真空鍍膜：真空蒸鍍是在真空條件下,，將鍍料靶材加熱并蒸發(fā),，使大量的原子,、分子氣化并離開(kāi)液體鍍料或離開(kāi)固體鍍料表面（或升華）,，并較終沉積在基體表面上的技術(shù)。在整個(gè)過(guò)程中,，氣態(tài)的原子,、分子在真空中會(huì)經(jīng)過(guò)很少的碰撞而直接遷移到基體，并沉積在基體表面形成薄膜,。蒸發(fā)的方法包括電阻加熱,，高頻感應(yīng)加熱,，電子束、激光束,、離子束高能轟擊鍍料等,。真空蒸鍍是PVD法中使用較早的技術(shù)。將鍍料加熱到蒸發(fā)溫度并使之氣化,，這種加熱裝置稱(chēng)為蒸發(fā)源,。較常用的蒸發(fā)源是電阻蒸發(fā)源和電子束蒸發(fā)源，特殊用途的蒸發(fā)源有高頻感應(yīng)加熱,、電弧加熱,、輻射加熱、激光加熱蒸發(fā)源等,。真空鍍膜設(shè)備膜層厚度過(guò)厚會(huì)帶一點(diǎn)黑色,，但是是金屬本色黑色。北京光學(xué)真空鍍膜

真空鍍膜：濺射鍍膜：濺射鍍膜是指在真空條件下,，利用獲得功能的粒子（如氬離子）轟擊靶材料表面,，使靶材表面原子獲得足夠的能量而逃逸的過(guò)程稱(chēng)為濺射。在真空條件下充入氬氣(Ar),，并在高電壓下使氬氣進(jìn)行輝光放電,，可使氬(Ar)原子電離成氬離子(Ar+)。氬離子在電場(chǎng)力的作用下,，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材,，靶材會(huì)被濺射出來(lái)而沉積到工件表面。被濺射的靶材沉積到基材表面,，就稱(chēng)作濺射鍍膜,。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得,，在10-2Pa～10Pa范圍,。西安來(lái)料真空鍍膜真空鍍膜中離子鍍清洗效果極好，能使鍍層直接貼近基體,。

真空鍍膜：可鍍材料普遍：離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面,，使大量的電能在工件表面轉(zhuǎn)換成熱能，從而促進(jìn)了表層組織的擴(kuò)散作用和化學(xué)反應(yīng),。然而,，整個(gè)工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響,。因此這種鍍膜工藝的應(yīng)用范圍較廣，受到的局限性則較小,。通常,，各種金屬,、合金以及某些合成材料、絕緣材料,、熱敏材料和高熔點(diǎn)材料等均可鍍復(fù),。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬,，甚至可鍍塑料,、橡膠、石英,、陶瓷等,。

所謂的原子層沉積技術(shù)，是指通過(guò)將氣相前驅(qū)體交替脈沖通入反應(yīng)室并在沉積基體表面發(fā)生氣固相化學(xué)吸附反應(yīng)形成薄膜的一種方法,。原子層沉積（ALD）是一種在氣相中使用連續(xù)化學(xué)反應(yīng)的薄膜形成技術(shù),。化學(xué)氣相沉積：1個(gè)是分類(lèi)的（CVD的化學(xué)氣相沉積）,。在許多情況下,，ALD是使用兩種稱(chēng)為前體的化學(xué)物質(zhì)執(zhí)行的。每種前體以連續(xù)和自我控制的方式與物體表面反應(yīng),。通過(guò)依次重復(fù)對(duì)每個(gè)前體的曝光來(lái)逐漸形成薄膜,。ALD是半導(dǎo)體器件制造中的重要過(guò)程，部分設(shè)備也可用于納米材料合成,。真空鍍膜機(jī)在集成電路制造中的應(yīng)用：PVCD技術(shù),、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù),。

真空鍍膜：離子鍍特點(diǎn)：離子鍍是物理的氣相沉積方法中應(yīng)用較普遍的一種鍍膜工藝,。離子鍍的基本特點(diǎn)是采用某種方法（如電子束蒸發(fā)磁控濺射，或多弧蒸發(fā)離化等）使中性粒子電離成離子和電子,，在基體上必須施加負(fù)偏壓,，從而使離子對(duì)基體產(chǎn)生轟擊，適當(dāng)降低負(fù)偏壓后使離子進(jìn)而沉積于基體成膜,，適用于高速鋼工具,，熱鍛模等材料的表面處理過(guò)程。離子鍍的優(yōu)點(diǎn)如下：膜層和基體結(jié)合力強(qiáng),，反應(yīng)溫度低,。膜層均勻，致密,。在負(fù)偏壓作用下繞鍍性好,。無(wú)污染。多種基體材料均適合于離子鍍,。真空鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn):可采用屏蔽式進(jìn)行部分鍍鋁,，以獲得任意圖案或透明窗口,，能看到內(nèi)裝物。遵義UV真空鍍膜

真空鍍膜鍍的薄膜純度高,。北京光學(xué)真空鍍膜

真空鍍膜：真空涂層技術(shù)的發(fā)展：真空涂層技術(shù)起步時(shí)間不長(zhǎng),，國(guó)際上在上世紀(jì)六十年代才出現(xiàn)將CVD（化學(xué)氣相沉積）技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上。由于該技術(shù)需在高溫下進(jìn)行（工藝溫度高于1000oC）,，涂層種類(lèi)單一,，局限性很大，起初并未得到推廣,。到了上世紀(jì)七十年代末,，開(kāi)始出現(xiàn)PVD（物理的氣相沉積）技術(shù)，之后在短短的二,、三十年間PVD涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展,，究其原因：其在真空密封的腔體內(nèi)成膜，幾乎無(wú)任何環(huán)境污染問(wèn)題,，有利于環(huán)保,；其能得到光亮、華貴的表面,，在顏色上,，成熟的有七彩色、銀色,、透明色,、金黃色、黑色,、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色,，能夠滿足裝飾性的各種需要；可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度,、高耐磨性的陶瓷涂層,、復(fù)合涂層，應(yīng)用在工裝,、模具上面,，可以使壽命成倍提高，較好地實(shí)現(xiàn)了低成本,、收益的效果,；此外，PVD涂層技術(shù)具有低溫,、高能兩個(gè)特點(diǎn),，幾乎可以在任何基材上成膜，因此,，應(yīng)用范圍十分廣闊,，其發(fā)展神速也就不足為奇,。北京光學(xué)真空鍍膜