Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物,，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層,。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）,。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí),。由于需要多次光刻,，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高,。Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域,，諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人等等,。重慶TPPNanoscribe三維光刻

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域,。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計(jì)來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,，可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子,，機(jī)械，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu),。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。也就是說，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。進(jìn)口Nanoscribe技術(shù)增材制造技術(shù)具有高的堅(jiān)固性，穩(wěn)定性,，耐用性,。

Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術(shù)的打印機(jī)競(jìng)爭(zhēng)，例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案,；LithoProf3D,，一種由另一家德國(guó)公司MultiphotonOptics制造的先進(jìn)微型激光光刻3D打印機(jī)，以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機(jī)Altraspin,。作為市場(chǎng)上的新選擇之一,，QuantumXshape承諾采用“非常先進(jìn)的微加工工藝”，可實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,，在其中可以比較好平衡精度和速度,，以實(shí)現(xiàn)特別高水平的生產(chǎn)力和質(zhì)量。Nanoscribe認(rèn)為該打印機(jī)能夠產(chǎn)生“非常出色的輸出”,，該打印機(jī)依賴于基于移動(dòng)鏡技術(shù)的振鏡(Galvo)系統(tǒng)和基于堅(jiān)固花崗巖的平臺(tái)上的智能電子系統(tǒng)控制單元,，并結(jié)合了行業(yè)-級(jí)脈沖飛秒激光器。QuantumXshape可以使用Nanoscribe專有的聚合物和二氧化硅材料打印3D微型部件,，并且對(duì)第三方或定制材料開放,。此外，它可以通過設(shè)備的集成觸摸屏和遠(yuǎn)程訪問軟件nanoConnectX進(jìn)行控制,，允許遠(yuǎn)程控制連接打印機(jī)的打印作業(yè),，將實(shí)驗(yàn)室的準(zhǔn)備時(shí)間減少到限度低值，并在共享系統(tǒng)時(shí)簡(jiǎn)化團(tuán)隊(duì)協(xié)作

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,，PIC) 與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器,、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件，比如激光器,、電光調(diào)制器,、光電探測(cè)器、光衰減器,、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等,。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動(dòng)駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動(dòng)感應(yīng)設(shè)備等,。而光子集成電路這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù),，尤其是微型光子組件應(yīng)用，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本,。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接，可以有效提高集成度和功能性,。使用Nanoscribe的3D微加工技術(shù)并配合其新型研發(fā)的IP-Visio光刻膠,，可以打印極其復(fù)雜的3D微支架。

Nanoscribe稱,，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)?，可在一開始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè),，并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像。例如,，可接受高達(dá)32位分辨率的BMP,、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX進(jìn)行直接制造走進(jìn)Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技（上海）有限公司學(xué)習(xí)增材制造技術(shù),。江蘇Nanoscribe無掩膜激光直寫

通過Nanoscribe技術(shù),，我們可以實(shí)現(xiàn)微觀世界的精密控制和制造。重慶TPPNanoscribe三維光刻

Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),，用于快速,，精度非常高的微納加工,，可以輕松3D微納光學(xué)制作?？梢源钆洳煌幕?，包括玻璃，硅晶片,，光子和微流控芯片等,，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求,。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù),，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o需額外成本增加的前提下,，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作,。重慶TPPNanoscribe三維光刻