ICP（感應(yīng)耦合等離子）刻蝕GaN是物料濺射和化學(xué)反應(yīng)相結(jié)合的復(fù)雜過程?？涛gGaN主要使用到氯氣和三氯化硼,，刻蝕過程中材料表面表面的Ga-N鍵在離子轟擊下破裂，此為物理濺射,，產(chǎn)生活性的Ga和N原子,，氮原子相互結(jié)合容易析出氮?dú)猓珿a原子和Cl離子生成容易揮發(fā)的GaCl2或者GaCl3,。光刻（Photolithography)是一種圖形轉(zhuǎn)移的方法,，在微納加工當(dāng)中不可或缺的技術(shù)。光刻是一個(gè)比較大的概念,，其實(shí)它是有多步工序所組成的,。1.清洗：清洗襯底表面的有機(jī)物。2.旋涂：將光刻膠旋涂在襯底表面,。3.曝光,。將光刻版與襯底對(duì)準(zhǔn)，在紫外光下曝光一定的時(shí)間,。4.顯影：將曝光后的襯底在顯影液下顯影一定的時(shí)間,，受過紫外線曝光的地方會(huì)溶解在顯影液當(dāng)中。5.后烘,。將顯影后的襯底放置熱板上后烘,，以增強(qiáng)光刻膠與襯底之前的粘附力。未來幾年微納制造系統(tǒng)和平臺(tái)的發(fā)展前景包括的方面：智能的,、可升級(jí)的和適應(yīng)性強(qiáng)的微納制造系統(tǒng),。宜春半導(dǎo)體微納加工

在光刻圖案化工藝中,，首先將光刻膠涂在硅片上形成一層薄膜。接著在復(fù)雜的曝光裝置中,，光線通過一個(gè)具有特定圖案的掩模投射到光刻膠上,。曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生化學(xué)變化，在隨后的化學(xué)顯影過程中被去除,。較后掩模的圖案就被轉(zhuǎn)移到了光刻膠膜上,。而在隨后的蝕刻 或離子注入工藝中，會(huì)對(duì)沒有光刻膠保護(hù)的硅片部分進(jìn)行刻蝕,，較后洗去剩余光刻膠,。這時(shí)光刻膠的圖案就被轉(zhuǎn)移到下層的薄膜上，這種薄膜圖案化的過程經(jīng)過多次迭代,，聯(lián)同其他多個(gè)物理過程,，便產(chǎn)生集成電路。宜春半導(dǎo)體微納加工微納加工設(shè)備主要有：光刻,、刻蝕,、鍍膜、濕法腐蝕,、絕緣層鍍膜等,。

平臺(tái)目前已配備各類微納加工和表征測(cè)試設(shè)備50余臺(tái)套，擁有一條相對(duì)完整的微納加工工藝線,，可制成2-6英寸樣品,，涵蓋了圖形發(fā)生、薄膜制備,、材料刻蝕,、表征測(cè)試等常見的工藝段，可以進(jìn)行常見微納米結(jié)構(gòu)和器件的加工,，極限線寬達(dá)到600納米,，材料種類包括硅基、化合物半導(dǎo)體等多種類型材料,，可以有力支撐多學(xué)科領(lǐng)域的半導(dǎo)體器件加工以及微納米結(jié)構(gòu)的表征測(cè)試需求,。微納加工平臺(tái)支持基礎(chǔ)信息器件與系統(tǒng)等多領(lǐng)域、交叉學(xué)科,，開展前沿信息科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā),。作為開放共享服務(wù)平臺(tái)，支撐的研究領(lǐng)域包括新型器件,、柔性電子器件,、微流體、發(fā)光芯片、化合物半導(dǎo)體,、微機(jī)電器件與系統(tǒng)（MEMS）等,。以高效、創(chuàng)新,、穩(wěn)定,、合作共贏的合作理念，歡迎社會(huì)各界前來合作,。

隨著微電子,、微機(jī)械、微光學(xué),、介入醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的發(fā)展,，微型零件的需求量不斷增加。微注射成形作為一種微成型工藝,，具有制品材料,、幾何形狀和尺寸適應(yīng)性好、成本低,、效率高,，以及可連續(xù)化、自動(dòng)化生產(chǎn)等一系列優(yōu)點(diǎn),，因此越來越受到人們的重視,，成為當(dāng)前研究的熱門課題。1985年,，世界上第1臺(tái)專門用于加工微型塑件的注射裝置Micromelt在德國(guó)問世，其它國(guó)家緊隨其后,，先后開發(fā)出了各種不同類型的微注塑成型機(jī),，這為發(fā)展微注塑成型技術(shù)以及實(shí)際生產(chǎn)微小塑件都提供了強(qiáng)有力的支持和較有效的保證，微注塑成型技術(shù)進(jìn)入了發(fā)展的黃金時(shí)期,。高精度的微細(xì)結(jié)構(gòu)具有比較高的曝光精度,，但這兩種方法制作效率極低。

