日本能把持光刻膠這么多年背后的深層次邏輯是什么,？究其原因，主要是技術(shù)和市場(chǎng)兩大壁壘過高導(dǎo)致的。首先,，光刻膠作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)材料,，扮演著極其重要的角色，甚至可以和光刻機(jī)相媲美，但市場(chǎng)規(guī)模卻很小,。2019年的全球光刻膠市場(chǎng)的規(guī)模才90億美元，不及一家大型IC設(shè)計(jì)企業(yè)的年?duì)I收,，行業(yè)成長(zhǎng)空間有限,，自然進(jìn)入的企業(yè)就少。另一方面,，光刻膠又是一個(gè)具有極高技術(shù)壁壘的產(chǎn)業(yè),。由于不同的客戶會(huì)有不同的應(yīng)用需求，同一個(gè)客戶也有不同的光刻應(yīng)用需求,。導(dǎo)致光刻膠的種類極其繁雜,，必須通過調(diào)整光刻膠的配方，滿足差異化應(yīng)用需求,，這也是光刻膠制造商較中心的技術(shù),。非接觸式曝光，掩膜板與光刻膠層的略微分開,，可以避免與光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷,。曝光光刻服務(wù)

在光刻圖案化工藝中，首先將光刻膠涂在硅片上形成一層薄膜,。接著在復(fù)雜的曝光裝置中,，光線通過一個(gè)具有特定圖案的掩模投射到光刻膠上。曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生化學(xué)變化,，在隨后的化學(xué)顯影過程中被去除。較后掩模的圖案就被轉(zhuǎn)移到了光刻膠膜上,。而在隨后的蝕刻 或離子注入工藝中,，會(huì)對(duì)沒有光刻膠保護(hù)的硅片部分進(jìn)行刻蝕，較后洗去剩余光刻膠,。這時(shí)光刻膠的圖案就被轉(zhuǎn)移到下層的薄膜上,，這種薄膜圖案化的過程經(jīng)過多次迭代，聯(lián)同其他多個(gè)物理過程,，便產(chǎn)生集成電路,。激光直寫光刻工藝如今，全世界能夠生產(chǎn)光刻機(jī)的國(guó)家只有四個(gè),，中國(guó)成為了其中的一員,。

當(dāng)光刻膠曝光后，曝光區(qū)域的光致酸劑（PAG）將會(huì)產(chǎn)生一種酸,。這種酸在后熱烘培工序期間作為催化劑,，將會(huì)移除樹脂的保護(hù)基團(tuán)從而使得樹脂變得易于溶解?；瘜W(xué)放大光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍,，對(duì)深紫外光源具有良好的光學(xué)敏感性,，同時(shí)具有高對(duì)比度，對(duì)高分辨率等優(yōu)點(diǎn),。按照曝光波長(zhǎng)分類,；光刻膠可分為紫外光刻膠（300~450nm）、深紫外光刻膠（160~280nm）,、極紫外光刻膠（EUV,，13.5nm）、電子束光刻膠,、離子束光刻膠,、X射線光刻膠等。不同曝光波長(zhǎng)的光刻膠,，其適用的光刻極限分辨率不同,。

光刻膠供應(yīng)商與客戶粘性大；一般情況下,，為了保持光刻膠供應(yīng)和效果的穩(wěn)定,，下游客戶與光刻膠供應(yīng)商一旦建立供應(yīng)關(guān)系后，不會(huì)輕易更換,。通過建立反饋機(jī)制,，滿足個(gè)性化需求，光刻膠供應(yīng)商與客戶的粘性不斷增加,。后來者想要加入到供應(yīng)商行列,，往往需要滿足比現(xiàn)有供應(yīng)商更高的要求。所以光刻膠行業(yè)對(duì)新進(jìn)入者壁壘較高,。通常光刻膠等微電子化學(xué)品不僅品質(zhì)要求高,，而且需要多種不同的品類滿足下游客戶多樣化的需。如果沒有規(guī)模效益,，供應(yīng)商就無法承擔(dān)滿足***多樣化需求帶來的開銷,。因此，品種規(guī)模構(gòu)成了進(jìn)入該行業(yè)的重要壁壘,。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所,。接觸式光刻曝光主要優(yōu)點(diǎn)是可以使用價(jià)格較低的設(shè)備制造出較小的特征尺寸。

