在微流體領(lǐng)域，Polos系列光刻機(jī)通過(guò)無(wú)掩模技術(shù)實(shí)現(xiàn)了復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型,。例如,，中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,，研究細(xì)胞球浸潤(rùn)行為,，為組織工程提供了新型生物界面設(shè)計(jì)策略10。Polos設(shè)備的精度與靈活性可支持此類仿生結(jié)構(gòu)的批量生產(chǎn),，推動(dòng)醫(yī)療診斷芯片的研發(fā),。無(wú)掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化,，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒(méi)有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì)。光束引擎高速掃描：SPS POLOS μ單次寫入400 μm區(qū)域，壓電驅(qū)動(dòng)提升掃描速度,。北京BEAM-XL光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)

在科研領(lǐng)域，設(shè)備的先進(jìn)程度往往決定了研究的深度與廣度,。德國(guó)的 Polos - BESM、Polos - BESM XL,、SPS 光刻機(jī) POLOS μ 帶來(lái)了革新之光,。它們運(yùn)用無(wú)掩模激光光刻技術(shù)，摒棄了傳統(tǒng)光刻中昂貴且制作周期長(zhǎng)的掩模,，極大降低了成本。這些光刻機(jī)可輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,，在微流體,、電子學(xué)和納 / 微機(jī)械系統(tǒng)等領(lǐng)域大顯身手。例如在微流體研究中,，能precise制造復(fù)雜的微通道網(wǎng)絡(luò),，助力藥物傳輸、細(xì)胞培養(yǎng)等研究,。在電子學(xué)方面,，可實(shí)現(xiàn)高精度的電路圖案曝光，為芯片研發(fā)提供有力支持,。其占用空間小,，對(duì)于空間有限的研究實(shí)驗(yàn)室來(lái)說(shuō)堪稱完美。憑借出色特性,，它們已助力眾多科研團(tuán)隊(duì)取得成果,，成為科研創(chuàng)新的得力助手 。重慶BEAM-XL光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米德國(guó)技術(shù)基因：融合精密光學(xué)與自動(dòng)化控制,，確保設(shè)備高穩(wěn)定性與長(zhǎng)壽命,。

Polos-BESM XL Mk2專為6英寸晶圓設(shè)計(jì)，寫入?yún)^(qū)域達(dá)155×155 mm,，平臺(tái)雙向重復(fù)性精度0.1 μm,，滿足工業(yè)級(jí)需求。其搭載20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭,，支持實(shí)時(shí)觀測(cè)與多層對(duì)準(zhǔn),。配套的BEAM Xplorer軟件簡(jiǎn)化了復(fù)雜圖案設(shè)計(jì)流程，內(nèi)置高性能筆記本電腦實(shí)現(xiàn)快速數(shù)據(jù)處理，成為微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）和光子晶體研究的理想工具,。無(wú)掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化,，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒(méi)有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì),。

德國(guó) Polos 光刻機(jī)系列以其緊湊的設(shè)計(jì),，在有限的空間內(nèi)發(fā)揮著巨大作用。對(duì)于研究實(shí)驗(yàn)室,，尤其是空間資源緊張的高校和初創(chuàng)科研機(jī)構(gòu)來(lái)說(shuō),，設(shè)備的空間占用是重要考量因素。Polos 光刻機(jī)占用空間小的特點(diǎn),，使其能夠輕松融入各類實(shí)驗(yàn)室環(huán)境,。? 盡管體積小巧，但它的性能卻毫不遜色,。無(wú)掩模激光光刻技術(shù)保障了高精度的圖案制作,，低成本的優(yōu)勢(shì)降低了科研投入門檻。在小型實(shí)驗(yàn)室中,，科研人員使用 Polos 光刻機(jī),，在微流體、電子學(xué)等領(lǐng)域開(kāi)展研究,，成功取得多項(xiàng)成果,。從微納結(jié)構(gòu)制造到新型器件研發(fā)，Polos 光刻機(jī)證明了小空間也能蘊(yùn)藏大能量,，為科研創(chuàng)新提供有力支持,。固態(tài)電池：鋰金屬界面阻抗降至 50Ω?cm2，電池循環(huán)壽命提升 3 倍,。

大尺寸晶圓的高效處理：Polos-BESM XL的優(yōu)勢(shì),！Polos-BESM XL Mk2專為6英寸晶圓設(shè)計(jì)，寫入?yún)^(qū)域達(dá)155×155 mm,，平臺(tái)重復(fù)性精度0.1 μm,，滿足工業(yè)級(jí)需求。搭配20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭,，實(shí)時(shí)觀測(cè)與多層對(duì)準(zhǔn)功能使其成為光子晶體和柔性電子器件研究的理想工具,。其BEAM Xplorer軟件簡(jiǎn)化復(fù)雜圖案設(shè)計(jì)，內(nèi)置高性能筆記本實(shí)現(xiàn)快速數(shù)據(jù)處理62,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。高頻元件驗(yàn)證：成功開(kāi)發(fā)射頻器件與IDC電容器,，加速國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破,。北京BEAM-XL光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)

無(wú)掩模技術(shù)優(yōu)勢(shì)：摒棄傳統(tǒng)掩模，圖案實(shí)時(shí)調(diào)整,，研發(fā)成本降低 70%,，小批量生產(chǎn)經(jīng)濟(jì)性突出。北京BEAM-XL光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)

單細(xì)胞分選需要復(fù)雜的流體動(dòng)力學(xué)控制結(jié)構(gòu),，傳統(tǒng)光刻難以實(shí)現(xiàn)多尺度結(jié)構(gòu)集成,。Polos 光刻機(jī)的分層曝光功能，在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細(xì)胞捕獲區(qū)與 50μm 寬的廢液通道,，通道高度誤差控制在 ±2% 以內(nèi)。某細(xì)胞生物學(xué)實(shí)驗(yàn)室利用該芯片,，將單細(xì)胞分選通量提升至 1000 個(gè) / 秒,，分選純度達(dá) 98%，較傳統(tǒng)流式細(xì)胞儀體積縮小 90%,。該技術(shù)已應(yīng)用于循環(huán)tumor細(xì)胞檢測(cè),，使稀有細(xì)胞捕獲效率提升 3 倍，相關(guān)設(shè)備進(jìn)入臨床驗(yàn)證階段,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。北京BEAM-XL光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)