根據(jù)2019年數(shù)據(jù),，全球半導體光刻膠**大廠商占據(jù)全球光刻膠市場87%份額,。其中日本占有四家，分別是JSR,、東京應化(TOK),、信越化學與富士電子材料，這四家的市場份額達到72%,，市場集中度明顯,。在半導體光刻膠細分領(lǐng)域，日本廠商在市場中具有較強話語權(quán),。（1）g/i線光刻膠市場：日本的東京應化,、JSR、住友化學和富士膠片分別占據(jù)26%,、15%,、15%、8%的份額,，在全球市場占據(jù)64%份額,。（2）KrF光刻膠市場：日本企業(yè)東京應化、信越化學和JSR在全球KrF光刻膠細分市場分別占據(jù)34%,、22%和18%份額,，合計占比達到74%。（3）ArF光刻膠市場：日本企業(yè)JSR,、信越化學,、東京應化和住友化學包攬前四，分別占據(jù)全球ArF光刻膠細分市場25%,、23%,、20%和15%市場份額，合計市場份額達到83%,。（4）EUV光刻膠市場：較先進的EUV光刻膠領(lǐng)域完全被日本企業(yè)所主導,，日本JSR,、東京應化、信越化學成為EUV光刻膠市場可實現(xiàn)量產(chǎn)的廠商,。目前引入EUV工藝的*有三星電子和臺積電兩家公司,。經(jīng)過多年技術(shù)積累，國內(nèi)已形成一定光刻膠用電子化學品產(chǎn)能,，國內(nèi)公司市場份額逐步提升,，國產(chǎn)替代正在進行。嘉定ArF光刻膠

在半導體集成電路光刻技術(shù)開始使用深紫外（DUV）光源以后,，化學放大（CAR）技術(shù)逐漸成為行業(yè)應用的主流,。在化學放大光刻膠技術(shù)中，樹脂是具有化學基團保護因而難以溶解的聚乙烯,?；瘜W放大光刻膠使用光致酸劑（PAG）作為光引發(fā)劑。當光刻膠曝光后,，曝光區(qū)域的光致酸劑（PAG）將會產(chǎn)生一種酸,。這種酸在后熱烘培工序期間作為催化劑，將會移除樹脂的保護基團從而使得樹脂變得易于溶解,?；瘜W放大光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍，對深紫外光源具有良好的光學敏感性,，同時具有高對比度,，對高分辨率等優(yōu)點。按照曝光波長分類,；光刻膠可分為紫外光刻膠（300~450nm）,、深紫外光刻膠（160~280nm）、極紫外光刻膠（EUV,，13.5nm）,、電子束光刻膠、離子束光刻膠,、X射線光刻膠等,。不同曝光波長的光刻膠，其適用的光刻極限分辨率不同,。通常來說,，在使用工藝方法一致的情況下，波長越短,，加工分辨率越佳,。負性光刻膠溶劑在PCB行業(yè)：主要使用的光刻膠有干膜光刻膠、濕膜光刻膠,、感光阻焊油墨等,。

在半導體集成電路制造行業(yè),；主要使用g線光刻膠、i線光刻膠,、KrF光刻膠,、ArF光刻膠等。在大規(guī)模集成電路的制造過程中,，一般要對硅片進行超過十次光刻,。在每次的光刻和刻蝕工藝中，光刻膠都要通過預烘,、涂膠,、前烘、對準,、曝光,、后烘、顯影和蝕刻等環(huán)節(jié),，將光罩（掩膜版）上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上,。

光刻膠是集成電路制造的重要材料：光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素,。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的35%，并且耗費時間約占整個芯片工藝的40%-50%,。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%,，市場巨大。因此光刻膠是半導體集成電路制造的重要材料,。

中美貿(mào)易摩擦：光刻膠國產(chǎn)代替是中國半導體產(chǎn)業(yè)的迫切需要,；自從中美貿(mào)易摩擦依賴，中國大陸積極布局集成電路產(chǎn)業(yè),。在半導體材料領(lǐng)域,，光刻膠作為是集成電路制程技術(shù)進步的“燃料”，是國產(chǎn)代替重要環(huán)節(jié),，也是必將國產(chǎn)化的產(chǎn)品,。光刻是半導制程的重要工藝，對制造出更先進,，晶體管密度更大的集成電路起到?jīng)Q定性作用,。每一代新的光刻工藝都需要新一代的光刻膠技術(shù)相匹配。現(xiàn)在,，一塊半導體芯片在制造過程中一般需要進行10-50道光刻過程,。其中不同的光刻過程對于光刻膠也有不一樣的具體需求。光刻膠若性能不達標會對芯片成品率造成重大影響,。光刻膠的研發(fā)是不斷進行配方調(diào)試的過程,，且難以通過現(xiàn)有產(chǎn)品反向解構(gòu)出其配方,，這對技術(shù)有很大的要求。

光刻膠所屬的微電子化學品是電子行業(yè)與化工行業(yè)交叉的領(lǐng)域,，是典型的技術(shù)密集行業(yè),。從事微電子化學品業(yè)務(wù)需要具備與電子產(chǎn)業(yè)前沿發(fā)展相匹配的關(guān)鍵生產(chǎn)技術(shù)，如混配技術(shù),、分離技術(shù),、純化技術(shù)以及與生產(chǎn)過程相配套的分析檢驗技術(shù)、環(huán)境處理與監(jiān)測技術(shù)等,。同時,，下游電子產(chǎn)業(yè)多樣化的使用場景要求微電子化學品生產(chǎn)企業(yè)有較強的配套能力，以及時研發(fā)和改進產(chǎn)品工藝來滿足客戶的個性化需求,。光刻膠的生產(chǎn)工藝主要過程是將感光材料,、樹脂、溶劑等主要原料在恒溫恒濕 1000 級的黃光區(qū)潔凈房進行混合,，在氮氣氣體保護下充分攪拌,，使其充分混合形成均相液體，經(jīng)過多次過濾,，并通過中間過程控制和檢驗,，使其達到工藝技術(shù)和質(zhì)量要求，然后做產(chǎn)品檢驗,，合格后在氮氣氣體保護下包裝,、打標、入庫,。在集成電路制造領(lǐng)域,，如果說光刻機是推動制程技術(shù)進步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”,。上海正性光刻膠

光刻膠行業(yè)長年被日本和美國專業(yè)公司壟斷,。嘉定ArF光刻膠

半導體光刻膠市場中除了美國杜邦，其余四家均為日本企業(yè),。其中JSR,、TOK的產(chǎn)品可以覆蓋所有半導體光刻膠品種，尤其在EUV市場高度壟斷,。近年來,，隨著光刻膠的需求攀升，疊加日本減產(chǎn),，光刻膠出現(xiàn)供不應求的局面,，部分中小晶圓廠甚至出現(xiàn)了“斷供”現(xiàn)象。目前大陸企業(yè)在g/i線光刻膠已形成一定規(guī)模的銷售，光刻膠方面,，彤程新材的KrF光刻膠產(chǎn)品已批量供應國內(nèi)主要12英寸,、8英寸晶圓廠，晶瑞電材KrF光刻膠加緊建設(shè)中,，另有多家企業(yè)ArF光刻膠研發(fā)順利進行,，其中南大光電ArF產(chǎn)品已通過下游客戶驗證，有望在未來形成銷售,。光刻膠保質(zhì)期通常在6個月以內(nèi),，無法囤貨，一旦斷供可能會引起停產(chǎn)的嚴重局面,，由此國產(chǎn)化重要性更加凸顯,。嘉定ArF光刻膠