來自德國亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計(jì),。科學(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)（2PP）打印微型通道的聚合物母版,，并結(jié)合軟灰度光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作,。隨后,，在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門,。斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心,，共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內(nèi)窺鏡。該內(nèi)窺鏡所用到的微光學(xué)器件寬度只有125微米,，可以用于直徑小于半毫米的血管內(nèi)進(jìn)行內(nèi)窺鏡檢查,。而這個(gè)精密的微光學(xué)器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設(shè)備制作的。微型內(nèi)窺鏡可以幫助檢測人體動(dòng)脈內(nèi)的斑塊,、血栓和膽固醇晶體,，因此對(duì)于醫(yī)學(xué)檢測極其重要，可以有助于減少中風(fēng)和心臟病發(fā)作的風(fēng)險(xiǎn),。更多灰度光刻技術(shù)詳情,，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。重慶高精度灰度光刻3D打印

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。也就是說,，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。廣東Nanoscribe灰度光刻3D打印Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。

全新的Quantum X無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和2.5維光學(xué)元件。 作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng),，在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí),，一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件，達(dá)到所見即所得,。全新的Nanoscribe Quantum X系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細(xì)加工,。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級(jí)衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝,。而且Quantum X提供了完全的設(shè)計(jì)自由度,、高速的打印效率、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度,?？焖佟?zhǔn)確的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計(jì)迭代周期,，實(shí)現(xiàn)了低成本的微納加工,。

近年來，利用雙光子聚合對(duì)聚合物類傳統(tǒng)光刻膠的3D飛秒激光打印技術(shù)已日臻成熟,，其高精度,、高度可設(shè)計(jì)性和維度可控性已經(jīng)在平行技術(shù)中排名在前。與此同時(shí),，如何更有效地將微納結(jié)構(gòu)功能化,，也逐漸成為各種微納加工技術(shù)的研究重點(diǎn)。在現(xiàn)階段,，對(duì)于3D飛秒激光打印技術(shù)而言,，具體來說就是利用其加工的高度可設(shè)計(jì)性來實(shí)現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的功能化和芯片化，并使這些結(jié)構(gòu)能夠更好地集成器件,，從而達(dá)到理想的應(yīng)用目的,。微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見組件，具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力,。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流,、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等,。受加工手段的限制,，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu)，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個(gè)平面物體聚焦至1個(gè)像平面上,，會(huì)產(chǎn)生場曲,。在商業(yè)生產(chǎn)中，為了消除場曲這種光學(xué)像差,，只能在后續(xù)光路中引入場鏡組來進(jìn)行校正，從而增加了器件復(fù)雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設(shè)計(jì)一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您解析雙光子灰度光刻技術(shù),。

Nanoscribe成立于2007年，憑借著爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司（CarlZeissAG）的支持,，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長成為了現(xiàn)在世界公認(rèn)的微納米加工技術(shù)和3D打印市場的帶領(lǐng)者,，并于2017年在上海成立分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。公司主要產(chǎn)品有基于雙光子聚合技術(shù)（Two-PhotonPolymerization）并擁有多項(xiàng)國際專項(xiàng)的雙光子微納3D打印系統(tǒng)PhotonicProfessionalGT2,。全球頭一臺(tái)工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻（2GL®)微納打印設(shè)備QuantumX受到普遍關(guān)注并被眾多高學(xué)府和高科技單位所采用,，例如哈佛大學(xué)，牛津大學(xué)等出名的院校,，華為公司等,。可應(yīng)用于微納機(jī)器人,，再生醫(yī)學(xué)工程,，微納光學(xué)，力學(xué)超材料等不同領(lǐng)域,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是雙光子灰度光刻系統(tǒng),。重慶高精度灰度光刻3D打印

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國際上,，激光直寫設(shè)備是光掩模制備的主要工具,，尤其在高世代TFT-Array掩模的平面圖形，面積可達(dá)110英寸（瑞典MICRONIC）單價(jià)高于1.5億元/套,，制備一個(gè)線寬分辨率1.5微米的110吋光掩模單價(jià)500萬RMB,；然而，這種激光直寫設(shè)備并不適用于微納3Ｄ形貌結(jié)構(gòu)和深紋圖形制備,。已有的基于藍(lán)光405nm直接成像光刻（DIL）適合光刻分辨率較低的圖形,，也不適用于3D結(jié)構(gòu)的灰度光刻。因此,，面向柔性光電子材料與器件的需求,，必須攻克大面積3D形貌的微結(jié)構(gòu)的高效高精度制備，解決海量數(shù)據(jù)高效率轉(zhuǎn)化,、高精度數(shù)據(jù)迭代與疊加曝光,，高速率飛行直寫技術(shù)的難題。重慶高精度灰度光刻3D打印

納糯三維科技（上海）有限公司主要經(jīng)營范圍是儀器儀表,，擁有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)和良好的市場口碑,。公司自成立以來，以質(zhì)量為發(fā)展,，讓匠心彌散在每個(gè)細(xì)節(jié),，公司旗下PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)深受客戶的喜愛,。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念，在儀器儀表深耕多年,，以技術(shù)為先導(dǎo),，以自主產(chǎn)品為重點(diǎn)，發(fā)揮人才優(yōu)勢(shì),，打造儀器儀表良好品牌,。納糯三維秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮,、創(chuàng)意為先,、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營理念，全力打造公司的重點(diǎn)競爭力,。