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浙江Nanoscribe灰度光刻3D打印

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-07-09

將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體,,其中吸收的光的強(qiáng)度特別高,。Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商,2019年6月25日,南極熊從外媒獲悉,,該公司近日推出了一款新型的機(jī)器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件,,其尺寸可小至200微米,。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beers定律對當(dāng)今的無掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制,,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),,克服了這些限制,提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性,,我們的客戶正在微加工的前沿工作,。灰度光刻技術(shù)可以相當(dāng)于二元套刻的多次曝光,,提高了光刻效率,。浙江Nanoscribe灰度光刻3D打印

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NanoscribeQuantumXalign作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù),可實(shí)現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級精確對準(zhǔn),。全新灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®在實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的打印質(zhì)量同時(shí)兼顧打印速度,,適用于微光學(xué)制造和光子封裝領(lǐng)域。3Dprintingby2GL®將Nanoscribe的灰度技術(shù)推向了三維層面,。整個(gè)打印過程在最高速度掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)制激光功率,。這使得聚合的體素得到精確尺寸調(diào)整,以完美匹配任何3D形狀的輪廓,。在無需切片步驟,,不產(chǎn)生形狀失真的要求下,您將獲得具有無瑕疵光學(xué)表面的任意3D打印設(shè)計(jì)的真實(shí)完美形狀,。廣東德國灰度光刻3D微納加工灰度光刻技術(shù)自動(dòng)化程度較高,,可以減少人工干預(yù),提高生產(chǎn)效率,。

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傳統(tǒng)3D打印難以實(shí)現(xiàn)對于復(fù)雜設(shè)計(jì)或曲線形狀的高分辨率3D打印,,必須切片并分為大量水平和垂直層。這會(huì)明顯增加對于平滑,、曲線或精細(xì)結(jié)構(gòu)的打印時(shí)間,。雙光子聚合技術(shù)(2PP)則可以解決這個(gè)難題。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)可實(shí)現(xiàn)體素調(diào)節(jié),,從而明顯減少打印層數(shù),。這是通過掃描過程中的快速激光調(diào)制來實(shí)現(xiàn)的。并且,,這項(xiàng)技術(shù)已從原先適用于,。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®,該技術(shù)具備實(shí)現(xiàn)出色形狀精度的優(yōu)越打印品質(zhì),并將Nanoscribe的灰度技術(shù)拓展到三維層面,。整個(gè)打印過程在保持高速掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率,。這使得聚合體素得到精確尺寸調(diào)整,以完美匹配任何3D形狀的輪廓,。在無需切片步驟,,不產(chǎn)生形狀失真的要求下,您將獲得具有無瑕疵光學(xué)級表面的任意3D打印設(shè)計(jì)的真實(shí)完美形狀,。

QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),,克服了這些限制,提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性,。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn),您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,,包括球形,,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì)。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作,。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu),。實(shí)現(xiàn)對光刻膠表面深度的精確控制,從而制備出更加復(fù)雜和精細(xì)的微納結(jié)構(gòu),。

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近年來,,實(shí)現(xiàn)微納尺度下的3D灰度光刻結(jié)構(gòu)在包括微機(jī)電(MEMS)、微納光學(xué)及微流控研究領(lǐng)域內(nèi)備受關(guān)注,,良好的線性側(cè)壁灰度結(jié)構(gòu)可以很大程度上提高維納器件的靜電力學(xué)特性,,信號通訊性能及微流通道的混合效率等。相比一些獲取灰度結(jié)構(gòu)的傳統(tǒng)手段,,如超快激光刻蝕工藝,、電化學(xué)腐蝕或反應(yīng)離子刻蝕等,灰度直寫圖形曝光結(jié)合干法刻蝕可以更加方便地制作任意圖形的3D微納結(jié)構(gòu),。該方法中,,利用微鏡矩陣(DMD)開合控制的激光灰度直寫曝光表現(xiàn)出更大的操作便捷性、易于設(shè)計(jì)等特點(diǎn),,不需要特定的灰度色調(diào)掩膜版,,結(jié)合軟件的圖形化設(shè)計(jì)可以直觀地獲得灰度結(jié)構(gòu)。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您探討灰度光刻技術(shù)的用途和特點(diǎn),。浙江Nanoscribe灰度光刻3D打印

灰度光刻技術(shù)的精度受到灰度值的影響,。浙江Nanoscribe灰度光刻3D打印

傳感器對可控技術(shù)的重要性,在眾多領(lǐng)域都是顯而易見的,無論是從簡單的家用電器,,還是到可穿戴設(shè)備,,甚至到航空應(yīng)用,只有控制良好的流程才有被優(yōu)化的可能,。理想的傳感器應(yīng)該具有高敏感度,,不易故障,并且易于集成到流程中等優(yōu)點(diǎn),。光纖端面的微型傳感器在這個(gè)方面具有巨大的潛力,。這些傳感器空間占有率小,可以輕松多路復(fù)用,,并且不需要額外的外部能源供應(yīng),。對于這些基于光纖的傳感器的加工,雙光子聚合技術(shù)已被證明是其完美的搭檔,。事實(shí)上,,任何設(shè)計(jì)模型都能在微觀尺寸上被實(shí)現(xiàn)。然而,,大多數(shù)設(shè)計(jì)都是靜態(tài)的,,打印出來的部件在被加工出來后不能進(jìn)行進(jìn)一步的活動(dòng)。浙江Nanoscribe灰度光刻3D打印