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來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-05-04

IGBT 的伏安特性是指以柵源電壓Ugs 為參變量時(shí),,漏極電流與柵極電壓之間的關(guān)系曲線。輸出漏極電流比受柵源電壓Ugs 的控制,,Ugs 越高,, Id 越大。它與GTR 的輸出特性相似.也可分為飽和區(qū)1 ,、放大區(qū)2 和擊穿特性3 部分,。在截止?fàn)顟B(tài)下的IGBT ,正向電壓由J2 結(jié)承擔(dān),,反向電壓由J1結(jié)承擔(dān)。如果無(wú)N+ 緩沖區(qū),,則正反向阻斷電壓可以做到同樣水平,,加入N+緩沖區(qū)后,,反向關(guān)斷電壓只能達(dá)到幾十伏水平,,因此限制了IGBT 的某些應(yīng)用范圍,。IGBT 的轉(zhuǎn)移特性是指輸出漏極電流Id 與柵源電壓Ugs 之間的關(guān)系曲線。它與MOSFET 的轉(zhuǎn)移特性相同,,當(dāng)柵源電壓小于開啟電壓Ugs(th) 時(shí),,IGBT 處于關(guān)斷狀態(tài)。在IGBT 導(dǎo)通后的大部分漏極電流范圍內(nèi),, Id 與Ugs呈線性關(guān)系,。比較高柵源電壓受比較大漏極電流限制,其比較好值一般取為15V左右,。IGBT的驅(qū)動(dòng)原理與電力MOSFET基本相同,通斷由柵射極電壓uGE決定。靜安區(qū)哪里IGBT模塊設(shè)計(jì)

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2010年,,中國(guó)科學(xué)院微電子研究所成功研制國(guó)內(nèi)***可產(chǎn)業(yè)化IGBT芯片,,由中國(guó)科學(xué)院微電子研究所設(shè)計(jì)研發(fā)的15-43A /1200V IGBT系列產(chǎn)品(采用Planar NPT器件結(jié)構(gòu))在華潤(rùn)微電子工藝平臺(tái)上流片成功,各項(xiàng)參數(shù)均達(dá)到設(shè)計(jì)要求,,部分性能優(yōu)于國(guó)外同類產(chǎn)品。這是我國(guó)國(guó)內(nèi)***自主研制可產(chǎn)業(yè)化的IGBT(絕緣柵雙極晶體管)產(chǎn)品,,標(biāo)志著我國(guó)全國(guó)產(chǎn)化IGBT芯片產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程取得了重大突破,,擁有了***條專業(yè)的完整通過(guò)客戶產(chǎn)品設(shè)計(jì)驗(yàn)證的IGBT工藝線。該科研成果主要面向家用電器應(yīng)用領(lǐng)域,,聯(lián)合江蘇矽萊克電子科技有限公司進(jìn)行市場(chǎng)推廣,,目前正由國(guó)內(nèi)***的家電企業(yè)用戶試用,,微電子所和華潤(rùn)微電子將聯(lián)合進(jìn)一步推動(dòng)國(guó)產(chǎn)自主IGBT產(chǎn)品的大批量生產(chǎn)。 [2靜安區(qū)哪里IGBT模塊設(shè)計(jì)IGBT的開關(guān)速度低于MOSFET,,但明顯高于GTR,。

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IGBT的應(yīng)用范圍一般都在耐壓600V以上、電流10A以上,、頻率為1kHz以上的區(qū)域,。多使用在工業(yè)用電機(jī)、民用小容量電機(jī),、變換器(逆變器)、照相機(jī)的頻閃觀測(cè)器,、感應(yīng)加熱(InductionHeating)電飯鍋等領(lǐng)域,。根據(jù)封裝的不同,IGBT大致分為兩種類型,,一種是模壓樹脂密封的三端單體封裝型,,從TO-3P到小型表面貼裝都已形成系列,。另一種是把IGBT與FWD (FleeWheelDiode)成對(duì)地(2或6組)封裝起來(lái)的模塊型,,主要應(yīng)用在工業(yè)上,。模塊的類型根據(jù)用途的不同,分為多種形狀及封裝方式,,都已形成系列化,。

