賽瑞達智能電子裝備（無錫）有限公司2025-03-09

控制擴散均勻性至關重要,。首先,，要確保擴散爐內溫度分布均勻,，這需要高質量的加熱元件和精細的溫度控制系統(tǒng),，使爐內各位置溫度偏差控制在極小范圍內。其次,，POCl?蒸汽在爐內的分布均勻性很關鍵,。通過合理設計氣體輸送管道和流量控制系統(tǒng)，讓攜帶 POCl?蒸汽的氣體能均勻地覆蓋硅片表面,。此外,，硅片在爐內的放置方式也有影響，一般采用專門設計的載具,，保證硅片之間的間距均勻,，避免相互遮擋，使每個硅片都能在相同的環(huán)境下進行擴散反應,，從而保證擴散的均勻性,。?

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