超表面通過(guò)納米結(jié)構(gòu)調(diào)控光場(chǎng)，傳統(tǒng)電子束光刻成本高昂且效率低下,。Polos 光刻機(jī)的激光直寫技術(shù)在石英基底上實(shí)現(xiàn)了亞波長(zhǎng)量級(jí)的圖案曝光，將超表面器件制備成本降低至傳統(tǒng)方法的 1/5,。某光子學(xué)實(shí)驗(yàn)室利用該設(shè)備,，研制出寬帶消色差超表面透鏡，在 400-1000nm 波長(zhǎng)范圍內(nèi)成像誤差小于 5μm,。其靈活的圖案編輯功能還支持實(shí)時(shí)優(yōu)化結(jié)構(gòu)參數(shù),，使器件研發(fā)周期從數(shù)周縮短至 24 小時(shí)，推動(dòng)超表面技術(shù)從理論走向集成光學(xué)應(yīng)用,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。未來(lái)技術(shù)儲(chǔ)備：持續(xù)研發(fā)光束整形與多材料兼容工藝,，lead微納制造前沿,。北京桌面無(wú)掩模光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

在科研領(lǐng)域，設(shè)備的先進(jìn)程度往往決定了研究的深度與廣度,。德國(guó)的 Polos - BESM,、Polos - BESM XL、SPS 光刻機(jī) POLOS μ 帶來(lái)了革新之光,。它們運(yùn)用無(wú)掩模激光光刻技術(shù),，摒棄了傳統(tǒng)光刻中昂貴且制作周期長(zhǎng)的掩模，極大降低了成本,。這些光刻機(jī)可輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,，在微流體、電子學(xué)和納 / 微機(jī)械系統(tǒng)等領(lǐng)域大顯身手,。例如在微流體研究中,，能precise制造復(fù)雜的微通道網(wǎng)絡(luò)，助力藥物傳輸,、細(xì)胞培養(yǎng)等研究,。在電子學(xué)方面，可實(shí)現(xiàn)高精度的電路圖案曝光,，為芯片研發(fā)提供有力支持,。其占用空間小，對(duì)于空間有限的研究實(shí)驗(yàn)室來(lái)說(shuō)堪稱完美,。憑借出色特性,，它們已助力眾多科研團(tuán)隊(duì)取得成果，成為科研創(chuàng)新的得力助手 ,。廣東POLOSBEAM光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)無(wú)掩模激光直寫技術(shù)：無(wú)需物理掩膜,，軟件直接輸入任意圖案，降低成本與時(shí)間,。

Polos-BESM支持GDS文件直接導(dǎo)入和多層曝光疊加,，簡(jiǎn)化射頻器件（如IDC電容器）制造流程。研究團(tuán)隊(duì)利用類似設(shè)備成功制備高頻電路元件，驗(yàn)證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力,。其高重復(fù)性（0.1 μm）確?？蒲谐晒目赊D(zhuǎn)化性，助力國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破技術(shù)封鎖56,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。

一所高校的電子工程實(shí)驗(yàn)室專注于新型傳感器的研究,。在開(kāi)發(fā)一款超靈敏壓力傳感器時(shí)，面臨著如何在微小尺寸上構(gòu)建高精度電路圖案的難題,。德國(guó) Polos 光刻機(jī)的引入解決了這一困境,。其可輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光的特性，讓研究人員能夠根據(jù)傳感器的特殊需求,，設(shè)計(jì)并制作出獨(dú)特的電路結(jié)構(gòu)。通過(guò) Polos 光刻機(jī)precise的光刻,，成功制造出的壓力傳感器,，靈敏度比現(xiàn)有市場(chǎng)產(chǎn)品提高了兩倍以上。該成果已獲得多項(xiàng)patent,，并吸引了多家科技企業(yè)的關(guān)注,，有望實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，為可穿戴設(shè)備,、智能機(jī)器人等領(lǐng)域帶來(lái)新的發(fā)展機(jī)遇,。高頻元件驗(yàn)證：成功開(kāi)發(fā)射頻器件與IDC電容器，加速國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破,。

某材料科學(xué)研究中心在探索新型納米復(fù)合材料的性能時(shí),，需要在材料表面構(gòu)建特殊的納米圖案。德國(guó) Polos 光刻機(jī)成為實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)的得力工具,。研究人員利用其無(wú)掩模激光光刻技術(shù),，在不同的納米材料表面制作出各種周期性和非周期性的圖案結(jié)構(gòu)。經(jīng)過(guò)測(cè)試發(fā)現(xiàn)，帶有特定圖案的納米復(fù)合材料,，其電學(xué),、光學(xué)和力學(xué)性能發(fā)生了remarkable改變。例如,，一種原本光學(xué)性能普通的納米材料,，在經(jīng)過(guò) Polos 光刻機(jī)處理后，對(duì)特定波長(zhǎng)光的吸收率提高了 30%,，為開(kāi)發(fā)新型光電器件和光學(xué)傳感器提供了新的材料選擇和設(shè)計(jì)思路 ,。客戶認(rèn)可：全球 500 + 客戶滿意度達(dá) 98%,，復(fù)購(gòu)率 75%,，技術(shù)支持響應(yīng)時(shí)間 < 2 小時(shí)。廣東POLOSBEAM光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)

POLOS μ 光刻機(jī)：桌面級(jí)設(shè)計(jì),，2-23μm 可調(diào)分辨率,，兼容 4 英寸晶圓，微機(jī)電系統(tǒng)加工誤差 < 5μm,。北京桌面無(wú)掩模光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

Polos-BESM在電子器件原型開(kāi)發(fā)中展現(xiàn)高效性,。例如，其軟件支持GDS文件直接導(dǎo)入,，多層曝光疊加功能簡(jiǎn)化了射頻器件（如IDC電容器）的制造流程,。研究團(tuán)隊(duì)利用同類設(shè)備成功制備了高頻電路元件，驗(yàn)證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力,。無(wú)掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化,，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒(méi)有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì),。無(wú)掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化,，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒(méi)有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì),。北京桌面無(wú)掩模光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