fsw max. : 比較高開關(guān)頻率IoutAV :單路的平均電流QG : 門極電壓差時(shí)的 IGBT門極總電荷RG extern : IGBT 外部的門極電阻RG intern : IGBT 芯片內(nèi)部的門極電阻但是實(shí)際上在很多情況下,,數(shù)據(jù)手冊(cè)中這個(gè)門極電荷參數(shù)沒(méi)有給出,門極電壓在上升過(guò)程中的充電過(guò)程也沒(méi)有描述,。這時(shí)候比較好是按照 IEC 60747-9-2001 - Semiconductor devices -Discrete devices - Part 9: Insulated-gate bipolar transistors (IGBTs)所給出的測(cè)試方法測(cè)量出開通能量E,,然后再計(jì)算出QG。E = ∫IG · ΔUGE · dt= QG · ΔUGE此時(shí),,仍然是由N漂移區(qū)中的耗盡層承受外部施加的電壓。

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1947年12月,,美國(guó)貝爾實(shí)驗(yàn)室的肖克利,、巴丁和布拉頓組成的研究小組,研制出一種點(diǎn)接觸型的鍺晶體管,。晶體管的問(wèn)世,,是20世紀(jì)的一項(xiàng)重大發(fā)明,,是微電子**的先聲,。晶體管出現(xiàn)后,,人們就能用一個(gè)小巧的、消耗功率低的電子器件,,來(lái)代替體積大,、功率消耗大的電子管了。晶體管的發(fā)明又為后來(lái)集成電路的誕生吹響了號(hào)角,。20世紀(jì)**初的10年,,通信系統(tǒng)已開始應(yīng)用半導(dǎo)體材料。20世紀(jì)上半葉,,在無(wú)線電愛(ài)好者中***流行的礦石收音機(jī),,就采用礦石這種半導(dǎo)體材料進(jìn)行檢波,。半導(dǎo)體的電學(xué)特性也在電話系統(tǒng)中得到了應(yīng)用,。晶體管的發(fā)明,,**早可以追溯到1929年,當(dāng)時(shí)工程師利蓮費(fèi)爾德就已經(jīng)取得一種晶體管的**,。但是,,限于當(dāng)時(shí)的技術(shù)水平,制造這種器件的材料達(dá)不到足夠的純度,,而使這種晶體管無(wú)法制造出來(lái),。穿通(PT)技術(shù)會(huì)有比較高的載流子注入系數(shù),而由于它要求對(duì)少數(shù)載流子壽命進(jìn)行控制致使其輸運(yùn)效率變壞,。靜安區(qū)哪里IGBT模塊設(shè)計(jì)

幾年當(dāng)中,,這種在采用PT設(shè)計(jì)的外延片上制備的DMOS平面柵結(jié)構(gòu),其設(shè)計(jì)規(guī)則從5微米先進(jìn)到3微米,。靜安區(qū)哪里IGBT模塊設(shè)計(jì)

常適合應(yīng)用于直流電壓為600V及以上的變流系統(tǒng)如交流電機(jī)、變頻器,、開關(guān)電源,、照明電路、牽引傳動(dòng)等領(lǐng)域,。 圖1所示為一個(gè)N 溝道增強(qiáng)型絕緣柵雙極晶體管結(jié)構(gòu),, N+ 區(qū)稱為源區(qū),附于其上的電極稱為源極,。N+ 區(qū)稱為漏區(qū)。器件的控制區(qū)為柵區(qū),,附于其上的電極稱為柵極,。溝道在緊靠柵區(qū)邊界形成。在漏,、源之間的P 型區(qū)(包括P+ 和P 一區(qū))(溝道在該區(qū)域形成),,稱為亞溝道區(qū)( Subchannel region )。而在漏區(qū)另一側(cè)的P+ 區(qū)稱為漏注入?yún)^(qū)( Drain injector ),,它是IGBT 特有的功能區(qū),與漏區(qū)和亞溝道區(qū)一起形成PNP 雙極晶體管,,起發(fā)射極的作用,,向漏極注入空穴,進(jìn)行導(dǎo)電調(diào)制,,以降低器件的通態(tài)電壓,。附于漏注入?yún)^(qū)上的電極稱為漏極。 IGBT 的開關(guān)作用是通過(guò)加正向柵極電壓形成溝道,,給PNP 晶體管提供基極電流,使IGBT 導(dǎo)通,。靜安區(qū)哪里IGBT模塊設(shè)計(jì)

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