此外,，光刻膠也可以用于液晶平板顯示等較大面積電子產(chǎn)品的制作,。90年代后半期,，遵從摩爾定律的指引,，半導(dǎo)體制程工藝尺寸開始縮小到0.35um（350nm）以下,，因而開始要求更高分辨率的光刻技術(shù),。深紫外光由于波長更短,，衍射作用小,，所以可以用于更高分辨率的光刻光源,。隨著 KrF、ArF等稀有氣體鹵化物準(zhǔn)分子激發(fā)態(tài)激光光源研究的發(fā)展,，248nm（KrF）,、193nnm（ArF）的光刻光源技術(shù)開始成熟并投入實際使用。然而,由于 DQN 體系光刻膠對深紫外光波段的強(qiáng)烈吸收效應(yīng)，KrF和ArF作為光刻氣體產(chǎn)生的射光無法穿透DQN光刻膠,，這意味著光刻分辨率會受到嚴(yán)重影響,。因此深紫外光刻膠采取了與i-line和g-line光刻膠完全不同的技術(shù)體系，這種技術(shù)體系被稱為化學(xué)放大光阻體系(Chemically Amplified Resist, CAR),。亞甲基雙苯醚型光刻膠：這種類型的光刻膠適用于制造精度較低的電路元件,。普陀彩色光刻膠其他助劑

目前中國光刻膠國產(chǎn)化水平嚴(yán)重不足，重點技術(shù)差距在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域,，有2-3代差距,，隨著下游半導(dǎo)體行業(yè)、LED及平板顯示行業(yè)的快速發(fā)展,，未來國內(nèi)光刻膠產(chǎn)品國產(chǎn)化替代空間巨大,。當(dāng)今，中國通過國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金（大基金）撬動全社會資源對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進(jìn)行投資和扶持,。同時,，國內(nèi)光刻膠企業(yè)積極抓住中國晶圓制造擴(kuò)產(chǎn)的百年機(jī)遇，發(fā)展光刻膠業(yè)務(wù),，力爭早日追上國際先進(jìn)水平,，打進(jìn)國內(nèi)新建晶圓廠的供應(yīng)鏈。光刻膠的國產(chǎn)化公關(guān)正在展開,，在面板屏顯光刻膠領(lǐng)域,，中國已經(jīng)出現(xiàn)了一批有競爭力的本土企業(yè)。在半導(dǎo)體和面板光刻膠領(lǐng)域,，盡管國產(chǎn)光刻膠距離國際先進(jìn)水平仍然有差距，但是在政策的支持和自身的不懈努力之下,，中國已經(jīng)有一批光刻膠企業(yè)陸續(xù)實現(xiàn)了技術(shù)突破,。華東TFT-LCD正性光刻膠樹脂在選擇光刻膠時需要考慮化學(xué)性質(zhì)、照射時間,、敏感度和穩(wěn)定性等因素,，以確保所選的光刻膠能夠滿足制造要求。

光刻膠是集成電路領(lǐng)域微加工的關(guān)鍵性材料,，為推動光刻膠等半導(dǎo)體材料行業(yè)的發(fā)展,，近年來，我國發(fā)布了多項利好政策支持光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展,，同時國內(nèi)企業(yè)也積極研發(fā)產(chǎn)品,，主動尋求光刻膠及其他材料國產(chǎn)化。現(xiàn)階段,，我國光刻膠企業(yè)有晶瑞電材,、彤程新材,、華懋科技、南大光電等,，在國產(chǎn)替代大契機(jī)下,，國內(nèi)光刻膠企業(yè)將迎來發(fā)展良機(jī)。國內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈下游企業(yè)逐漸意識到材料國產(chǎn)化的重要性,，國內(nèi)廠商也在積極研發(fā)產(chǎn)品,、加速客戶和產(chǎn)品導(dǎo)入、擴(kuò)建相關(guān)產(chǎn)能,，在探索中砥礪前行,，從而抓住國產(chǎn)化的契機(jī)。目前已有少數(shù)企業(yè)已開始嶄露頭角,，實現(xiàn)從0到1的突破,。