微納制造可以應(yīng)用在什么哪些領(lǐng)域,？微納制造作為國(guó)家新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重大關(guān)鍵技術(shù)之一,，對(duì)國(guó)家裝備實(shí)力和國(guó)民經(jīng)濟(jì)技術(shù)的發(fā)展起到重要作用。微納制造技術(shù)的進(jìn)步,，推動(dòng)著三大前沿科技的發(fā)展：生物技術(shù),、信息技術(shù)、納米技術(shù),。由于微納制造技術(shù)產(chǎn)品有體積小,、集成度高、重量輕,、智能化程度高等諸多優(yōu)點(diǎn),，在信息科學(xué),、生物醫(yī)療、航空航天等領(lǐng)域廣的應(yīng)用,。微納加工技術(shù)是先進(jìn)制造的重要組成部分,，是衡量國(guó)家高質(zhì)量的制造業(yè)水平的標(biāo)志之一，具有多學(xué)科交叉性和制造要素極端性的特點(diǎn),，在推動(dòng)科技進(jìn)步,、促進(jìn)產(chǎn)業(yè)發(fā)展、拉動(dòng)科技進(jìn)步,、保障**安全等方面都發(fā)揮著關(guān)鍵作用,。微納加工技術(shù)的基本手段包括微納加工方法與材料科學(xué)方法兩種。很顯然,，微納加工技術(shù)與微電子工藝技術(shù)有密切關(guān)系,。微納加工平臺(tái)支持基礎(chǔ)信息器件與系統(tǒng)等多領(lǐng)域、交叉學(xué)科,，開展前沿信息科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā),。宜春半導(dǎo)體微納加工

提高微納加工技術(shù)的加工能力和效率是未來微納結(jié)構(gòu)及器件研究的重點(diǎn)方向。宜春半導(dǎo)體微納加工

微納制造技術(shù)的發(fā)展,，同樣涉及到科研體系問題,。嚴(yán)格意義上來說，科研分為三個(gè)領(lǐng)域,，一個(gè)是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域,，一個(gè)是工程化應(yīng)用領(lǐng)域，一個(gè)是市場(chǎng)推廣領(lǐng)域,。在發(fā)達(dá)國(guó)家的科研機(jī)制中,。幾乎所有的基礎(chǔ)研究領(lǐng)域都是由國(guó)家或機(jī)構(gòu)直接或間接支持的。這種基礎(chǔ)研究較看重的是對(duì)于國(guó)家,、民生或**的長(zhǎng)遠(yuǎn)意義．而不是短期內(nèi)的投入與產(chǎn)出,。因而致力于基礎(chǔ)研究的機(jī)構(gòu)或者人員。根本不用考慮研究的所謂“市場(chǎng)化”問題,。而只是進(jìn)行基礎(chǔ),、理論的研究。另一方面,。工程化應(yīng)用領(lǐng)域由專門的機(jī)構(gòu)或職能部門負(fù)責(zé),，這些部門從應(yīng)用領(lǐng)域、生產(chǎn)領(lǐng)域,、制造領(lǐng)域抽調(diào)**,、學(xué)者及相關(guān)專業(yè)人員，對(duì)基礎(chǔ)研究的市場(chǎng)應(yīng)用前景進(jìn)行分析，并提出可行性建議,，末尾由市場(chǎng)或企業(yè)來進(jìn)行工程化應(yīng)用研究,。末尾市場(chǎng)化推廣的問題自然是企業(yè)來做了。中國(guó)的高校和研究機(jī)構(gòu),，做純理念和純基礎(chǔ)的并不多,，中國(guó)大多是工程性項(xiàng)目研究。其理想模式為高校,、研究所,、企業(yè)三結(jié)合狀態(tài)，各司其職,，各負(fù)其責(zé),。微納技術(shù)是繼JT、生物之后,。21世紀(jì)較具發(fā)展?jié)摿Φ母咝录夹g(shù),，是未來十年高增長(zhǎng)的新興產(chǎn)業(yè)。宜春半導(dǎo)體微納加工