EVG620 NT技術(shù)數(shù)據(jù)：

曝光源：

汞光源/紫外線LED光源

先進(jìn)的對準(zhǔn)功能：

手動對準(zhǔn)/原位對準(zhǔn)驗(yàn)證

自動對準(zhǔn)

動態(tài)對準(zhǔn)/自動邊緣對準(zhǔn)

對準(zhǔn)偏移校正算法

EVG620 NT產(chǎn)量:

全自動：第/一批生產(chǎn)量：每小時180片

全自動：吞吐量對準(zhǔn)：每小時140片晶圓

晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)150毫米

對準(zhǔn)方式：

上側(cè)對準(zhǔn)：≤±0.5 μm

底側(cè)對準(zhǔn)：≤±1,0 μm

紅外校準(zhǔn)：≤±2,0 μm /具體取決于基材

鍵對準(zhǔn)：≤±2,0 μm

NIL對準(zhǔn)：≤±3.0 μm

曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

楔形補(bǔ)償：全自動軟件控制

曝光選項(xiàng)：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR

實(shí)時遠(yuǎn)程訪問,，診斷和故障排除

工業(yè)自動化功能：

盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，彎曲,，翹曲,，邊緣晶圓處理

納米壓印光刻技術(shù)：SmartNIL ® EVG100光刻膠處理系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板，直徑從2寸到300 mm,。浙江官方授權(quán)經(jīng)銷光刻機(jī)

集成化光刻系統(tǒng)

HERCULES光刻量產(chǎn)軌道系統(tǒng)通過完全集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合了掩模對準(zhǔn)和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理功能的高度自動化,，完善了EVG光刻產(chǎn)品系列。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺，將EVG已建立的光學(xué)掩模對準(zhǔn)技術(shù)與集成的清潔,，光刻膠涂層,，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合。這使HERCULES平臺變成了“一站式服務(wù)”,，在這里將經(jīng)過預(yù)處理的晶圓裝載到工具中,，然后返回完全結(jié)構(gòu)化的經(jīng)過處理的晶圓。目前可以預(yù)定的型號為：HERCULES,。請?jiān)L問官網(wǎng)獲取更多的信息,。

IQ Aligner光刻機(jī)用于生物芯片OmniSpray涂層技術(shù)是對高形晶圓表面進(jìn)行均勻涂層。

EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)：

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺）

用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能

并行任務(wù)/排隊(duì)任務(wù)處理功能

設(shè)備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能：

事/故和警報分析/智能維護(hù)管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)200毫米

模塊數(shù)：

工藝模塊：2

烘烤/冷卻模塊：**多10個

工業(yè)自動化功能：Ergo裝載盒式工作站/

SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口

分配選項(xiàng)：

各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達(dá)52000 cP的粘度

液體底漆/預(yù)濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

EVG ® 150光刻膠處理系統(tǒng)技術(shù)數(shù)據(jù)：

模塊數(shù)：

工藝模塊：6

烘烤/冷卻模塊：**多20個

工業(yè)自動化功能：

Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺）

用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能

并行任務(wù)/排隊(duì)任務(wù)處理功能

設(shè)備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能

事/故和警報分析/智能維護(hù)管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)300毫米

可用模塊：

旋涂/ OmniSpray ® /開發(fā)

烘烤/冷卻

晶圓處理選項(xiàng)：

單/雙EE /邊緣處理/晶圓翻轉(zhuǎn)

彎曲/翹曲/薄晶圓處理

我們用持續(xù)的技術(shù)和市場領(lǐng)導(dǎo)地位證明了自己的實(shí)力,，包括EVG在使用各種非標(biāo)準(zhǔn)抗蝕劑方面的****的經(jīng)驗(yàn)。

EVG ® 120--光刻膠自動化處理系統(tǒng)

EVG ® 120是用于當(dāng)潔凈室空間有限,，需要生產(chǎn)一種緊湊的,，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng)。

新型EVG120通用和全自動光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達(dá)200 mm / 8“的基板,。新一代EVG120采用全新的超緊湊設(shè)計(jì),，并帶有新開發(fā)的化學(xué)柜，可用于外部存儲化學(xué)品,，同時提供更高的通量能力,，針對大批量客戶需求進(jìn)行了優(yōu)化，并準(zhǔn)備在大批量生產(chǎn)（HVM）中使用EVG120為用戶提供了一套詳盡的好處,，這是其他任何工具所無法比擬的,，并保證了**/高的質(zhì)量各個應(yīng)用領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn)，擁有成本卻非常低,。

EVG所有光刻設(shè)備平臺均為300mm,。陜西EVG光刻機(jī)

EVG的代理商岱美儀器能在全球范圍內(nèi)提供服務(wù)。浙江官方授權(quán)經(jīng)銷光刻機(jī)

此外,，EVG光刻機(jī)不斷關(guān)注未來的市場趨勢 - 例如光學(xué)3D傳感和光子學(xué) - 并為這些應(yīng)用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案,，以滿足客戶不斷變化的需求。我們用持續(xù)的技術(shù)和市場地位證明了這一點(diǎn),，包括EVG在使用各種非標(biāo)準(zhǔn)抗蝕劑方面的****的經(jīng)驗(yàn),，這些抗蝕劑針對獨(dú)特的要求和參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化。了解客戶需求和有效的全球支持是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎(chǔ),。只有接近客戶,，才能得知客戶**真實(shí)的需求，這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一,。浙江官方授權(quán)經(jīng)銷光刻機(jī)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號第五層六十五部位,。公司業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)等,，價格合理，品質(zhì)有保證,。公司注重以質(zhì)量為中心,，以服務(wù)為理念，秉持誠信為本的理念,，打造儀器儀表良好品牌,。在社會各界的鼎力支持下，持續(xù)創(chuàng)新,，不斷鑄造***服務(wù)體驗(yàn),，為客戶成功提供堅(jiān)實(shí)有力的支持。