伴隨全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)東移,，加上我國持續(xù)增長的下游需求和政策支持力度,。同時,，國內(nèi)晶圓廠進(jìn)入投產(chǎn)高峰期,，由于半導(dǎo)體光刻膠與下游晶圓廠具有伴生性特點,，國內(nèi)光刻膠廠商將直接受益于晶圓廠制造產(chǎn)能的大幅擴(kuò)張。當(dāng)前我國光刻膠與全球先進(jìn)水平有近40年的差距,，半導(dǎo)體國產(chǎn)化的大趨勢下,，國內(nèi)企業(yè)有望逐步突破與國內(nèi)集成電路制造工藝相匹配的光刻膠，所以必須要對光刻膠足夠的重視,，不斷向日本和歐美等發(fā)達(dá)國家學(xué)習(xí),，努力開發(fā)出性能優(yōu)異的國產(chǎn)光刻膠，使我國在未來的市場中占據(jù)一席之地,。從化學(xué)組成來看,，金屬氧化物光刻膠主要為稀土和過渡金屬有機(jī)化合物。浦東TFT-LCD正性光刻膠顯示面板材料

光刻膠的產(chǎn)業(yè)鏈中游：為光刻膠制造環(huán)節(jié),，當(dāng)前全球光刻膠生產(chǎn)制造商主要被日本JSR,、信越化學(xué)、住友化學(xué),、東京應(yīng)化,、美國陶氏化學(xué)等制造商所壟斷，中國本土企業(yè)在光刻膠市場的份額較低,，與國外光刻膠制造商相比仍存明顯差距,。

光刻膠的產(chǎn)業(yè)鏈下游：主要涉及半導(dǎo)體、平板顯示器,、PCB等領(lǐng)域,。伴隨消費(fèi)升級、應(yīng)用終端產(chǎn)品更新迭代速度加快,，下游應(yīng)用領(lǐng)域企業(yè)對半導(dǎo)體,、平板顯示和PCB制造提出愈加精細(xì)化的要求,，將帶動光刻膠行業(yè)持續(xù)發(fā)展,。 嘉定TFT-LCD正性光刻膠樹脂按照化學(xué)結(jié)構(gòu)分類：光刻膠可以分為光聚合型，光分解型,，光交聯(lián)型和化學(xué)放大型,。

靈敏度即光刻膠上產(chǎn)生一個良好的圖形所需一定波長光的較小能量值（或較小曝光量）,。單位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。光刻膠的敏感性對于波長更短的深紫外光（DUV）,、極深紫外光（EUV）等尤為重要  ,。負(fù)膠通常需5~15 s時間曝光，正膠較慢,，其曝光時間為負(fù)膠的3~4倍  ,。靈敏度反映了光刻膠材料對某種波長的光的反應(yīng)程度。不同的光刻膠對于不同的波長的光是有選擇性的,。比如248 nm波長光刻膠的成膜樹脂中存在苯環(huán)結(jié)構(gòu),，對193 nm波長的光具有很強(qiáng)的吸收作用，即對193 nm波長的光是不透明的,，因此193 nm光刻膠必須改變樹脂主體,。同時，高的產(chǎn)出要求短的曝光時間,，對光刻膠的靈敏度要求也越來越高,。通常以曝光劑量作為衡量光刻膠靈敏度的指標(biāo)，曝光劑量值越小,，光刻膠的靈敏度越高,。i線光刻膠材料曝光劑量在數(shù)百mJ/cm2左右，而KrF和ArF的光刻膠材料,，其曝光劑量則在30和20 mJ/cm2左右 ,。靈敏度可以體現(xiàn)于光刻膠的對比度曲線上。

在CAR技術(shù)體系中,，光刻膠中的光引發(fā)劑經(jīng)過曝光后并不直接改變光刻膠在顯影液中的溶解度,，而是產(chǎn)生酸。在后續(xù)的熱烘培流程的高溫環(huán)境下,，曝光產(chǎn)生的酸作為催化劑改變光刻膠在顯影液中的溶解度,。因此CAR技術(shù)體系下的光引發(fā)劑又叫做光致酸劑。由于CAR光刻膠的光致酸劑產(chǎn)生的酸本身并不會在曝光過程中消耗而是作為催化劑而存在,，因此少量的酸就可以持續(xù)地起到有效作用。CAR光刻膠的光敏感性很強(qiáng),，所需要從深紫外輻射中吸收的能量很少,，因此加強(qiáng)了光刻的效率。CAR光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍左右,。光刻膠行業(yè)日系企業(yè)實力雄厚,，國內(nèi)廠商有望復(fù)刻成功經(jīng)驗。

環(huán)化橡膠型光刻膠：屬于聚烴類——雙疊氮系光刻膠,。這種膠是將天然橡膠溶解后,，用環(huán)化劑環(huán)化制備而成的,。一般來說，橡膠具有較好的耐腐蝕性,，但是它的感光活性很差,。橡膠的分子量在數(shù)十萬以上，因此溶解性甚低,，無論在光刻膠的配制還是顯影過程中都有很大困難,。因此無法直接采用橡膠為原料配制光刻膠。這一類光刻膠的重要組成部分為交聯(lián)劑,，又稱架橋劑,，可以起到光化學(xué)固化作用，依賴于帶有雙感光性官能團(tuán)的交聯(lián)劑參加反應(yīng),，交聯(lián)劑曝光后產(chǎn)生雙自由基,，它和聚烴類樹脂相作用，在聚合物分子鏈之間形成橋鍵,，變?yōu)槿S結(jié)構(gòu)的不溶性物質(zhì),。按顯示效果分類：光刻膠可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。PCB光刻膠顯示面板材料

光刻膠只是一種形象的說法,，因為光刻膠從外觀上呈現(xiàn)為膠狀液體,。浦東TFT-LCD正性光刻膠顯示面板材料

抗蝕性即光刻膠材料在刻蝕過程中的抵抗力。在圖形從光刻膠轉(zhuǎn)移到晶片的過程中,，光刻膠材料必須能夠抵抗高能和高溫（>150℃）而不改變其原有特性  ,。在后續(xù)的刻蝕工序中保護(hù)襯底表面。耐熱穩(wěn)定性,、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力  ,。在濕法刻蝕中，印有電路圖形的光刻膠需要連同硅片一同置入化學(xué)刻蝕液中,，進(jìn)行很多次的濕法腐蝕,。只有光刻膠具有很強(qiáng)的抗蝕性，才能保證刻蝕液按照所希望的選擇比刻蝕出曝光所得圖形,，更好體現(xiàn)器件性能,。在干法刻蝕中，例如集成電路工藝中在進(jìn)行阱區(qū)和源漏區(qū)離子注入時,，需要有較好的保護(hù)電路圖形的能力,，否則光刻膠會因為在注入環(huán)境中揮發(fā)而影響到注入腔的真空度。此時注入的離子將不會起到其在電路制造工藝中應(yīng)起到的作用,，器件的電路性能受阻,。浦東TFT-LCD正性光刻膠顯示面板材料