雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí),。由于需要多次光刻,，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝,，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實(shí)現(xiàn)多級(jí)衍射光學(xué)元件,，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。 Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）,。想要了解灰度光刻技術(shù)的運(yùn)用，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。江蘇超高速灰度光刻

   QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有專項(xiàng)的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）,。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印,，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代,，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型,，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)在于：這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步,，這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小,，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。山東高精度灰度光刻系統(tǒng)Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您一起了解更多關(guān)于雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)的內(nèi)容,。

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說,，在納米級(jí),、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn),，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。

傳感器對(duì)可控技術(shù)的重要性,，在眾多領(lǐng)域都是顯而易見的，無論是從簡單的家用電器,，還是到可穿戴設(shè)備,，甚至到航空應(yīng)用,，只有控制良好的流程才有被優(yōu)化的可能。理想的傳感器應(yīng)該具有高敏感度,，不易故障,，并且易于集成到流程中等優(yōu)點(diǎn)。光纖端面的微型傳感器在這個(gè)方面具有巨大的潛力,。這些傳感器空間占有率小,，可以輕松多路復(fù)用，并且不需要額外的外部能源供應(yīng),。對(duì)于這些基于光纖的傳感器的加工,，雙光子聚合技術(shù)已被證明是其完美的搭檔。事實(shí)上,，任何設(shè)計(jì)模型都能在微觀尺寸上被實(shí)現(xiàn),。然而，大多數(shù)設(shè)計(jì)都是靜態(tài)的,，打印出來的部件在被加工出來后不能進(jìn)行進(jìn)一步的活動(dòng),。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您解析雙光子灰度光刻技術(shù)。

這款灰度光刻設(shè)備具備出色的精度和穩(wěn)定性,。通過先進(jìn)的光刻技術(shù),，它能夠在微米級(jí)別上進(jìn)行精確的圖案制作，確保產(chǎn)品的質(zhì)量和精度達(dá)到比較高水平,。同時(shí),，設(shè)備的穩(wěn)定性也得到了極大的提升，減少了生產(chǎn)過程中的誤差和損耗,，提高了生產(chǎn)效率,。這款設(shè)備具備高效的生產(chǎn)能力。它采用了快速曝光和快速開發(fā)的技術(shù),，**縮短了生產(chǎn)周期,。相比傳統(tǒng)的光刻設(shè)備，它的生產(chǎn)速度提高了30%,，提升了我們的生產(chǎn)效率,。同時(shí)，設(shè)備還具備多通道同時(shí)加工的能力,，可以同時(shí)處理多個(gè)產(chǎn)品,，進(jìn)一步提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)能。更多灰度光刻技術(shù)詳情,，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。北京進(jìn)口灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

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Quantum X shape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®),。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,，受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào),，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑，同時(shí)保持高精度的形狀控制,。它不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué),、微光學(xué)、MEMS,、微流道,、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具，同時(shí)也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具,。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實(shí)用性,。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進(jìn)行打印文件的遠(yuǎn)程監(jiān)控及多用戶的使用配置，實(shí)現(xiàn)推動(dòng)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化及基于晶圓批量效率生產(chǎn),。江蘇超高速灰度光刻

納糯三維科技（上海）有限公司是一家集研發(fā),、制造、銷售為一體的****,，公司位于上海市徐匯區(qū)桂平路391號(hào)3號(hào)樓11層1106A室,，成立于2017-11-08。公司秉承著技術(shù)研發(fā),、客戶優(yōu)先的原則,，為國內(nèi)PPGT2，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)的產(chǎn)品發(fā)展添磚加瓦。Nanoscribe目前推出了PPGT2,，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)等多款產(chǎn)品,，已經(jīng)和行業(yè)內(nèi)多家企業(yè)建立合作伙伴關(guān)系,，目前產(chǎn)品已經(jīng)應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域。我們堅(jiān)持技術(shù)創(chuàng)新,，把握市場關(guān)鍵需求,，以重心技術(shù)能力，助力儀器儀表發(fā)展,。納糯三維科技（上海）有限公司研發(fā)團(tuán)隊(duì)不斷緊跟PPGT2,，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì),，研發(fā)與改進(jìn)新的產(chǎn)品,，從而保證公司在新技術(shù)研發(fā)方面不斷提升，確保公司產(chǎn)品符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)和要求,。納糯三維科技（上海）有限公司以市場為導(dǎo)向，以創(chuàng)新為動(dòng)力,。不斷提升管理水平及PPGT2,，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)產(chǎn)品質(zhì)量,。本公司以良好的商品品質(zhì)、誠信的經(jīng)營理念期待您的到來,！