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來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-05-09

1.顯影液:顯影液是一種溶液,,用于在PCB板上顯示銅線軌道的比例和位置,,使其成為可以用于焊接元件的良好的PCB板,。2.剝離液:剝離液是一種特殊的溶劑,,用于將PCB板上的銅線軌道剝離開,以便重新焊接元件,。3.蝕刻液:蝕刻液是一種酸性溶液,,用于將PCB板上的銅線軌道腐蝕掉,,以便重新焊接元件,。4.清洗液:清洗液是一種混合物,,用于將PCB板上的塵埃,、污垢和其他殘留物消除干凈,,以便進(jìn)行焊接和裝配,。

1.顯影液:是指用于顯影制版的液體,一般由溶劑,、硫酸銅,、有機(jī)酸和抗氧化劑等組成。2.剝離液:是指用于把制版上的顯影膜剝離出來的液體,一般由硝酸鋁,、硫酸鈉等組成,。3.蝕刻液:是指用于蝕刻制版的液體,,一般由硝酸銅,、硝酸鈉,、硝酸鋅等組成,。4.清洗液:是指用于清洗制版的液體,,一般由水,、硝酸、硫酸,、乙醇等組成,。 龍騰光電用的哪家的剝離液,?東莞銀蝕刻液剝離液銷售廠家

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    其包含含有鉀鹽的第1液、和含有溶纖劑的第2液,。再者,,本發(fā)明涉及印刷布線板、半導(dǎo)體基板,、平板顯示器或引線框的制造方法,,其特征在于,在包括從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑的工序的印刷布線板,、半導(dǎo)體基板,、平板顯示器或引線框的制造方法中,使用上述抗蝕劑的剝離液進(jìn)行抗蝕劑的除去,。發(fā)明效果本發(fā)明的抗蝕劑的剝離液即使是微細(xì)的布線間的抗蝕劑也能細(xì)小地粉碎,。因此,本發(fā)明的抗蝕劑的剝離液適合于包括從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑的工序的印刷布線板,、半導(dǎo)體基板,、平板顯示器或引線框的制造方法。具體實(shí)施方式本發(fā)明的抗蝕劑的剝離液(以下,,稱為“本發(fā)明剝離液”)含有氫氧化鉀和溶纖劑,。本發(fā)明剝離液中的鉀鹽沒有特別限定,,例如,可以舉出氫氧化鉀,、碳酸鉀等,。需要說明的是,鉀鹽中不含相當(dāng)于后述的硅酸鹽的硅酸鉀,。這些之中推薦氫氧化鉀,。另外,本發(fā)明剝離液中的鉀鹽的含量沒有特別限定,,例如,,推薦,更推薦,,特別推薦,。本發(fā)明剝離液中使用的溶纖劑是指乙二醇的醚類,例如,,可以舉出異丙基溶纖劑,、丁基溶纖劑、二甲基溶纖劑,、苯基丁基溶纖劑,、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑,、苯基溶纖劑,、芐基溶纖劑、卡必醇溶纖劑,、二乙基溶纖劑等,。這些之中推薦異丙基溶纖劑。另外,。廣東哪家剝離液廠家現(xiàn)貨天馬微電子用的哪家的剝離液,?

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    腔室10及過濾器30可以采用與現(xiàn)有技術(shù)相同的設(shè)計(jì)。處于剝離制程中的玻璃基板,,按照玻璃基板傳送方向從當(dāng)前腔室101開始逐級由各腔室10向玻璃基板供給剝離液以進(jìn)行剝離制程,。剝離液從當(dāng)前腔室101進(jìn)入相應(yīng)的存儲箱20,在剝離液的水平面超過預(yù)設(shè)高度后流入過濾器30,,再經(jīng)過過濾器30的過濾將過濾后的剝離液傳送至下一級腔室102內(nèi),。其中,薄膜碎屑70一般為金屬碎屑或ito碎屑,。其中,,如圖2所示,圖2為本申請實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺100的第二種結(jié)構(gòu)示意圖,。閥門開關(guān)60設(shè)置在***管道40及第二管道50上,。在過濾器30被阻塞時(shí),,關(guān)閉位于過濾器30兩側(cè)的***管道40及第二管道50上的閥門開關(guān)60,可以保證當(dāng)前級腔室101對應(yīng)的存儲箱20內(nèi)剝離液不會流出,,同時(shí)下一級腔室102內(nèi)的剝離液也不會流出,。在一些實(shí)施例中,請參閱圖3,,圖3為本申請實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺100的第三種結(jié)構(gòu)示意圖,。過濾器30包括多個(gè)并列排布的子過濾器301,所述***管道40包括多個(gè)***子管道401,,每一所述***子管道401與一子過濾器301連通,,且所述多個(gè)***子管道401與當(dāng)前級腔室101對應(yīng)的存儲箱20連通。在一些實(shí)施例中,,第二管道50包括公共子管道501及多個(gè)第二子管道502,,每一所述第二子管道502與一子過濾器301連通,。

