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這款灰度光刻設(shè)備還具備智能化的特點,。它配備了先進的自動化控制系統(tǒng)，可以實現(xiàn)自動調(diào)節(jié)和監(jiān)控,，減少了人工操作的需求,，提高了生產(chǎn)線的穩(wěn)定性和可靠性,。同時，設(shè)備還具備故障自診斷和遠程監(jiān)控功能,，及時發(fā)現(xiàn)和解決問題,，減少了生產(chǎn)線的停機時間，提高了生產(chǎn)效率,。這款設(shè)備還具備良...

光學(xué)元件如何對準(zhǔn)并打印到光子芯片上,？打印對象的 3D 對準(zhǔn)技術(shù)是基于具有高分辨率 3D 拓撲繪制的共聚焦單元。 為了精確對準(zhǔn)光子芯片上的光學(xué)元件,，智能軟件算法會自動識別預(yù)定義的標(biāo)記和拓撲特征,，以確定芯片上波導(dǎo)的確切位置和方向。 然后將虛擬坐標(biāo)系設(shè)置到波導(dǎo)的出口...

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域,。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計來調(diào)整和定制,。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實現(xiàn)具有特定光子,，機械,，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是...

NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計的圖案、順滑的輪廓,、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)...

作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者,，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領(lǐng)域,，諸如力學(xué)超材料，微納機器人,，再生醫(yī)學(xué)工程,，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案,。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動,，...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Q...

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微...

Nanoscribe設(shè)備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造,。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具,。在該過程中,，激光固化部分流體光敏材料，逐層固化,。使用雙光子聚合,，分辨率可低...

作為基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的微細加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體,?！拔覀?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術(shù)而感到自豪，憑借我們的技術(shù)支持,，我們的客戶實現(xiàn)了一個又一個突破性創(chuàng)新想法,。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的...

Nanoscribe設(shè)備專注于納米,，微米和中等尺寸的增材制造,。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中,，激光固化部分流體光敏材料,，逐層固化。使用雙光子聚合,，分辨率可低至2...

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加...

對于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn),。首先,，他們設(shè)計了一個定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印,。然后,，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點,。剩下的一個挑戰(zhàn),，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu)，是對可...

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外，...

全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,，可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),，很大程度推動了生命科學(xué)，微流體,，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作,。QuantumXshape作為具備光敏樹脂...

高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點,，您可以進行幾乎任何形狀,，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計,。另外,，Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度，...

光學(xué)元件如何對準(zhǔn)并打印到光子芯片上,？打印對象的 3D 對準(zhǔn)技術(shù)是基于具有高分辨率 3D 拓撲繪制的共聚焦單元,。 為了精確對準(zhǔn)光子芯片上的光學(xué)元件，智能軟件算法會自動識別預(yù)定義的標(biāo)記和拓撲特征,，以確定芯片上波導(dǎo)的確切位置和方向,。 然后將虛擬坐標(biāo)系設(shè)置到波導(dǎo)的出口...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Q...

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)...

為了探索待測物微納米表面形貌,，探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實驗項目。然而,，由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝,，在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過去幾十年中沒有明顯的研究進展，這也限制了基于力傳感反饋的測量性能,。如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,，以實現(xiàn)對...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quant...

科學(xué)家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)（2PP）打印微型通道的聚合物母版,，并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作。隨后,，在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭,。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新...

Nanoscribe的技術(shù)在多個領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用,。在光子學(xué)領(lǐng)域，它可以制造光子晶體,、超穎材料,、激光分布回饋術(shù)(DFB Lasers)等。在微光學(xué)領(lǐng)域,，它可以制造微光學(xué)器件和整合型光學(xué),。在微流道技術(shù)領(lǐng)域，它可以應(yīng)用于生醫(yī)芯片系統(tǒng),、物質(zhì)研究開發(fā)與分析以及三維基...

科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP),，發(fā)明了GRIN光學(xué)微納制造工藝。這種新的制造技術(shù)實現(xiàn)了簡單一步操作即可同時控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學(xué)元件,。憑借這種全新的制造工藝,，科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作，打印了世界上特別小的...

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)...

Nanoscribe設(shè)備專注于納米,，微米和中等尺寸的增材制造,。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中,，激光固化部分液態(tài)光敏材料,，逐層固化。使用雙光子聚合,，分辨率可低至200納...

Nanoscribe稱,，Quantum X是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quant...

Nanoscribe對準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX，一種基于場景圖概念的軟件工具,，可用于定義對準(zhǔn)3D打印的打印項目,。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對象和操作的分層組織，用于定義何時,、何地,、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外，...