì)具體的工藝路線和實(shí)現(xiàn)路徑,，生產(chǎn)工藝流程圖等技術(shù)要求。工藝流片：根據(jù)工藝設(shè)計(jì)和版圖設(shè)計(jì),，小批量試樣驗(yàn)證,。批量生產(chǎn)：在工藝流片的基礎(chǔ)上，進(jìn)行批量驗(yàn)證生產(chǎn),。MEMS微型傳感器及微機(jī)械結(jié)構(gòu)圖：微納加工技術(shù)是先進(jìn)制造的重要組成部分,，是衡量國家高質(zhì)量的制造業(yè)水平的標(biāo)志之一，具有多學(xué)科交叉性和制造要素極端性的特點(diǎn),，在推動(dòng)科技進(jìn)步,、促進(jìn)產(chǎn)業(yè)發(fā)展、拉動(dòng)科技進(jìn)步,、保障**安全等方面都發(fā)揮著關(guān)鍵作用,。微納加工技術(shù)的基本手段包括微納加工方法與材料科學(xué)方法兩種。很顯然,，微納加工技術(shù)與微電子工藝技術(shù)有密切關(guān)系,。

      在過去的二十年中，微機(jī)電系統(tǒng),、微系統(tǒng),、微機(jī)械及其子領(lǐng)域，微流體學(xué)片上實(shí)驗(yàn)室,，光學(xué)MEMS,、RFMEMS、PowerMEMS,、BioMEMS及其擴(kuò)展到納米級(jí)（例如,，用于納米機(jī)電系統(tǒng)的NEMS)已經(jīng)重新使用，調(diào)整或擴(kuò)展了微制造方法,。平板顯示器和太陽能電池也正在使用類似的技術(shù),。各種設(shè)備的小型化在科學(xué)與工程的許多領(lǐng)域提出了挑戰(zhàn)：物理、化學(xué),、材料科學(xué),、計(jì)算機(jī)科學(xué)、超精密工程,、制造工藝和設(shè)備設(shè)計(jì),。它也引起了各種各樣的跨學(xué)科研究,。微納加工的主要概念和原理是微光刻、摻雜,、薄膜,、蝕刻,、粘接和拋光,。微納制造的加工材料多種多樣。

在微電子與光電子集成中,，薄膜的形成方法主要有兩大類,，及沉積和外延生長。沉積技術(shù)分為物理沉積,、化學(xué)沉積和混合方法沉積,。蒸發(fā)沉積（熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)）和濺射沉積是典型的物理方法,；化學(xué)氣相沉積是典型的化學(xué)方法,；等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積是物理與化學(xué)方法相結(jié)合的混合方法。薄膜沉積過程,，通常生成的是非晶膜和多晶膜,，沉積部位和晶態(tài)結(jié)構(gòu)都是隨機(jī)的，而沒有固定的晶態(tài)結(jié)構(gòu),。外延生長實(shí)質(zhì)上是材料科學(xué)的薄膜加工方法,，其含義是：在一個(gè)單晶的襯底上，定向地生長出與基底晶態(tài)結(jié)構(gòu)相同或相似的晶態(tài)薄層,。其他薄膜成膜方法,，如電化學(xué)沉積、脈沖激光沉積法,、溶膠凝膠法,、自組裝法等，也都廣用于微納制作工藝中,。微納加工包括光刻,、磁控濺射、電子束蒸鍍,、濕法腐蝕,、干法腐蝕、表面形貌測(cè)量等,。安徽石墨烯微納加工

微納加工技術(shù)的特點(diǎn)多學(xué)科交叉,。淄博鍍膜微納加工

      在微納加工過程中，薄膜的形成方法主要為物理沉積,、化學(xué)沉積和混合方法沉積,。蒸發(fā)沉積（熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)）和濺射沉積是典型的物理方法，主要用于沉積金屬單質(zhì)薄膜,、合金薄膜,、化合物等。熱蒸發(fā)是在高真空下,，利用電阻加熱至材料的熔化溫度,，使其蒸發(fā)至基底表面形成薄膜，而電子束蒸發(fā)為使用電子束加熱,；磁控濺射在高真空,，在電場(chǎng)的作用下，Ar氣被電離為Ar離子高能量轟擊靶材,，使靶材發(fā)生濺射并沉積于基底,；磁控濺射方法沉積的薄膜純度高、致密性好,，熱蒸發(fā)主要用于沉積低熔點(diǎn)金屬薄膜或者厚膜,；化學(xué)氣相沉積（CVD）是典型的化學(xué)方法而等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）是物理與化學(xué)相結(jié)合的混合方法，CVD和PECVD主要用于生長氮化硅,、氧化硅等介質(zhì)膜,。淄博鍍膜微納加工

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