光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類,，可分為 PCB 光刻膠、顯示面板光刻膠,、半導(dǎo)體光刻膠及其他光刻膠,。全球市場(chǎng)上不同種類光刻膠的市場(chǎng)結(jié)構(gòu)較為均衡。智研咨詢的數(shù)據(jù)還顯示,，受益于半導(dǎo)體,、顯示面板、PCB產(chǎn)業(yè)東移的趨勢(shì),，自 2011年至今,，光刻膠中國(guó)本土供應(yīng)規(guī)模年華增長(zhǎng)率達(dá)到11%,，高于全球平均 5%的增速。2019年中國(guó)光刻膠市場(chǎng)本土企業(yè)銷售規(guī)模約70億元,，全球占比約 10%,，發(fā)展空間巨大。目前,，中國(guó)本土光刻膠以PCB用光刻膠為主,，平板顯示、半導(dǎo)體用光刻膠供應(yīng)量占比極低,。產(chǎn)品純度,、金屬離子雜質(zhì)控制等也是光刻膠生產(chǎn)工藝中需面臨的技術(shù)難關(guān)，光刻膠純度不足會(huì)導(dǎo)致芯片良率下降,。i線光刻膠曝光

美國(guó)能源部布魯克海文國(guó)家實(shí)驗(yàn)室的研究人員采用原子層沉積（ALD）系統(tǒng),，將有機(jī)聚合物聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）與氧化鋁結(jié)合起來(lái)，創(chuàng)造了雜化有機(jī)-無(wú)機(jī)光刻膠,。他們?cè)趯⑼坑蠵MMA薄膜的襯底放到ALD反應(yīng)室中之后,，引入了鋁前驅(qū)物蒸汽。這個(gè)蒸汽通過(guò)PMMA基質(zhì)內(nèi)部的微小分子孔擴(kuò)散,，與聚合物鏈內(nèi)部的化學(xué)物質(zhì)結(jié)合到一起,。然后，他們引入了另一種前驅(qū)物（例如水）,，與前驅(qū)物反應(yīng)形成PMMA基體內(nèi)部的氧化鋁,。該雜化光刻膠的蝕刻選擇比遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于ZEP（一種昂貴的光刻膠）和二氧化硅,。蘇州i線光刻膠集成電路材料高壁壘和高價(jià)值量是光刻膠的典型特征,。光刻膠屬于技術(shù)和資本密集型行業(yè)，全球供應(yīng)市場(chǎng)高度集中,。

光刻膠的產(chǎn)業(yè)鏈中游：為光刻膠制造環(huán)節(jié),，當(dāng)前全球光刻膠生產(chǎn)制造商主要被日本JSR、信越化學(xué),、住友化學(xué),、東京應(yīng)化、美國(guó)陶氏化學(xué)等制造商所壟斷,，中國(guó)本土企業(yè)在光刻膠市場(chǎng)的份額較低,，與國(guó)外光刻膠制造商相比仍存明顯差距。

光刻膠的產(chǎn)業(yè)鏈下游：主要涉及半導(dǎo)體,、平板顯示器,、PCB等領(lǐng)域。伴隨消費(fèi)升級(jí),、應(yīng)用終端產(chǎn)品更新迭代速度加快,，下游應(yīng)用領(lǐng)域企業(yè)對(duì)半導(dǎo)體,、平板顯示和PCB制造提出愈加精細(xì)化的要求，將帶動(dòng)光刻膠行業(yè)持續(xù)發(fā)展,。

此外,，光刻膠也可以用于液晶平板顯示等較大面積電子產(chǎn)品的制作。90年代后半期,，遵從摩爾定律的指引,，半導(dǎo)體制程工藝尺寸開(kāi)始縮小到0.35um（350nm）以下，因而開(kāi)始要求更高分辨率的光刻技術(shù),。深紫外光由于波長(zhǎng)更短,，衍射作用小，所以可以用于更高分辨率的光刻光源,。隨著 KrF,、ArF等稀有氣體鹵化物準(zhǔn)分子激發(fā)態(tài)激光光源研究的發(fā)展，248nm（KrF）,、193nnm（ArF）的光刻光源技術(shù)開(kāi)始成熟并投入實(shí)際使用,。然而,由于 DQN 體系光刻膠對(duì)深紫外光波段的強(qiáng)烈吸收效應(yīng)，KrF和ArF作為光刻氣體產(chǎn)生的射光無(wú)法穿透DQN光刻膠,，這意味著光刻分辨率會(huì)受到嚴(yán)重影響,。因此深紫外光刻膠采取了與i-line和g-line光刻膠完全不同的技術(shù)體系，這種技術(shù)體系被稱為化學(xué)放大光阻體系(Chemically Amplified Resist, CAR),。光刻膠生產(chǎn)工藝復(fù)雜,，技術(shù)壁壘高，其研發(fā)和量產(chǎn)對(duì)企業(yè)都具有極高要求,。

