雖然在2007年之后，一些波長(zhǎng)更短的準(zhǔn)分子光刻光源技術(shù)陸續(xù)出現(xiàn),，但是這些波段的輻射都很容易被光刻鏡頭等光學(xué)材料吸收，使這些材料受熱產(chǎn)生膨脹而無(wú)法正常工作,。少數(shù)可以和這些波段的輻射正常工作的光學(xué)材料,，比如氟化鈣（螢石）等,，成本長(zhǎng)期居高不下,。再加上浸沒(méi)光刻和多重曝光等新技術(shù)的出現(xiàn),，193nm波長(zhǎng)ArF光刻系統(tǒng)突破了此前 65nm 分辨率的瓶頸,，所以在45nm 到10nm之間的半導(dǎo)體制程工藝中,，ArF光刻技術(shù)仍然得到了很大的應(yīng)用。在與浸沒(méi)光刻相對(duì)的干法光刻中，光刻透鏡與光刻膠之間是空氣,。光刻膠直接吸收光源發(fā)出的紫外輻射并發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。在浸沒(méi)光刻中,，光刻鏡頭與光刻膠之間是特定液體。這些液體可以是純水也可以是別的化合物液體。光刻光源發(fā)出的輻射經(jīng)過(guò)這些液體的時(shí)候發(fā)生了折射，波長(zhǎng)變短,。這樣,，在不改變光源的前提條件下,，更短波長(zhǎng)的紫外光被投影光刻膠上,，提高了光刻加工的分辨率,。光刻膠通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光,、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上,。江蘇半導(dǎo)體光刻膠顯影

肉桂酸酯類的光刻膠：這類光刻膠在紫外光的照射下，肉桂酸上的不飽和鍵會(huì)打開(kāi),，產(chǎn)生自由基,，形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)。主要品種有聚乙烯醇肉桂酸酯光刻膠,、聚乙烯氧乙基肉桂酸酯光刻膠和肉桂叉二酯光刻膠等,。前者膠是早期被用于光刻膠制備的光敏高分子化合物，對(duì)二氧化硅,、鋁,、氧化鉻等材料都有良好的附著力，耐氫氟酸,、磷酸腐蝕,；中者膠在曝光下幾乎不受氧的影響，無(wú)須氮?dú)獗Ｗo(hù),，分辨率1 μm左右,，靈敏度較前者膠高1倍，黏附性好,，抗蝕能力強(qiáng),，圖形清晰、線條整齊,，耐熱性好,，顯影后可在190℃堅(jiān)膜0.5 h不變質(zhì)，感光范圍在250~475 nm,，特別對(duì)436 nm十分敏感,，屬線型高分子聚合物；第三種膠能溶于酮類,、烷烴等溶劑,，不溶于水、乙醇等,。有較好的黏附性和感光性 ,，分辨率也很高，感光速度快,。蘇州正性光刻膠溶劑光刻膠生產(chǎn)工藝復(fù)雜,，技術(shù)壁壘高，其研發(fā)和量產(chǎn)對(duì)企業(yè)都具有極高要求,。

光刻膠屬于半導(dǎo)體八大重要材料之一,，根據(jù)全球半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)（SEMI）近期數(shù)據(jù),，光刻膠在半導(dǎo)體晶圓制造材料價(jià)值占比5%，光刻膠輔助材料占比7%,，二者合計(jì)占比12%,，光刻膠及輔助材料是繼硅片、電子特氣和光掩模之后的第四大半導(dǎo)體材料,。光刻膠又稱光致抗蝕劑,，是指通過(guò)紫外光、電子束,、離子束,、X射線等照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料,，目前被用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路加工制作環(huán)節(jié),。光刻膠由增感劑（光引發(fā)劑）、感光樹(shù)脂（聚合劑）,、溶劑與助劑構(gòu)成,。

