Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡。微納光學器件制造,，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司,。江蘇德國Nanoscribe

拉曼光譜是針對于有機組織和生物組織的一種強大的分析技術(shù)，可以根據(jù)樣品的個別光譜指紋對其進行定性,，如細菌,。拉曼散射的固有弱點可以通過金屬化的微納結(jié)構(gòu)表面得到加強，從而創(chuàng)造出與樣品相互作用的信號熱點,。在他們的研究中,，科學家們使用雙光子聚合技術(shù)（2PP）在光纖的表面3D打印了這些微納結(jié)構(gòu)，然后添加上一層薄薄的鍍金涂層,。在SERS測量中，激光被耦合到光纖中并激發(fā)光纖探針的微納結(jié)構(gòu)表面的信號熱點,。在與分析物的相互作用中,，SERS信號就可產(chǎn)生并被光纖傳感器收集。重慶進口Nanoscribe微納加工系統(tǒng)快速原型制作,，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司,。

為了探索待測物微納米表面形貌，探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實驗項目,。然而,，由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝，在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過去幾十年中沒有明顯的研究進展,，這也限制了基于力傳感反饋的測量性能,。如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,，以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),，雙光子聚合技術(shù)是實現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術(shù),，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級，并可達到光學質(zhì)量表面的要求,。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。

雙光子聚合（2PP）是一種可實現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計自由度的增材制造方法,。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)Quantum X shape具有下列優(yōu)異性能：首先，在所有空間方向上低至 100 納米的特征尺寸控制,，適用于納米和微米級打?。黄浯沃谱鞲哌_ 50 毫米的目標結(jié)構(gòu),，適用于中尺度打印,。高速3D微納加工系統(tǒng)Quantum X shape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺,。Quantum X  shape具有先進的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度,，并以 1 MHz 調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率更多有關(guān)增材制造的咨詢,，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

Nanoscribe稱,，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目,，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)?，可在一開始就指導(dǎo)設(shè)計師和工程師完成打印作業(yè),，并能夠接受任意光學設(shè)計的灰度圖像。例如,，可接受高達32位分辨率的BMP,、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造通過使用Nanoscribe的3D打印系統(tǒng),，科學家們實現(xiàn)了直接在硅基光子芯片上制作中空3D光波導(dǎo)的微觀結(jié)構(gòu),。海南德國Nanoscribe微納光刻

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Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物,，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層,。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）,。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準工藝,，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。江蘇德國Nanoscribe