光刻膠的產(chǎn)業(yè)鏈中游：為光刻膠制造環(huán)節(jié),，當前全球光刻膠生產(chǎn)制造商主要被日本JSR,、信越化學,、住友化學,、東京應化,、美國陶氏化學等制造商所壟斷,，中國本土企業(yè)在光刻膠市場的份額較低,，與國外光刻膠制造商相比仍存明顯差距,。
光刻膠的產(chǎn)業(yè)鏈下游：主要涉及半導體,、平板顯示器,、PCB等領域。伴隨消費升級,、應用終端產(chǎn)品更新迭代速度加快,，下游應用領域企業(yè)對半導體、平板顯示和PCB制造提出愈加精細化的要求,，將帶動光刻膠行業(yè)持續(xù)發(fā)展,。 國內(nèi)光刻膠市場增速遠高于全球，國內(nèi)企業(yè)投入加大,，未來有望實現(xiàn)技術趕超,。昆山顯示面板光刻膠溶劑
質量控制技術：由于用戶對光刻膠的穩(wěn)定性、一致性要求高,，包括不同批次間的一致性,，通常希望對感光靈敏度、膜厚的一致性保持在較高水平,，因此,，光刻膠生產(chǎn)商不僅要配備齊全的測試儀器，還需要建立一套嚴格的QA體系以保證產(chǎn)品的質量穩(wěn)定,。原材料技術：光刻膠是一種經(jīng)過嚴格設計的復雜,、精密的配方產(chǎn)品，由成膜劑,、光敏劑,、溶劑和添加劑等不同性質的原料，通過不同的排列組合,，經(jīng)過復雜,、精密的加工工藝而制成,。因此,，光刻膠原材料的品質對光刻膠的質量起著關鍵作用,。對于半導體化學化學試劑的純度，際半導體設備和材料組織（SEMI）制定了國際統(tǒng)一標準,。嘉定光聚合型光刻膠光刻膠發(fā)展至今已有百年歷史,，現(xiàn)已用于集成電路、顯示,、PCB 等領域,，是光刻工藝的重要材料。
肉桂酸酯類的光刻膠：這類光刻膠在紫外光的照射下,，肉桂酸上的不飽和鍵會打開,，產(chǎn)生自由基，形成交聯(lián)結構,。主要品種有聚乙烯醇肉桂酸酯光刻膠,、聚乙烯氧乙基肉桂酸酯光刻膠和肉桂叉二酯光刻膠等。前者膠是早期被用于光刻膠制備的光敏高分子化合物,，對二氧化硅,、鋁、氧化鉻等材料都有良好的附著力,，耐氫氟酸,、磷酸腐蝕；中者膠在曝光下幾乎不受氧的影響,，無須氮氣保護,，分辨率1 μm左右，靈敏度較前者膠高1倍,，黏附性好,，抗蝕能力強，圖形清晰,、線條整齊,，耐熱性好，顯影后可在190℃堅膜0.5 h不變質,，感光范圍在250~475 nm,，特別對436 nm十分敏感，屬線型高分子聚合物,；第三種膠能溶于酮類,、烷烴等溶劑，不溶于水,、乙醇等,。有較好的黏附性和感光性 ，分辨率也很高，感光速度快,。
中國半導體光刻膠市場規(guī)模增速超過全球,。隨著半導體制程節(jié)點不斷縮小，光刻工藝對光刻膠要求越來越高,，需求量也越來越大,。據(jù)智研咨詢數(shù)據(jù)，2018年全球半導體用光刻膠市場規(guī)模約13億美元,，年復合增速為5.4%,，預計未來5年年均增速約8%-10%；中國半導體用光刻膠市場規(guī)模約23億元人民幣,，年復合增速為9.8%,，預計未來5年年均增速約10%。以前,，光刻膠主要依賴進口,，隨著科技的逐漸發(fā)展，國產(chǎn)化光刻膠趨勢越來越明顯,，相信國內(nèi)光刻膠技術會越來越成熟,，光刻膠國產(chǎn)化是必然趨勢。金屬氧化物光刻膠使用金屬離子及有機配體構建其主體結構,，借助光敏基團實現(xiàn)光刻膠所需的性能,。
光刻膠按應用領域分類，可分為 PCB 光刻膠,、顯示面板光刻膠,、半導體光刻膠及其他光刻膠。全球市場上不同種類光刻膠的市場結構較為均衡,。智研咨詢的數(shù)據(jù)還顯示,，受益于半導體、顯示面板,、PCB產(chǎn)業(yè)東移的趨勢,，自 2011年至今，光刻膠中國本土供應規(guī)模年華增長率達到11%,，高于全球平均 5%的增速,。2019年中國光刻膠市場本土企業(yè)銷售規(guī)模約70億元，全球占比約 10%,，發(fā)展空間巨大,。目前，中國本土光刻膠以PCB用光刻膠為主,，平板顯示,、半導體用光刻膠供應量占比極低,。我國光刻膠行業(yè)起步較晚，生產(chǎn)能力主要集中在 PCB 光刻膠,、TN/STN-LCD 光刻膠等中低端產(chǎn)品,。浦東光分解型光刻膠
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料,，受到光照后特性會發(fā)生改變,，主要應用于電子工業(yè)和印刷工業(yè)領域,。昆山顯示面板光刻膠溶劑
在半導體集成電路光刻技術開始使用深紫外（DUV）光源以后,，化學放大（CAR）技術逐漸成為行業(yè)應用的主流。在化學放大光刻膠技術中,，樹脂是具有化學基團保護因而難以溶解的聚乙烯,。化學放大光刻膠使用光致酸劑（PAG）作為光引發(fā)劑,。當光刻膠曝光后,，曝光區(qū)域的光致酸劑（PAG）將會產(chǎn)生一種酸。這種酸在后熱烘培工序期間作為催化劑,，將會移除樹脂的保護基團從而使得樹脂變得易于溶解,。化學放大光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍,，對深紫外光源具有良好的光學敏感性,，同時具有高對比度，對高分辨率等優(yōu)點,。按照曝光波長分類,；光刻膠可分為紫外光刻膠（300~450nm）、深紫外光刻膠（160~280nm）,、極紫外光刻膠（EUV,，13.5nm）、電子束光刻膠,、離子束光刻膠,、X射線光刻膠等。不同曝光波長的光刻膠,，其適用的光刻極限分辨率不同,。通常來說，在使用工藝方法一致的情況下,，波長越短,，加工分辨率越佳。昆山顯示面板光刻膠溶劑