無掩模激光光刻技術(shù)為研究實驗室提供了一種多功能的納米/微米光刻工具，可用于創(chuàng)建亞微米級特征,，并促進電路和器件的快速原型設(shè)計,。經(jīng)濟高效的桌面配置使研究人員和行業(yè)從業(yè)者無需復(fù)雜的基礎(chǔ)設(shè)施和設(shè)備即可使用光刻技術(shù)。應(yīng)用范圍擴展至微機電系統(tǒng) (MEM),、生物醫(yī)學(xué)設(shè)備和微電子器件的設(shè)計和制造,，例如以下領(lǐng)域：醫(yī)療（包括微流體）,、半導(dǎo)體、電子,、生物技術(shù)和生命科學(xué),、先進材料研究。全球無掩模光刻系統(tǒng)市場規(guī)模預(yù)計在 2022 年達到 3.3606 億美元,，預(yù)計到 2028 年將增長至 5.0143 億美元,，復(fù)合年增長率為 6.90%。由于對 5G,、AIoT,、物聯(lián)網(wǎng)以及半導(dǎo)體電路性能和能耗優(yōu)化的需求不斷增長，預(yù)計未來幾十年光刻市場將持續(xù)增長,。微流體領(lǐng)域：支持 1-100μm 微通道定制,，助力organ芯片血管網(wǎng)絡(luò)precise建模。遼寧德國POLOS光刻機可以自動聚焦波長

微納衛(wèi)星對部件重量與精度要求苛刻,，傳統(tǒng)加工難以兼顧,。Polos 光刻機在硅基材料上實現(xiàn)了 50nm 深度的微溝槽加工，為某航天團隊制造出輕量化星載慣性導(dǎo)航陀螺結(jié)構(gòu),。通過自定義螺旋型振動梁圖案,，陀螺的零偏穩(wěn)定性提升至 0.01°/h，較商用產(chǎn)品性能翻倍,。該技術(shù)還被用于微推進器噴嘴陣列加工,，使衛(wèi)星姿態(tài)調(diào)整精度達到亞毫牛級，助力我國低軌衛(wèi)星星座建設(shè)取得關(guān)鍵突破,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。天津桌面無掩模光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模Polos-BESM：基礎(chǔ)款高性價比，適合高校實驗室基礎(chǔ)微納加工,。

Polos-BESM XL Mk2專為6英寸晶圓設(shè)計,，寫入?yún)^(qū)域達155×155 mm,，平臺雙向重復(fù)性精度0.1 μm，滿足工業(yè)級需求,。其搭載20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭,，支持實時觀測與多層對準。配套的BEAM Xplorer軟件簡化了復(fù)雜圖案設(shè)計流程,，內(nèi)置高性能筆記本電腦實現(xiàn)快速數(shù)據(jù)處理,，成為微機電系統(tǒng)（MEMS）和光子晶體研究的理想工具。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進一步提升了其優(yōu)勢。

植入式神經(jīng)電極需要兼具生物相容性與導(dǎo)電性能,，表面微圖案可remarkable影響細胞 - 電極界面,。Polos 光刻機在鉑銥合金電極表面刻制出 10μm 間距的蜂窩狀微孔，某神經(jīng)工程團隊發(fā)現(xiàn)該結(jié)構(gòu)使神經(jīng)元突觸密度提升 20%,，信號采集噪聲降低 35%,。其無掩模特性支持根據(jù)不同腦區(qū)結(jié)構(gòu)定制電極陣列，在大鼠海馬區(qū)電生理實驗中,，單神經(jīng)元信號識別率從 60% 提升至 85%,，為腦機接口技術(shù)的臨床轉(zhuǎn)化奠定了硬件基礎(chǔ)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。電子學(xué)應(yīng)用：2μm 線寬光刻能力,，第三代半導(dǎo)體器件研發(fā)效率提升 3 倍,。

某revolution生物醫(yī)學(xué)研究機構(gòu)致力于開發(fā)快速、precise的疾病診斷技術(shù),。在研發(fā)一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時,，采用了德國 Polos 光刻機,。利用其無掩模激光光刻技術(shù)，科研團隊成功制造出擁有復(fù)雜微通道網(wǎng)絡(luò)的芯片,。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測試劑的混合及反應(yīng)過程,，極大提高了檢測的靈敏度和準確性。以往使用傳統(tǒng)光刻技術(shù)制備此類芯片,，不only周期長,，且精度難以保證。而 Polos 光刻機使制備周期縮短了近三分之一,，助力該機構(gòu)在tumor早期診斷研究上取得重大突破,，相關(guān)成果已發(fā)表在國際authority醫(yī)學(xué)期刊上。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。固態(tài)電池：鋰金屬界面阻抗降至 50Ω?cm2,，電池循環(huán)壽命提升 3 倍,。遼寧BEAM-XL光刻機讓你隨意進行納米圖案化

德國技術(shù)基因：融合精密光學(xué)與自動化控制，確保設(shè)備高穩(wěn)定性與長壽命,。遼寧德國POLOS光刻機可以自動聚焦波長

對于納 / 微機械系統(tǒng)的研究與制造,，德國 Polos 光刻機系列展現(xiàn)出強大實力。無掩模激光光刻技術(shù)賦予它高度的靈活性,，科研人員能夠快速將創(chuàng)新設(shè)計轉(zhuǎn)化為實際器件,。在制造微型齒輪、納米級懸臂梁等微機械結(jié)構(gòu)時,，Polos 光刻機可precise控制激光,，確保每個部件的尺寸和形狀都符合設(shè)計要求,。? 借助該光刻機,，科研團隊成功研發(fā)出新型微機械傳感器，其靈敏度和響應(yīng)速度遠超傳統(tǒng)產(chǎn)品,。并且,，由于系統(tǒng)占用空間小,，即使是小型實驗室也能輕松引入。Polos 光刻機以其低成本,、高效率的特性,，成為納 / 微機械系統(tǒng)領(lǐng)域的制造先鋒，助力科研人員不斷探索微納世界的奧秘,。遼寧德國POLOS光刻機可以自動聚焦波長