包括光刻膠在內(nèi)的微電子化學(xué)品有技術(shù)要求高、功能性強(qiáng),、產(chǎn)品更新快等特點(diǎn),，其產(chǎn)品品質(zhì)對(duì)下游電子產(chǎn)品的質(zhì)量和效率有非常大的影響。因此,，下游企業(yè)對(duì)微電子化學(xué)品供應(yīng)商的質(zhì)量和供貨能力十分重視,，常采用認(rèn)證采購(gòu)的模式，需要通過(guò)送樣檢驗(yàn),、技術(shù)研討,、信息回饋、技術(shù)改進(jìn),、小批試做,、大批量供貨、售后服務(wù)評(píng)價(jià)等嚴(yán)格的篩選流程,。認(rèn)證時(shí)間久,，要求嚴(yán)苛；一般產(chǎn)品得到下游客戶的認(rèn)證需要較長(zhǎng)的時(shí)間周期,。顯示面板行業(yè)通常為1-2年,，集成電路行業(yè)由于要求較高，認(rèn)證周期能達(dá)到2-3年時(shí)間,；認(rèn)證階段內(nèi),，光刻膠供應(yīng)商沒(méi)有該客戶的收入,，這需要供應(yīng)收有足夠的資金實(shí)力,。光刻膠供應(yīng)商與客戶粘性大,；一般情況下，為了保持光刻膠供應(yīng)和效果的穩(wěn)定,，下游客戶與光刻膠供應(yīng)商一旦建立供應(yīng)關(guān)系后,，不會(huì)輕易更換。通過(guò)建立反饋機(jī)制,，滿足個(gè)性化需求,，光刻膠供應(yīng)商與客戶的粘性不斷增加。后來(lái)者想要加入到供應(yīng)商行列,，往往需要滿足比現(xiàn)有供應(yīng)商更高的要求,。所以光刻膠行業(yè)對(duì)新進(jìn)入者壁壘較高。光刻膠的國(guó)產(chǎn)化公關(guān)正在展開(kāi),，在面板屏顯光刻膠領(lǐng)域,，中國(guó)已經(jīng)出現(xiàn)了一批有競(jìng)爭(zhēng)力的本土企業(yè)。

g-line與i-line光刻膠均使用線性酚醛成分作為樹(shù)脂主體,，重氮萘醌成分（DQN 體系）作為感光劑。未經(jīng)曝光的DQN成分作為抑制劑,，可以十倍或者更大的倍數(shù)降低光刻膠在顯影液中的溶解速度,。曝光后,，重氮萘醌(DQN)基團(tuán)轉(zhuǎn)變?yōu)橄┩?，與水接觸時(shí),，進(jìn)一步轉(zhuǎn)變?yōu)檐崃u酸，從而得以在曝光區(qū)被稀堿水顯影時(shí)除去,。由此，曝光過(guò)的光刻膠會(huì)溶解于顯影液而被去除,，而未曝光的光刻膠部分則得以保留。雖然g-line光刻膠和i-line 光刻膠使用的成分類似,，但是其樹(shù)脂和感光劑在微觀結(jié)構(gòu)上均有變化，因而具有不同的分辨率,。G-line光刻膠適用于0.5um(500nm)以上尺寸的集成電路制作，而i-line光刻膠使用于0.35um（350nm至0.5um（500nm）尺寸的集成電路制作。光刻膠的研發(fā)是不斷進(jìn)行配方調(diào)試的過(guò)程,，且難以通過(guò)現(xiàn)有產(chǎn)品反向解構(gòu)出其配方，這對(duì)技術(shù)有很大的要求,。江蘇濕膜光刻膠

光刻膠行業(yè)的上下游合作處于互相依存的關(guān)系,，市場(chǎng)新進(jìn)入者很難與現(xiàn)有企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)，簽約新客戶的難度高,。江蘇半導(dǎo)體光刻膠顯影

光刻膠行業(yè)具有極高的行業(yè)壁壘,，因此在全球范圍其行業(yè)都呈現(xiàn)寡頭壟斷的局面,。光刻膠行業(yè)長(zhǎng)年被日本和美國(guó)專業(yè)公司壟斷,。目前大廠商就占據(jù)了全球光刻膠市場(chǎng) 87%的份額,，行業(yè)集中度高。其中,，日本 JSR、東京應(yīng)化,、日本信越與富士電子材料市占率加和達(dá)到72%。并且高分辨率的 KrF 和 ArF 半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)亦基本被日本和美國(guó)企業(yè)所壟斷,，產(chǎn)品絕大多數(shù)出自日本和美國(guó)公司,，如杜邦、JSR 株式會(huì)社,、信越化學(xué)、東京應(yīng)化工業(yè),、Fujifilm，以及韓國(guó)東進(jìn)等企業(yè),。整個(gè)光刻膠市場(chǎng)格局來(lái)看,，日本是光刻膠行業(yè)的巨頭聚集地。江蘇半導(dǎo)體光刻膠顯影