按照組成成分和應(yīng)用工藝不同,,濕電子化學(xué)品可分為通用性和功能性濕電子化 學(xué)品。通用濕電子化學(xué)品以超凈高純試劑為主,,一般為單組份,、單功能、被大量使 用的液體化學(xué)品,,按照性質(zhì)劃分可分為:酸類,、堿類、有機(jī)溶劑類和其他類,。酸類 包括氫氟酸,、硝酸、鹽酸,、硫酸,、磷酸等;堿類包括氨水,、氫氧化鈉,、氫氧化鉀等;有機(jī)溶劑類包括甲醇,、乙醇,、異丙醇、**,、乙酸乙酯等,;其他類包括雙氧水等。功能濕電子化學(xué)品指通過復(fù)配手段達(dá)到特殊功能,、滿足制造中特殊工藝需求的復(fù)配 類化學(xué)品,,即在單一的超凈高純試劑(或多種超凈高純試劑的配合)基礎(chǔ)上,,加入 水、有機(jī)溶劑,、螯合劑,、表面活性劑混合而成的化學(xué)品。例如剝離液,、顯影液,、蝕 刻液、清洗液等,。由于多數(shù)功能濕電子化學(xué)品是復(fù)配的化學(xué)品,,是混合物,它的理 化指標(biāo)很難通過普通儀器定量檢測,,只能通過應(yīng)用手段來評價(jià)其有效性,。哪家的剝離液配方比較好?

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    例如即使為50/50μm以下的線/間距,、推薦10/10~40/40μm的線/間距也能除去抗蝕劑,。實(shí)施例以下,舉出實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明,,但本發(fā)明不受這些實(shí)施例任何限定,。實(shí)施例1抗蝕劑的剝離液的制備:將以下的表1中記載的成分在水中混合、溶解而制備抗蝕劑的剝離液,?!颈?】(mol/l)氫氧化鉀氫氧化鈉異丙基溶纖劑硅酸鉀本發(fā)明組成:(1)基板制作方法為了提**膜抗蝕劑一基材間的密合,將覆銅層疊板(古河電工(株式會社)制:ccl:電解銅箔gts35μm箔)通過粗化處理(jcu制:ebakemuneobrownnbsii,、蝕刻量μm)使表面粗度成為ra約μm,。其后,使用干膜抗蝕劑(日立化成制:rd-1225(sap用):25μm厚)實(shí)施從層壓到圖案曝光,、顯影,。向本基板以15μm厚實(shí)施鍍銅(jcu制:cu-britevl)后,切出50×50mm2作為試驗(yàn)片,。需要說明的是,,該試驗(yàn)片是在一片上具有以下的表2的l/s的圖案部分和黏性部分的試驗(yàn)片。(2)圖案基板上殘留的抗蝕劑的評價(jià)方法上述評價(jià)方法中將噴涂運(yùn)行時(shí)間固定在4分鐘,,按照以下的評價(jià)基準(zhǔn)評價(jià)l/s=20/20~40/40μm的圖案部分有無剝離殘?jiān)?。將其結(jié)果示于表2。<剝離殘?jiān)脑u價(jià)基準(zhǔn)>(分?jǐn)?shù))(內(nèi)容)1:無殘?jiān)?:有極少量殘?jiān)?。質(zhì)量好的做剝離液的公司,。東莞銀蝕刻液剝離液銷售廠家

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    用顯微鏡觀察也難以看出的程度)3:有少量殘?jiān)?:基本能剝離,,但一部分殘?jiān)?:一半以上能剝離,,但一部分殘?jiān)?:基本不能剝離,,但一部分剝離7:不能剝離【表2】由該結(jié)果可知,在含有溶纖劑的抗蝕劑的剝離液中使用氫氧化鉀代替氫氧化鈉的本發(fā)明組成,,與使用氫氧化鈉的比較組成相比,,即使l/s狹窄,也能除去抗蝕劑,。(3)剝離性能的評價(jià)方法將液溫設(shè)為50℃的各剝離液使用噴涂裝置向上述試驗(yàn)片實(shí)施剝離處理,,將試驗(yàn)片的粘性部分的dfr以目視全部面積的90%以上被剝離的時(shí)刻作為剝離時(shí)間。另外,,剝離片尺寸(長邊)是采集噴涂停止后附著于設(shè)置于試驗(yàn)基板固定用的臺上的排渣用網(wǎng)眼的剝離片以目視實(shí)施的,。此時(shí)的噴涂裝置的條件設(shè)為全錐噴嘴且流量5l/min、壓力,。將其結(jié)果示于表3,。(4)金屬的浸蝕性的評價(jià)方法利用上述評價(jià)方法實(shí)施將噴涂運(yùn)行時(shí)間固定在10分鐘的處理。其后,,將基板的鍍銅部位通過電子顯微鏡(日立高新技術(shù)制:s-3400n)按照以下的評價(jià)基準(zhǔn)評價(jià)表面形狀,。其結(jié)果也示于表3。<金屬浸蝕性的評價(jià)基準(zhǔn)>(分?jǐn)?shù))(內(nèi)容)1:沒有變化2:極略微有變化(用顯微鏡觀察也難以看出的程度)3:略有變化4:發(fā)生***變色【表3】剝離時(shí)間(sec)剝離片尺寸,。東莞銀蝕刻液剝離液銷售廠家

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