EVG的光刻機技術：EVG在光刻技術上的關鍵能力在于其掩模對準器的高產(chǎn)能,，接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關知識。EVG的所有光刻設備平臺均支持300毫米的晶圓,，可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,，并配有用于從上到下的側面對準驗證的度量工具。

EVG不斷展望未來的市場趨勢,，因此提供了針對特定應用的解決方案,，尤其是在光學3D傳感和光子學市場中，其****的EVG的工藝和材料專業(yè)知識-源自對各種光刻膠材料進行的廣/泛優(yōu)化研究,。了解客戶需求并提供有效的全球支持是EVG光刻解決方案成功的重要因素,。 EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個底部對準系統(tǒng),，可以在頂部和雙面光刻,。官方授權經(jīng)銷光刻機學校會用嗎

EVG ® 6200 NT掩模對準系統(tǒng)（半自動/自動）

特色：EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。

技術數(shù)據(jù)：EVG6200 NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱,，可在**小的占位面積上提供**/先進的掩模對準技術,，并具有**/高的產(chǎn)能，先進的對準功能和優(yōu)化的總擁有成本,。操作員友好型軟件,，**短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務和支持使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。EVG6200 NT或完全安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對準系統(tǒng)有半自動或自動配置，并配有集成的振動隔離功能,，可在廣/泛的應用中實現(xiàn)出色的曝光效果,，例如薄和厚光刻膠的曝光，深腔和類似地形的圖案,，以及薄而易碎的材料（例如化合物半導體）的加工,。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術,。 寧夏光刻機要多少錢EVG光刻機設備,，可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中，并輔以其用于從上到下側對準驗證的計量工具,。

EVG ® 150光刻膠處理系統(tǒng)分配選項：

各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達52000 cP的粘度

液體底漆/預濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

附加模塊選項

預對準：光學/機械

ID讀取器：條形碼，字母數(shù)字,，數(shù)據(jù)矩陣

系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR

EVG也提供量產(chǎn)型掩模對準系統(tǒng),。對于在微米范圍內(nèi)的光刻圖形，掩模對準器是**/具成本效益的技術,，與其他解決方案相比,，每層可節(jié)省30％以上的成本，這對用戶來說是至關重要的,。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以**/佳的成本效率與**/高的技術標準相結合,，并由卓/越的全球服務基礎設施提供支持。**重要的是,，大焦深曝光光學系統(tǒng)完美匹配大批量生產(chǎn)中的厚抗蝕劑,，表面形貌和非平面基片的圖形。在全球范圍內(nèi),，我們?yōu)樵S多客戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng),，得到了他們的無數(shù)好評。EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的光刻膠旋涂和噴涂經(jīng)驗,。

EVG ® 150--光刻膠自動處理系統(tǒng)

EVG ® 150是全自動化光刻膠處理系統(tǒng)中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達300毫米,。

EVG150設計為完全模塊化的平臺，可實現(xiàn)自動噴涂/旋轉(zhuǎn)/顯影過程和高通量性能,。EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復性,。具有高形貌的晶片可以通過EVG的OmniSpray 技術進行均勻涂覆,，而傳統(tǒng)的旋涂技術則受到限制。

EVG ® 150特征：

晶圓尺寸可達300毫米

多達六個過程模塊

可自定義的數(shù)量-多達二十個烘烤/冷卻/汽化堆

多達四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載

EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新的標準,。光刻機供應商家

EVG光刻機的掩模對準器和工藝能力經(jīng)過客戶現(xiàn)場驗證,，安裝并集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中。官方授權經(jīng)銷光刻機學校會用嗎

光刻機處理結果:EVG在光刻技術方面的核心競爭力在于其掩模對準系統(tǒng)（EVG6xx和IQ Aligner系列）以及高度集成的涂層平臺（EVG1xx系列）的高吞吐量的接近和接觸曝光能力,。EVG的所有光刻設備平臺均為300mm,，可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中，并輔以其用于從上到下側對準驗證的計量工具,。高級封裝：在EVG®IQAligner®上結合NanoSpray?曝光的涂層TSV底部開口 ,；在EVG的IQ

Aligner NT®上進行撞擊40μm厚抗蝕劑；負側壁,，帶有金屬兼容的剝離抗蝕劑涂層; 金屬墊在結構的中間,；用于LIGA結構的高縱橫比結構，用EVG® IQ Aligner®曝光200μm厚的抗蝕劑的結果,；西門子星狀測試圖暴露在EVG®6200NT上,，展示了高/分辨率的厚抗蝕劑圖形處理能力；MEMS結構在20μm厚的抗蝕劑圖形化的結果,。 官方授權經(jīng)銷光刻機學校會用嗎

岱美儀器技術服務（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,，是一家磁記錄、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務信息咨詢服務,。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務信息咨詢服務,。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司。岱美儀器技術服務深耕行業(yè)多年,，始終以客戶的需求為向?qū)?，為客戶提?**的磁記錄，半導體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術服務繼續(xù)堅定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路,，既要實現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長,，又要聚焦關鍵領域，實現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破,。岱美儀器技術服務始終關注儀器儀表市場,，以敏銳的市場洞察力,，實現(xiàn)與客戶的成長共贏,。