光刻膠所屬的微電子化學(xué)品是電子行業(yè)與化工行業(yè)交叉的領(lǐng)域，是典型的技術(shù)密集行業(yè),。從事微電子化學(xué)品業(yè)務(wù)需要具備與電子產(chǎn)業(yè)前沿發(fā)展相匹配的關(guān)鍵生產(chǎn)技術(shù)，如混配技術(shù)、分離技術(shù),、純化技術(shù)以及與生產(chǎn)過程相配套的分析檢驗(yàn)技術(shù)、環(huán)境處理與監(jiān)測技術(shù)等,。同時,，下游電子產(chǎn)業(yè)多樣化的使用場景要求微電子化學(xué)品生產(chǎn)企業(yè)有較強(qiáng)的配套能力，以及時研發(fā)和改進(jìn)產(chǎn)品工藝來滿足客戶的個性化需求,。光刻膠的生產(chǎn)工藝主要過程是將感光材料,、樹脂、溶劑等主要原料在恒溫恒濕 1000 級的黃光區(qū)潔凈房進(jìn)行混合,，在氮?dú)鈿怏w保護(hù)下充分?jǐn)嚢?，使其充分混合形成均相液體，經(jīng)過多次過濾,，并通過中間過程控制和檢驗(yàn),，使其達(dá)到工藝技術(shù)和質(zhì)量要求，然后做產(chǎn)品檢驗(yàn),，合格后在氮?dú)鈿怏w保護(hù)下包裝,、打標(biāo)、入庫,。按照化學(xué)結(jié)構(gòu)分類：光刻膠可以分為光聚合型,，光分解型，光交聯(lián)型和化學(xué)放大型,。蘇州光聚合型光刻膠其他助劑

    光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類,，可分為 PCB 光刻膠、顯示面板光刻膠,、半導(dǎo)體光刻膠及其他光刻膠,。全球市場上不同種類光刻膠的市場結(jié)構(gòu)較為均衡。智研咨詢的數(shù)據(jù)還顯示,，受益于半導(dǎo)體,、顯示面板,、PCB產(chǎn)業(yè)東移的趨勢，自 2011年至今,，光刻膠中國本土供應(yīng)規(guī)模年華增長率達(dá)到11%,，高于全球平均 5%的增速。2019年中國光刻膠市場本土企業(yè)銷售規(guī)模約70億元,，全球占比約 10%,，發(fā)展空間巨大。目前,，中國本土光刻膠以PCB用光刻膠為主,，平板顯示、半導(dǎo)體用光刻膠供應(yīng)量占比極低,。嘉定彩色光刻膠溶劑國內(nèi)光刻膠市場增速遠(yuǎn)高于全球,，國內(nèi)企業(yè)投入加大，未來有望實(shí)現(xiàn)技術(shù)趕超,。

離子束光刻技術(shù)可分為聚焦離子束光刻,、離子束投影式光刻。聚焦離子束光刻用途較多,，常以鎵離子修補(bǔ)傳統(tǒng)及相位轉(zhuǎn)移掩膜板,；離子束投影式光刻主要使用150 keV的H+、H2+,、H3+,、He+，以鏤空式模板,，縮小投影（4~5倍） ,。離子束光刻與電子束直寫光刻技術(shù)類似，不需要掩膜板,，應(yīng)用高能離子束直寫,。離子束的散射沒有電子束那么強(qiáng)，因此具有更好的分辨率,。液態(tài)金屬離子源為較簡單的曝光源：在鎢針或鉬針的頂端附上鎵或金硅合金,，加熱融化后經(jīng)由外層為液態(tài)金屬表面產(chǎn)生的場使離子發(fā)射，其發(fā)射面積很?。?lt;10 nm）,，因此利用離子光學(xué)系統(tǒng)可較容易地將發(fā)射的離子聚焦成細(xì)微離子束，從而進(jìn)行高分辨率的離子束曝光,。

在半導(dǎo)體集成電路光刻技術(shù)開始使用深紫外（DUV）光源以后,，化學(xué)放大（CAR）技術(shù)逐漸成為行業(yè)應(yīng)用的主流。在化學(xué)放大光刻膠技術(shù)中,，樹脂是具有化學(xué)基團(tuán)保護(hù)因而難以溶解的聚乙烯,?；瘜W(xué)放大光刻膠使用光致酸劑（PAG）作為光引發(fā)劑。當(dāng)光刻膠曝光后,，曝光區(qū)域的光致酸劑（PAG）將會產(chǎn)生一種酸,。這種酸在后熱烘培工序期間作為催化劑，將會移除樹脂的保護(hù)基團(tuán)從而使得樹脂變得易于溶解,?；瘜W(xué)放大光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍，對深紫外光源具有良好的光學(xué)敏感性,，同時具有高對比度，對高分辨率等優(yōu)點(diǎn),。按照曝光波長分類,；光刻膠可分為紫外光刻膠（300~450nm）、深紫外光刻膠（160~280nm）,、極紫外光刻膠（EUV,，13.5nm）、電子束光刻膠,、離子束光刻膠,、X射線光刻膠等。不同曝光波長的光刻膠,，其適用的光刻極限分辨率不同,。通常來說，在使用工藝方法一致的情況下,，波長越短,，加工分辨率越佳。光刻膠是集成電路制造的重要材料：光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能,、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素,。

在CAR技術(shù)體系中，光刻膠中的光引發(fā)劑經(jīng)過曝光后并不直接改變光刻膠在顯影液中的溶解度,，而是產(chǎn)生酸,。在后續(xù)的熱烘培流程的高溫環(huán)境下，曝光產(chǎn)生的酸作為催化劑改變光刻膠在顯影液中的溶解度,。因此CAR技術(shù)體系下的光引發(fā)劑又叫做光致酸劑,。由于CAR光刻膠的光致酸劑產(chǎn)生的酸本身并不會在曝光過程中消耗而是作為催化劑而存在，因此少量的酸就可以持續(xù)地起到有效作用,。CAR光刻膠的光敏感性很強(qiáng),，所需要從深紫外輻射中吸收的能量很少，因此加強(qiáng)了光刻的效率,。CAR光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍左右,。聚合度越小,，發(fā)生微相分離的尺寸越小，對應(yīng)的光刻圖形越小,。江蘇光刻膠印刷電路板

光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面,。蘇州光聚合型光刻膠其他助劑

在平板顯示行業(yè)：主要使用的光刻膠有彩色及黑色光刻膠、LCD觸摸屏用光刻膠,、TFT-LCD正性光刻膠等,。在光刻和蝕刻生產(chǎn)環(huán)節(jié)中，光刻膠涂覆于晶體薄膜表面,，經(jīng)曝光,、顯影和蝕刻等工序?qū)⒐庹郑ㄑ谀ぐ妫┥系膱D形轉(zhuǎn)移到薄膜上，形成與掩膜版對應(yīng)的幾何圖形,。

在PCB行業(yè),；主要使用的光刻膠有干膜光刻膠、濕膜光刻膠,、感光阻焊油墨等,。干膜是用特殊的薄膜貼在處理后的敷銅板上，進(jìn)行曝光顯影,；濕膜和光成像阻焊油墨則是涂布在敷銅板上,，待其干燥后進(jìn)行曝光顯影。干膜與濕膜各有優(yōu)勢,，總體來說濕膜光刻膠分辨率高于干膜,，價格更低廉，正在對干膜光刻膠的部分市場進(jìn)行替代,。 蘇州光聚合型光刻膠其他助劑