按顯示效果分類,；光刻膠可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。負(fù)性光刻膠顯影時(shí)形成的圖形與光罩（掩膜版）相反,；正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同,。兩者的生產(chǎn)工藝流程基本一致，區(qū)別在于主要原材料不同,。

按照化學(xué)結(jié)構(gòu)分類,；光刻膠可以分為光聚合型，光分解型,，光交聯(lián)型和化學(xué)放大型,。光聚合型光刻膠采用烯類單體，在光作用下生成自由基,，進(jìn)一步引發(fā)單體聚合,，生成聚合物；光分解型光刻膠,，采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑,，其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應(yīng),，可以制成正性光刻膠；光交聯(lián)型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,，在光的作用下,，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而起到抗蝕作用,，可以制成負(fù)性光刻膠,。 光刻膠的技術(shù)壁壘包括配方技術(shù)，質(zhì)量控制技術(shù)和原材料技術(shù),。i線光刻膠曝光

經(jīng)過(guò)多年技術(shù)積累,，國(guó)內(nèi)已形成一定光刻膠用電子化學(xué)品產(chǎn)能，國(guó)內(nèi)公司市場(chǎng)份額逐步提升,，國(guó)產(chǎn)替代正在進(jìn)行,。i線光刻膠曝光

根據(jù)2019年數(shù)據(jù)，全球半導(dǎo)體光刻膠**大廠商占據(jù)全球光刻膠市場(chǎng)87%份額,。其中日本占有四家,，分別是JSR、東京應(yīng)化(TOK),、信越化學(xué)與富士電子材料,，這四家的市場(chǎng)份額達(dá)到72%，市場(chǎng)集中度明顯,。在半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分領(lǐng)域,，日本廠商在市場(chǎng)中具有較強(qiáng)話語(yǔ)權(quán)。（1）g/i線光刻膠市場(chǎng)：日本的東京應(yīng)化,、JSR,、住友化學(xué)和富士膠片分別占據(jù)26%、15%,、15%,、8%的份額,，在全球市場(chǎng)占據(jù)64%份額,。（2）KrF光刻膠市場(chǎng)：日本企業(yè)東京應(yīng)化、信越化學(xué)和JSR在全球KrF光刻膠細(xì)分市場(chǎng)分別占據(jù)34%,、22%和18%份額,，合計(jì)占比達(dá)到74%。（3）ArF光刻膠市場(chǎng)：日本企業(yè)JSR,、信越化學(xué),、東京應(yīng)化和住友化學(xué)包攬前四，分別占據(jù)全球ArF光刻膠細(xì)分市場(chǎng)25%,、23%,、20%和15%市場(chǎng)份額,，合計(jì)市場(chǎng)份額達(dá)到83%。（4）EUV光刻膠市場(chǎng)：較先進(jìn)的EUV光刻膠領(lǐng)域完全被日本企業(yè)所主導(dǎo),，日本JSR,、東京應(yīng)化、信越化學(xué)成為EUV光刻膠市場(chǎng)可實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的廠商,。目前引入EUV工藝的*有三星電子和臺(tái)積電兩家公司,。i線光刻膠曝光

上海蔚云化工有限公司是一家集研發(fā)、制造,、銷售為一體的****,，公司位于上海市金山區(qū)龍勝路1000號(hào)二層211室C，成立于2017-03-31,。公司秉承著技術(shù)研發(fā),、客戶優(yōu)先的原則，為國(guó)內(nèi)乙醇胺,，乙二胺,，丙二醇，己二酸二辛脂的產(chǎn)品發(fā)展添磚加瓦,。主要經(jīng)營(yíng)乙醇胺,，乙二胺，丙二醇,，己二酸二辛脂等產(chǎn)品服務(wù),，現(xiàn)在公司擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富的研發(fā)設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)，對(duì)于產(chǎn)品研發(fā)和生產(chǎn)要求極為嚴(yán)格,，完全按照行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)研發(fā)和生產(chǎn),。揚(yáng)巴,諾力昂,衛(wèi)星,陶氏為用戶提供真誠(chéng)、貼心的售前,、售后服務(wù),，產(chǎn)品價(jià)格實(shí)惠。公司秉承為社會(huì)做貢獻(xiàn),、為用戶做服務(wù)的經(jīng)營(yíng)理念,，致力向社會(huì)和用戶提供滿意的產(chǎn)品和服務(wù)。上海蔚云化工有限公司注重以人為本,、團(tuán)隊(duì)合作的企業(yè)文化,，通過(guò)保證乙醇胺，乙二胺,，丙二醇,，己二酸二辛脂產(chǎn)品質(zhì)量合格，以誠(chéng)信經(jīng)營(yíng),、用戶至上,、價(jià)格合理來(lái)服務(wù)客戶,。建立一切以客戶需求為前提的工作目標(biāo)，真誠(chéng)歡迎新老客戶前來(lái)洽談業(yè)務(wù),。