EVG ® 620 NT 掩模對準系統(tǒng)（半自動/自動）
特色：EVG ® 620 NT提供國家的本領域掩模對準技術在**小化的占位面積,，支持高達150毫米晶圓尺寸。
技術數(shù)據(jù)：EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,，在**小的占位面積上結合了先進的對準功能和**/優(yōu)化的總體擁有成本,，提供了**/先進的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具,，可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,，以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標準,。擁有操作員友好型軟件，**短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務和支持,，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案,。 EVG的大批量制造系統(tǒng)目的是在以**/佳的成本效率與**/高的技術標準相結合，為全球服務基礎設施提供支持,。掩模對準光刻機服務為先
EVG ® 150特征2：
先進且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能,，可確保連續(xù)的高產(chǎn)量
處理厚或超薄，易碎,，彎曲或小直徑的晶圓
用于旋涂和噴涂,，顯影，烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應用領域提供了巨大的機會
EFEM（設備前端模塊）和可選的FSS（FOUP存儲系統(tǒng)）
工藝技術卓/越和開發(fā)服務：
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權限,，不同的用戶界面語言）
智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[Framework SW Platform]
用于過程和機器控制的集成分析功能
設備和過程性能跟/蹤功能
并行/排隊任務處理功能
智能處理功能
發(fā)生和警報分析
智能維護管理和跟/蹤
臺積電光刻機質(zhì)量怎么樣可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤、曝光后烘烤和硬烘烤操作,。
EVG ® 150--光刻膠自動處理系統(tǒng)
EVG ® 150是全自動化光刻膠處理系統(tǒng)中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達300毫米,。
EVG150設計為完全模塊化的平臺，可實現(xiàn)自動噴涂/旋轉/顯影過程和高通量性能,。EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復性,。具有高形貌的晶片可以通過EVG的OmniSpray 技術進行均勻涂覆，而傳統(tǒng)的旋涂技術則受到限制,。
EVG ® 150特征：
晶圓尺寸可達300毫米
多達六個過程模塊
可自定義的數(shù)量-多達二十個烘烤/冷卻/汽化堆
多達四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載
EVG120特征：
晶圓尺寸可達200毫米
超緊湊設計,，占用空間**小
**多2個涂布/顯影室和10個加熱/冷卻板
用于旋涂和噴涂，顯影,，烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應用領域提供了巨大的機會
化學柜,，用于化學品的外部存儲
EV集團專有的OmniSpray ®超聲波霧化技術提供了****的處理結果，當涉及到極端地形的保形涂層
CoverSpin TM旋轉蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性
Megasonic技術用于清潔,，聲波化學處理和顯影,，可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘
EVG已經(jīng)與研究機構合作超過35年，能夠深入了解他們的獨特需求,。
曝光光學：提供不同配置的曝光光學系統(tǒng),，旨在實現(xiàn)任何應用的**/大靈活性。汞燈曝光光學系統(tǒng)針對150,，200和300 mm基片進行了優(yōu)化,，可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求,，例如i-,，g-和h-線濾光片，甚至還有深紫外線,。 EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個底部對準系統(tǒng),，對準晶圓鍵合和納米壓印光刻技術方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標準。研究所光刻機聯(lián)系電話
新型的EVG120帶有通用和全自動光刻膠處理工具,，能夠處理各種形狀和尺寸達200 mm / 8“的基片,。掩模對準光刻機服務為先
IQ Aligner®NT特征：
零輔助橋接工具-雙基板概念，支持200
mm和300 mm的生產(chǎn)靈活性
吞吐量> 200 wph（首/次打?。?
尖/端對準精度：
頂側對準低至250 nm
背面對準低至500 nm
寬帶強度> 120 mW /cm2（300毫米晶圓）
完整的明場掩模移動（FCMM）可實現(xiàn)靈活的圖案定位并兼容暗場掩模對準
非接觸式原位掩膜到晶圓接近間隙驗證
超平坦和快速響應的溫度控制晶片卡盤,，出色的跳動補償
手動基板裝載能力
返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)
遠程技術支持和GEM300兼容性
智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[Framework Software Platform]
用于過程和機器控制的集成分析功能
設備和過程性能跟/蹤功能
并行/排隊任務處理功能
智能處理功能
發(fā)生和警報分析
智能維護管理和跟/蹤 掩模對準光刻機服務為先
岱美儀器技術服務（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型公司,。公司業(yè)務分為磁記錄,，半導體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)等,，目前不斷進行創(chuàng)新和服務改進，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務,。公司將不斷增強企業(yè)重點競爭力,，努力學習行業(yè)知識，遵守行業(yè)規(guī)范,，植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展,。岱美儀器技術服務秉承“客戶為尊、服務為榮,、創(chuàng)意為先,、技術為實”的經(jīng)營理念，全力打造公司的重點競爭力,。