納米紋理在納米技術(shù)中起著越來越重要的作用。近期的研究表明,，可以通過空間調(diào)節(jié)其納米級像素的高度來進(jìn)一步增強其功能,。但是，實現(xiàn)該概念非常具有挑戰(zhàn)性,，因為它需要對納米像素進(jìn)行“灰度”打印,，其中，納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內(nèi),。只有少數(shù)幾種方法（例如,，灰度光刻或掃描束光刻）可以滿足這種嚴(yán)格的要求，但通常其成本較高,，并且它們中的大多數(shù)需要化學(xué)開發(fā)過程,。因此，具有高垂直和水平分辨率的可重構(gòu)灰度納米像素打印技術(shù)受到高度追捧,。雙光子灰度光刻技術(shù)多強大,，如需了解詳情請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。湖北高精度灰度光刻設(shè)備

   QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）,。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,，使其同時具備高速打印,，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具,。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點在于：這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步,，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下,，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。江蘇進(jìn)口灰度光刻技術(shù)更多雙光子灰度光刻技術(shù)，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。

Nanoscribe稱QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作,。

近年來，利用雙光子聚合對聚合物類傳統(tǒng)光刻膠的3D飛秒激光打印技術(shù)已日臻成熟,，其高精度,、高度可設(shè)計性和維度可控性已經(jīng)在平行技術(shù)中排名在前。與此同時,，如何更有效地將微納結(jié)構(gòu)功能化,，也逐漸成為各種微納加工技術(shù)的研究重點,。在現(xiàn)階段,，對于3D飛秒激光打印技術(shù)而言，具體來說就是利用其加工的高度可設(shè)計性來實現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的功能化和芯片化,，并使這些結(jié)構(gòu)能夠更好地集成器件,，從而達(dá)到理想的應(yīng)用目的。微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見組件,，具有較強的聚焦和成像能力,。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻,、干法刻蝕和注射澆鑄等,。受加工手段的限制,，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu)，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上,，會產(chǎn)生場曲,。如果了解雙光子灰度光刻技術(shù)，敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計獲得想要的結(jié)構(gòu),，對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進(jìn)行后續(xù)的復(fù)制工作,，并通過納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制,。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)（如下圖4所示，八邊金字塔結(jié)構(gòu)）,。微透鏡陣列也是類似,，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您了解Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng),。江蘇進(jìn)口灰度光刻技術(shù)

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術(shù),。湖北高精度灰度光刻設(shè)備

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題,。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),，雙光子聚合技術(shù)是實現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術(shù)，其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級,，并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求,。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常普遍的材料-基板選擇,。湖北高精度灰度光刻設(shè)備

納糯三維科技（上海）有限公司是一家集研發(fā),、生產(chǎn),、咨詢、規(guī)劃,、銷售,、服務(wù)于一體的生產(chǎn)型企業(yè)。公司成立于2017-11-08,，多年來在PPGT2,，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)行業(yè)形成了成熟,、可靠的研發(fā)、生產(chǎn)體系,。主要經(jīng)營PPGT2,，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)等產(chǎn)品服務(wù),，現(xiàn)在公司擁有一支經(jīng)驗豐富的研發(fā)設(shè)計團(tuán)隊，對于產(chǎn)品研發(fā)和生產(chǎn)要求極為嚴(yán)格,，完全按照行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)研發(fā)和生產(chǎn),。我們以客戶的需求為基礎(chǔ)，在產(chǎn)品設(shè)計和研發(fā)上面苦下功夫,，一份份的不懈努力和付出,，打造了Nanoscribe產(chǎn)品。我們從用戶角度,，對每一款產(chǎn)品進(jìn)行多方面分析,，對每一款產(chǎn)品都精心設(shè)計、精心制作和嚴(yán)格檢驗,。納糯三維科技（上海）有限公司嚴(yán)格規(guī)范PPGT2,，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)產(chǎn)品管理流程,，確保公司產(chǎn)品質(zhì)量的可控可靠。公司擁有銷售/售后服務(wù)團(tuán)隊,，分工明細(xì),，服務(wù)貼心,，為廣大用戶提供滿意的服務(wù),。