浸沒光刻：在與浸沒光刻相對的干法光刻中，光刻透鏡與光刻膠之間是空氣,。光刻膠直接吸收光源發(fā)出的紫外輻射并發(fā)生光化學反應,。在浸沒光刻中，光刻鏡頭與光刻膠之間是特定液體,。這些液體可以是純水也可以是別的化合物液體,。光刻光源發(fā)出的輻射經過這些液體的時候發(fā)生了折射，波長變短,。這樣,，在不改變光源的前提條件下，更短波長的紫外光被投影光刻膠上,，提高了光刻加工的分辨率,。雙重光刻：雙重光刻的意思是通過兩次光刻使得加工分辨率翻倍。實現(xiàn)這個目的的一種方法是在開始光刻過后平移同一個光罩進行第二次光刻,，以提高加工分辨率,。下圖右展示了這樣一個過程。下圖右中雙重光刻子進行了兩次涂膠,，兩次光刻和兩次刻蝕,。隨著光刻膠技術的進步,，只需要一次涂膠，兩次光刻和一次刻蝕的雙重光刻工藝也成為可能,。光刻膠行業(yè)日系企業(yè)實力雄厚,，國內廠商有望復刻成功經驗。上海半導體光刻膠曝光

從90年代后半期開始,，光刻光源就開始采用248nm的KrF激光,；而從2000年代開始，光刻就進一步轉向使用193nm波長的ArF準分子激光作為光源,。在那之后一直到目前的約20年里,，193nm波長的ArF準分子激光一直是半導體制程領域性能可靠，使用較多的光刻光源,。一般而言,，KrF（248nm）光刻膠使用聚對羥基苯乙烯及其衍生物作為成膜樹脂，使用磺酸碘鎓鹽和硫鎓鹽作為光致酸劑,；而ArF（193nm）光刻膠則多使用聚甲基丙烯酸酯衍生物,，環(huán)烯烴-馬來酸酐共聚物，環(huán)形聚合物等作為成膜樹脂,；由于化學結構上的原因,，Arf(193nm)光刻膠需要比KrF（248nm）光刻膠更加敏感的光致酸劑。上海負性光刻膠印刷電路板光刻膠又稱光致抗蝕劑,，是一種對光敏感的混合液體,。

隨著IC集成度的提高，世界集成電路的制程工藝水平按已由微米級,、亞微米級,、深亞微米級進入到納米級階段。集成電路線寬不斷縮小的趨勢,，對包括光刻在內的半導體制程工藝提出了新的挑戰(zhàn),。在半導體制程的光刻工藝中，集成電路線寬的特征尺寸可以由如右所示的瑞利公式確定：CD=k1*λ/NA,。CD (Critical Dimension)表示集成電路制程中的特征尺寸,；k1是瑞利常數，是光刻系統(tǒng)中工藝和材料的一個相關系數,；λ是曝光波長,，而NA(Numerical Aperture)則是指光刻機的孔徑數值。因此,，光刻機需要通過降低瑞利常數和曝光波長,，增大孔徑尺寸來制造具有更小特征尺寸的集成電路。其中降低曝光波長與光刻機使用的光源以及光刻膠材料高度相關,。

光刻膠是集成電路領域微加工的關鍵性材料,，為推動光刻膠等半導體材料行業(yè)的發(fā)展,，近年來，我國發(fā)布了多項利好政策支持光刻膠產業(yè)發(fā)展,，同時國內企業(yè)也積極研發(fā)產品,，主動尋求光刻膠及其他材料國產化。現(xiàn)階段,，我國光刻膠企業(yè)有晶瑞電材,、彤程新材、華懋科技,、南大光電等,，在國產替代大契機下，國內光刻膠企業(yè)將迎來發(fā)展良機,。國內產業(yè)鏈下游企業(yè)逐漸意識到材料國產化的重要性,，國內廠商也在積極研發(fā)產品、加速客戶和產品導入,、擴建相關產能，在探索中砥礪前行,，從而抓住國產化的契機,。目前已有少數企業(yè)已開始嶄露頭角，實現(xiàn)從0到1的突破,。光刻膠生產工藝復雜,，技術壁壘高，其研發(fā)和量產對企業(yè)都具有極高要求,。

g-line與i-line光刻膠均使用線性酚醛成分作為樹脂主體,，重氮萘醌成分（DQN 體系）作為感光劑。未經曝光的DQN成分作為抑制劑,，可以十倍或者更大的倍數降低光刻膠在顯影液中的溶解速度,。曝光后，重氮萘醌(DQN)基團轉變?yōu)橄┩?，與水接觸時,，進一步轉變?yōu)檐崃u酸，從而得以在曝光區(qū)被稀堿水顯影時除去,。由此,，曝光過的光刻膠會溶解于顯影液而被去除，而未曝光的光刻膠部分則得以保留,。雖然g-line光刻膠和i-line 光刻膠使用的成分類似,，但是其樹脂和感光劑在微觀結構上均有變化，因而具有不同的分辨率,。G-line光刻膠適用于0.5um(500nm)以上尺寸的集成電路制作,，而i-line光刻膠使用于0.35um（350nm至0.5um（500nm）尺寸的集成電路制作,。光刻膠是集成電路制造的重要材料：光刻膠的質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素,。浙江化學放大型光刻膠單體

產品純度,、金屬離子雜質控制等也是光刻膠生產工藝中需面臨的技術難關，光刻膠純度不足會導致芯片良率下降,。上海半導體光刻膠曝光

目前國內從事半導體光刻膠研發(fā)和生產的企業(yè)包括晶瑞股份,、南大光電、上海新陽,、北京科華等,。相關企業(yè)以i 線、g線光刻膠生產為主,，應用集成電路制程為350nm以上,。在KrF光刻膠領域，北京科華,、博康已實現(xiàn)量產,。國內在ArF光刻膠領域產業(yè)化進程相對較快的企業(yè)為南大光電，其先后承擔國家02專項“高分辨率光刻膠與先進封裝光刻膠產品關鍵技術研發(fā)項目”和“ArF光刻膠產品的開發(fā)和產業(yè)化項目”,，公司自主研發(fā)的ArF光刻膠產品成為國內通過客戶驗證的國產ArF光刻膠,，其他國內企業(yè)尚處于研發(fā)和驗證階段。上海半導體光刻膠曝光

上海蔚云化工有限公司是一家貿易型類企業(yè),，積極探索行業(yè)發(fā)展,，努力實現(xiàn)產品創(chuàng)新。上海蔚云化工是一家私營獨資企業(yè)企業(yè),，一直“以人為本,，服務于社會”的經營理念;“誠守信譽，持續(xù)發(fā)展”的質量方針,。公司始終堅持客戶需求優(yōu)先的原則,，致力于提供高質量的乙醇胺，乙二胺,，丙二醇,，己二酸二辛脂。上海蔚云化工順應時代發(fā)展和市場需求,，通過**技術,，力圖保證高規(guī)格高質量的乙醇胺，乙二胺,，丙二醇,，己二酸二辛脂。