EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場**的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現(xiàn)高精度的壓印,。熱壓印是一種經(jīng)濟高 效且靈活的制造技術(shù),，具有非常高的復(fù)制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸,。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中,。

NILPhotonics®能力中心-支持和開發(fā)

NILPhotonics能力中心是經(jīng)過驗證的創(chuàng)新孵化器。

歡迎各位客戶來樣制作,，驗證EVG的納米壓印設(shè)備的性能,。

EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,，因為它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術(shù)。廣西納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

    據(jù)外媒報道,，美國威斯康星大學(xué)麥迪遜分校（UWMadison）的研究人員們,，已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅**簡化了低成本高性能,、無線靈活的金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管（MOSFET）的制造工藝,，還克服了許多使用標準技術(shù)制造設(shè)備時所遇到的操作上的問題。該技術(shù)可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板,，并在可穿戴電子設(shè)備和彎曲傳感器等領(lǐng)域派上大用場,。研究人員稱，這項突破性的納米壓印平板印刷制造工藝,，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管,。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能，MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管,。為了滿足不斷縮小的集成電路需求,，MOSFET尺寸也在不斷變小，然而這也引發(fā)了一些問題,。內(nèi)蒙古納米壓印聯(lián)系電話HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,，可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)。

納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果：

新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān),。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新,。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像

資料來源：EVG與SwissLitho

AG合作（歐盟項目SNM）

2.通過熱壓花在PMMA中復(fù)制微流控芯片

資料來源：EVG

3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列

由加拿大國家研究委 員會提供

4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層,，厚度約為10 nm

資料來源：EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來源：EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構(gòu)化（mc-Si）

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結(jié)構(gòu)50 μm

資料來源：EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝

資料來源：EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）

10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相

資料來源：EVG

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm,。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外,，還可以包括用于印章的釋放機構(gòu)。EV Group專有的卡盤設(shè)計可提供均勻的接觸力,，以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印,，該卡盤支持軟性和硬性印模。

EVG610特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)。

曲面基底上的納米結(jié)構(gòu)在許多領(lǐng)域都有著重要應(yīng)用,，例如仿生學(xué),、柔性電子學(xué)和光學(xué)器件等。傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)通常采用剛性模板，可以實現(xiàn)亞10nm的分辨率,，但是模板不能彎折,，無法在曲面基底上壓印制備納米結(jié)構(gòu)。而采用彈性模板的軟壓印技術(shù)可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸,，實現(xiàn)結(jié)構(gòu)在非平面基底上的壓印復(fù)制,，但是由于彈性模板的楊氏模量較低,，所以壓印結(jié)構(gòu)的分辨率和精度都受到限制,。基于目前納米壓印的發(fā)展現(xiàn)狀,，結(jié)合傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)和軟壓印技術(shù),，中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所團隊發(fā)展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復(fù)合軟壓印模板的制備方法，該模板包含剛性結(jié)構(gòu)層和彈性基底層,。（來自網(wǎng)絡(luò),，侵權(quán)請聯(lián)系我們進行刪除，謝謝?。?EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng),。高精密儀器納米壓印干涉測量應(yīng)用

EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。廣西納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

EVG ® 770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)

分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),，可進行有效的母版制作

EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺,，可用于有效地進行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。這種方法允許從**

大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板,。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,，分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG770的主要功能包括精確的對準功能,，完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性,。 廣西納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，以科技創(chuàng)新實現(xiàn)***管理的追求,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)深耕行業(yè)多年,，始終以客戶的需求為向?qū)В瑸榭蛻籼峁?**的磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)不斷開拓創(chuàng)新,，追求出色，以技術(shù)為先導(dǎo),，以產(chǎn)品為平臺,，以應(yīng)用為重點，以服務(wù)為保證,，不斷為客戶創(chuàng)造更高價值,，提供更優(yōu)服務(wù),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表行業(yè)。滿足市場需求,，提高產(chǎn)品價值,，是我們前行的力量。