隨著IC集成度的提高，世界集成電路的制程工藝水平按已由微米級,、亞微米級,、深亞微米級進(jìn)入到納米級階段。集成電路線寬不斷縮小的趨勢,，對包括光刻在內(nèi)的半導(dǎo)體制程工藝提出了新的挑戰(zhàn)。在半導(dǎo)體制程的光刻工藝中,，集成電路線寬的特征尺寸可以由如右所示的瑞利公式確定：CD=k1*λ/NA,。CD (Critical Dimension)表示集成電路制程中的特征尺寸；k1是瑞利常數(shù),，是光刻系統(tǒng)中工藝和材料的一個相關(guān)系數(shù)；λ是曝光波長,，而NA(Numerical Aperture)則是指光刻機(jī)的孔徑數(shù)值,。因此，光刻機(jī)需要通過降低瑞利常數(shù)和曝光波長,，增大孔徑尺寸來制造具有更小特征尺寸的集成電路,。其中降低曝光波長與光刻機(jī)使用的光源以及光刻膠材料高度相關(guān)。碳酸甲酯型光刻膠：這種類型的光刻膠在制造高分辨率電路元件方面非常有用,。

包括光刻膠在內(nèi)的微電子化學(xué)品有技術(shù)要求高,、功能性強(qiáng)、產(chǎn)品更新快等特點,，其產(chǎn)品品質(zhì)對下游電子產(chǎn)品的質(zhì)量和效率有非常大的影響,。因此，下游企業(yè)對微電子化學(xué)品供應(yīng)商的質(zhì)量和供貨能力十分重視,，常采用認(rèn)證采購的模式,，需要通過送樣檢驗、技術(shù)研討,、信息回饋,、技術(shù)改進(jìn)、小批試做,、大批量供貨,、售后服務(wù)評價等嚴(yán)格的篩選流程。認(rèn)證時間久,，要求嚴(yán)苛,；一般產(chǎn)品得到下游客戶的認(rèn)證需要較長的時間周期。顯示面板行業(yè)通常為1-2年,，集成電路行業(yè)由于要求較高,，認(rèn)證周期能達(dá)到2-3年時間；認(rèn)證階段內(nèi),，光刻膠供應(yīng)商沒有該客戶的收入,，這需要供應(yīng)收有足夠的資金實力。光刻膠供應(yīng)商與客戶粘性大,；一般情況下,，為了保持光刻膠供應(yīng)和效果的穩(wěn)定,，下游客戶與光刻膠供應(yīng)商一旦建立供應(yīng)關(guān)系后,，不會輕易更換。通過建立反饋機(jī)制,，滿足個性化需求,，光刻膠供應(yīng)商與客戶的粘性不斷增加。后來者想要加入到供應(yīng)商行列,，往往需要滿足比現(xiàn)有供應(yīng)商更高的要求,。所以光刻膠行業(yè)對新進(jìn)入者壁壘較高,。光刻膠的國產(chǎn)化公關(guān)正在展開,，在面板屏顯光刻膠領(lǐng)域，中國已經(jīng)出現(xiàn)了一批有競爭力的本土企業(yè),。正性光刻膠

光刻膠生產(chǎn)工藝復(fù)雜，技術(shù)壁壘高,，其研發(fā)和量產(chǎn)對企業(yè)都具有極高要求,。普陀彩色光刻膠其他助劑

質(zhì)量控制技術(shù)：由于用戶對光刻膠的穩(wěn)定性、一致性要求高,，包括不同批次間的一致性,，通常希望對感光靈敏度,、膜厚的一致性保持在較高水平，因此,，光刻膠生產(chǎn)商不僅要配備齊全的測試儀器,，還需要建立一套嚴(yán)格的QA體系以保證產(chǎn)品的質(zhì)量穩(wěn)定。原材料技術(shù)：光刻膠是一種經(jīng)過嚴(yán)格設(shè)計的復(fù)雜,、精密的配方產(chǎn)品,，由成膜劑、光敏劑,、溶劑和添加劑等不同性質(zhì)的原料,，通過不同的排列組合，經(jīng)過復(fù)雜,、精密的加工工藝而制成,。因此，光刻膠原材料的品質(zhì)對光刻膠的質(zhì)量起著關(guān)鍵作用,。對于半導(dǎo)體化學(xué)化學(xué)試劑的純度,，際半導(dǎo)體設(shè)備和材料組織（SEMI）制定了國際統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)。普陀彩色光刻膠其他助劑