在半導(dǎo)體集成電路光刻技術(shù)開始使用深紫外（DUV）光源以后，化學(xué)放大（CAR）技術(shù)逐漸成為行業(yè)應(yīng)用的主流,。在化學(xué)放大光刻膠技術(shù)中,，樹脂是具有化學(xué)基團(tuán)保護(hù)因而難以溶解的聚乙烯?；瘜W(xué)放大光刻膠使用光致酸劑（PAG）作為光引發(fā)劑。當(dāng)光刻膠曝光后，曝光區(qū)域的光致酸劑（PAG）將會產(chǎn)生一種酸,。這種酸在后熱烘培工序期間作為催化劑，將會移除樹脂的保護(hù)基團(tuán)從而使得樹脂變得易于溶解,?；瘜W(xué)放大光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍，對深紫外光源具有良好的光學(xué)敏感性,，同時具有高對比度,，對高分辨率等優(yōu)點(diǎn)。按照曝光波長分類,；光刻膠可分為紫外光刻膠（300~450nm）,、深紫外光刻膠（160~280nm）,、極紫外光刻膠（EUV，13.5nm）,、電子束光刻膠,、離子束光刻膠、X射線光刻膠等,。不同曝光波長的光刻膠,，其適用的光刻極限分辨率不同。通常來說,，在使用工藝方法一致的情況下,，波長越短，加工分辨率越佳,。在平板顯示行業(yè),；主要使用的光刻膠有彩色及黑色光刻膠、LCD觸摸屏用光刻膠,、TFT-LCD正性光刻膠等,。江蘇半導(dǎo)體光刻膠顯影

光刻膠的產(chǎn)業(yè)鏈中游：為光刻膠制造環(huán)節(jié)，當(dāng)前全球光刻膠生產(chǎn)制造商主要被日本JSR,、信越化學(xué),、住友化學(xué)、東京應(yīng)化,、美國陶氏化學(xué)等制造商所壟斷,，中國本土企業(yè)在光刻膠市場的份額較低，與國外光刻膠制造商相比仍存明顯差距,。

光刻膠的產(chǎn)業(yè)鏈下游：主要涉及半導(dǎo)體,、平板顯示器、PCB等領(lǐng)域,。伴隨消費(fèi)升級,、應(yīng)用終端產(chǎn)品更新迭代速度加快，下游應(yīng)用領(lǐng)域企業(yè)對半導(dǎo)體,、平板顯示和PCB制造提出愈加精細(xì)化的要求,，將帶動光刻膠行業(yè)持續(xù)發(fā)展。 浙江濕膜光刻膠溶劑國內(nèi)光刻膠市場增速遠(yuǎn)高于全球,，國內(nèi)企業(yè)投入加大,，未來有望實(shí)現(xiàn)技術(shù)趕超。

伴隨全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)東移,，加上我國持續(xù)增長的下游需求和政策支持力度,。同時，國內(nèi)晶圓廠進(jìn)入投產(chǎn)高峰期,，由于半導(dǎo)體光刻膠與下游晶圓廠具有伴生性特點(diǎn),，國內(nèi)光刻膠廠商將直接受益于晶圓廠制造產(chǎn)能的大幅擴(kuò)張,。當(dāng)前我國光刻膠與全球先進(jìn)水平有近40年的差距，半導(dǎo)體國產(chǎn)化的大趨勢下,，國內(nèi)企業(yè)有望逐步突破與國內(nèi)集成電路制造工藝相匹配的光刻膠,，所以必須要對光刻膠足夠的重視，不斷向日本和歐美等發(fā)達(dá)國家學(xué)習(xí),，努力開發(fā)出性能優(yōu)異的國產(chǎn)光刻膠,，使我國在未來的市場中占據(jù)一席之地。

環(huán)化橡膠型光刻膠：屬于聚烴類——雙疊氮系光刻膠,。這種膠是將天然橡膠溶解后,，用環(huán)化劑環(huán)化制備而成的。一般來說,，橡膠具有較好的耐腐蝕性,，但是它的感光活性很差。橡膠的分子量在數(shù)十萬以上,，因此溶解性甚低,，無論在光刻膠的配制還是顯影過程中都有很大困難。因此無法直接采用橡膠為原料配制光刻膠,。這一類光刻膠的重要組成部分為交聯(lián)劑,，又稱架橋劑，可以起到光化學(xué)固化作用,，依賴于帶有雙感光性官能團(tuán)的交聯(lián)劑參加反應(yīng),，交聯(lián)劑曝光后產(chǎn)生雙自由基，它和聚烴類樹脂相作用,，在聚合物分子鏈之間形成橋鍵,，變?yōu)槿S結(jié)構(gòu)的不溶性物質(zhì)。在PCB行業(yè)：主要使用的光刻膠有干膜光刻膠,、濕膜光刻膠,、感光阻焊油墨等,。

光刻膠的產(chǎn)業(yè)鏈上游：主要涉及溶劑,、樹脂、光敏劑等原材料供應(yīng)商和光刻機(jī),、顯影機(jī),、檢測與測試等設(shè)備供應(yīng)商。從原材料市場來看,，由于中國從事光刻膠原材料研發(fā)及生產(chǎn)的供應(yīng)商較少,，中國光刻膠原材料市場主要被日本,、韓國和美國廠商所占據(jù),。從設(shè)備市場來看，中國在光刻機(jī),、顯影機(jī)、檢測與測試設(shè)備行業(yè)的起步時間較晚,，且這些設(shè)備具備較高的制造工藝壁壘,，導(dǎo)致中國在光刻膠,、顯影機(jī)、檢測與測試設(shè)備的國產(chǎn)化程度均低于10%,。相信后期國產(chǎn)化程度會越來越高。有機(jī)-無機(jī)雜化光刻膠結(jié)合了有機(jī)和無機(jī)材料的優(yōu)點(diǎn),，在可加工性、抗蝕刻性,、極紫外光吸收具有優(yōu)勢,。浙江顯示面板光刻膠

光刻膠行業(yè)的上下游合作處于互相依存的關(guān)系，市場新進(jìn)入者很難與現(xiàn)有企業(yè)競爭,，簽約新客戶的難度高。江蘇半導(dǎo)體光刻膠顯影

光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑,，是指通過紫外光,、電子束,、離子束、X射線等的照射或輻射,，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂,、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中,，用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時，若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的光刻膠,，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性,、負(fù)性兩大類。在光刻膠工藝過程中,，涂層曝光、顯影后,，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來,，該涂層材料為正性光刻膠,。如果曝光部分被保留下來,，而未曝光被溶解，該涂層材料為負(fù)性光刻膠,。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠（包括紫外正,、負(fù)性光刻膠）、深紫外光刻膠,、X-射線膠、電子束膠,、離子束膠等,。光刻膠主要應(yīng)用于顯示面板,、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細(xì)微圖形加工作業(yè) 。光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復(fù)雜,，品種規(guī)格較多,，在電子工業(yè)集成電路的制造中,，對所使用光刻膠有嚴(yán)格的要求。江蘇半導(dǎo)體光刻膠顯影