中國半導體光刻膠市場規(guī)模增速超過全球,。隨著半導體制程節(jié)點不斷縮小,，光刻工藝對光刻膠要求越來越高，需求量也越來越大,。據(jù)智研咨詢數(shù)據(jù),，2018年全球半導體用光刻膠市場規(guī)模約13億美元，年復合增速為5.4%,，預計未來5年年均增速約8%-10%,；中國半導體用光刻膠市場規(guī)模約23億元人民幣，年復合增速為9.8%,，預計未來5年年均增速約10%,。以前，光刻膠主要依賴進口,，隨著科技的逐漸發(fā)展,，國產(chǎn)化光刻膠趨勢越來越明顯，相信國內(nèi)光刻膠技術(shù)會越來越成熟,，光刻膠國產(chǎn)化是必然趨勢,。光刻膠所屬的微電子化學品是電子行業(yè)與化工行業(yè)交叉的領(lǐng)域，是典型的技術(shù)密集行業(yè),。上海ArF光刻膠其他助劑
EUV(極紫外光)光刻技術(shù)是20年來光刻領(lǐng)域的進展,。由于目前可供利用的光學材料無法很好支持波長13nm以下的輻射的反射和透射，因此 EUV 光刻技術(shù)使用波長為13.5nm的紫外光作為光刻光源,。EUV（極紫外光）光刻技術(shù)將半導體制程技術(shù)在10nm以下的區(qū)域繼續(xù)推進,。在 EUV 光刻工藝的 13.5nm 波長尺度上，量子的不確定性效應開始顯現(xiàn),，為相應光源,，光罩和光刻膠的設計和使用帶來了前所未有的挑戰(zhàn)。目前 EUV 光刻機只有荷蘭 ASML 有能力制造,，許多相應的技術(shù)細節(jié)尚不為外界所知,。在即將到來的 EUV 光刻時代，業(yè)界預期已經(jīng)流行長達 20 年之久的 KrF,、ArF 光刻膠技術(shù)或?qū)⒂瓉砑夹g(shù)變革,。上海正性光刻膠光引發(fā)劑碳酸甲酯型光刻膠：這種類型的光刻膠在制造高分辨率電路元件方面非常有用,。
黏附性是表征光刻膠黏著于襯底的強度。主要衡量光刻膠抗?jié)穹ǜg能力,。它不僅與光刻膠本身的性質(zhì)有關(guān),，而且與襯底的性質(zhì)和其表面情況等有密切關(guān)系 。作為刻蝕阻擋層,，光刻膠層必須和晶圓表面黏結(jié)得很好,，才能夠忠實地把光刻層圖形轉(zhuǎn)移到晶圓表面層，光刻膠的黏附性不足會導致硅片表面的圖形變形,。光刻膠的黏附性必須經(jīng)受住后續(xù)工藝（刻蝕,、離子注入等）。通常負膠比正膠有更強的黏結(jié)能力,。
表面張力指液體中將表面分子拉向液體主體內(nèi)的分子間吸引力,。光刻膠應該具有比較小的表面張力，使光刻膠具有良好的流動性和覆蓋,。
通常光刻膠等微電子化學品不僅品質(zhì)要求高,，而且需要多種不同的品類滿足下游客戶多樣化的需。如果沒有規(guī)模效益,，供應商就無法承擔滿足多樣化需求帶來的開銷,。因此，品種規(guī)模構(gòu)成了進入該行業(yè)的重要壁壘,。同時,，一般微電子化學品具有一定的腐蝕性，對生產(chǎn)設備有較高的要求,，且生產(chǎn)環(huán)境需要進行無塵或微塵處理。制備微電子化學品還需要全封閉,、自動化的工藝流程,，以避免污染，提高質(zhì)量,。因此,，光刻膠等微電子化學品生產(chǎn)在安全生產(chǎn)、環(huán)保設備,、生產(chǎn)工藝系統(tǒng),、過程控制體系以及研發(fā)投資等方面要求較高。如果沒有強大的資金實力,，企業(yè)就難以在設備,、研發(fā)和技術(shù)服務上取得競爭優(yōu)勢，以提升可持續(xù)發(fā)展能力,。因此,，光刻膠這樣的微電子化學品行業(yè)具備較高的資金壁壘,。金屬氧化物光刻膠使用金屬離子及有機配體構(gòu)建其主體結(jié)構(gòu)，借助光敏基團實現(xiàn)光刻膠所需的性能,。
導體光刻膠的涂敷方法主要是旋轉(zhuǎn)涂膠法,，具體可以分為靜態(tài)旋轉(zhuǎn)法和動態(tài)噴灑法。靜態(tài)旋轉(zhuǎn)法：首先把光刻膠通過滴膠頭堆積在硅片的中心,，然后低速旋轉(zhuǎn)使得光刻膠鋪開,，再以高速旋轉(zhuǎn)甩掉多余的光刻膠。在高速旋轉(zhuǎn)的過程中,，光刻膠中的溶劑會揮發(fā)一部分,。靜態(tài)涂膠法中的光刻膠堆積量非常關(guān)鍵，量少了會導致光刻膠不能充分覆蓋硅片,，量大了會導致光刻膠在硅片邊緣堆積甚至流到硅片的背面,，影響工藝質(zhì)量。動態(tài)噴灑法：隨著硅片尺寸越來越大,，靜態(tài)涂膠已經(jīng)不能滿足新型的硅片加工需求,。相對靜態(tài)旋轉(zhuǎn)法而言，動態(tài)噴灑法在光刻膠對硅片進行澆注的時刻就開始以低速旋轉(zhuǎn)幫助光刻膠進行**初的擴散,。這種方法可以用較少量的光刻膠形成更均勻的光刻膠鋪展,，以高速旋轉(zhuǎn)形成滿足厚薄與均勻度要求的光刻膠膜。在平板顯示行業(yè),；主要使用的光刻膠有彩色及黑色光刻膠,、LCD觸摸屏用光刻膠、TFT-LCD正性光刻膠等,。蘇州KrF光刻膠單體
光刻膠的國產(chǎn)化公關(guān)正在展開,，在面板屏顯光刻膠領(lǐng)域，中國已經(jīng)出現(xiàn)了一批有競爭力的本土企業(yè),。上海ArF光刻膠其他助劑
在平板顯示行業(yè)：主要使用的光刻膠有彩色及黑色光刻膠,、LCD觸摸屏用光刻膠、TFT-LCD正性光刻膠等,。在光刻和蝕刻生產(chǎn)環(huán)節(jié)中,，光刻膠涂覆于晶體薄膜表面，經(jīng)曝光,、顯影和蝕刻等工序?qū)⒐庹郑ㄑ谀ぐ妫┥系膱D形轉(zhuǎn)移到薄膜上,，形成與掩膜版對應的幾何圖形。
在PCB行業(yè),；主要使用的光刻膠有干膜光刻膠,、濕膜光刻膠、感光阻焊油墨等。干膜是用特殊的薄膜貼在處理后的敷銅板上,，進行曝光顯影,；濕膜和光成像阻焊油墨則是涂布在敷銅板上，待其干燥后進行曝光顯影,。干膜與濕膜各有優(yōu)勢,，總體來說濕膜光刻膠分辨率高于干膜，價格更低廉,，正在對干膜光刻膠的部分市場進行替代,。 上海ArF光刻膠其他助劑
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