根據(jù)曝光方式的不同,，光刻機(jī)主要分為接觸式,，接近式以及投影式三種。接觸式光刻機(jī),，曝光時(shí),，光刻版壓在涂有光刻膠的襯底上，優(yōu)點(diǎn)是設(shè)備簡(jiǎn)單,，分辨率高,，沒有衍射效應(yīng),，缺點(diǎn)是光刻版與涂有光刻膠的晶圓片直接接觸，每次接觸都會(huì)在晶圓片和光刻版上產(chǎn)生缺陷,，降低光刻版使用壽命,，成品率低。接近式光刻機(jī),，光刻版與光刻膠有一個(gè)很小的縫隙,，因?yàn)楣饪贪媾c襯底沒有接觸，缺陷減少,，優(yōu)點(diǎn)是避免晶圓片與光刻版直接接觸,，缺陷少，缺點(diǎn)是分辨率低,，存在衍射效應(yīng),。投影式曝光，一般光學(xué)系統(tǒng)將掩模版上的圖像縮小4x或5x倍,，聚焦并與硅片上已有的圖形對(duì)準(zhǔn)后曝光,，每次曝光一小部分，曝完一個(gè)圖形后,，硅片移動(dòng)到下一個(gè)曝光位置繼續(xù)對(duì)準(zhǔn)曝光,，這種曝光方式分辨率比較高，但不產(chǎn)生缺陷,。光刻其實(shí)是由多步工序所組成的,。清洗：清洗襯底表面的有機(jī)物。旋涂：將光刻膠旋涂在襯底表面,。曝光光刻服務(wù)

深紫外線堅(jiān)膜使正性光刻膠樹脂發(fā)生交聯(lián)形成一層薄的表面硬殼,，增加光刻膠的熱穩(wěn)定性。曝光光刻服務(wù)

光刻膠要有極好的穩(wěn)定性和一致性,，如果質(zhì)量稍微出點(diǎn)問題，損失將會(huì)是巨大的,。去年2月,，某半導(dǎo)體代工企業(yè)因?yàn)楣饪棠z的原因?qū)е戮A污染，報(bào)廢十萬片晶圓,，直接導(dǎo)致5.5億美元的賬面損失,。除了以上原因外，另一個(gè)重要原因是,，經(jīng)過幾十年的發(fā)展,，光刻膠已經(jīng)是一個(gè)相當(dāng)成熟且固化的產(chǎn)業(yè)。2010年光刻膠的**出現(xiàn)井噴,，2013年之后,，相關(guān)專利的申請(qǐng)已經(jīng)開始銳減,。市場(chǎng)較小，技術(shù)壁壘又高,，這意味著對(duì)于企業(yè)來說,，發(fā)展光刻膠性價(jià)比不高，即便研發(fā)成功一款光刻膠,，也要面臨較長(zhǎng)的認(rèn)證周期,，需要與下游企業(yè)建立合作關(guān)系。曝光光刻服務(wù)

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所在同行業(yè)領(lǐng)域中,，一直處在一個(gè)不斷銳意進(jìn)取,，不斷制造創(chuàng)新的市場(chǎng)高度，多年以來致力于發(fā)展富有創(chuàng)新價(jià)值理念的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn),，在廣東省等地區(qū)的電子元器件中始終保持良好的商業(yè)口碑,，成績(jī)讓我們喜悅，但不會(huì)讓我們止步,，殘酷的市場(chǎng)磨煉了我們堅(jiān)強(qiáng)不屈的意志,，和諧溫馨的工作環(huán)境，富有營(yíng)養(yǎng)的公司土壤滋養(yǎng)著我們不斷開拓創(chuàng)新,，勇于進(jìn)取的無限潛力,，廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)攜手大家一起走向共同輝煌的未來，回首過去,，我們不會(huì)因?yàn)槿〉昧艘稽c(diǎn)點(diǎn)成績(jī)而沾沾自喜,，相反的是面對(duì)競(jìng)爭(zhēng)越來越激烈的市場(chǎng)氛圍，我們更要明確自己的不足,，做好迎接新挑戰(zhàn)的準(zhǔn)備,，要不畏困難，激流勇進(jìn),，以一個(gè)更嶄新的精神面貌迎接大家,，共同走向輝煌回來！