Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進行直寫，而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,，對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）,。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同,。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中,，成像中的熒光強度和折射率高度相關(guān),，同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化。Nanoscribe于2018年推出了用于微加工和無掩模光刻的Photonic Professional GT2 3D打印機,。雙光子聚合無掩膜光刻激光直寫

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義?？偠灾?，該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性（如生命科學(xué)、材料工程,、微流體,、微納光學(xué)、微機械和微電子機械系統(tǒng)（MEMS）等）,。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,，可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動了生命科學(xué),，微流體,，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作,。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng)，非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造,。河南2PP無掩膜光刻系統(tǒng)Nansocribe公司的無掩模光刻系統(tǒng),，采用一種全新的方式解決了制造并集成3D微納結(jié)構(gòu)到2D微流體通道的問題 。

事實上,，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,，其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時這個實驗室在nature上發(fā)表的一篇工作,，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,，這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作，這兩位教授做出了當(dāng)時世界上特別小的彈簧振子,，其加工分辨率達到了120nm,，超越了衍射極限，同時還沒有使用諸如近場加工之類的解決方案,，而是單純的利用了材料的性質(zhì),。來自不來梅大學(xué)微型傳感器、致動器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學(xué)家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式,，使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng),，利用雙光子聚合原理（2PP）結(jié)合光刻技術(shù)，將自由形式3D微流控混合元件集成到預(yù)制的晶圓級二維微流道中,。該微型混合器可以處理高達100微升/分鐘的高流速樣品,，適用于藥物和納米顆粒制造，快速化學(xué)反應(yīng),、生物學(xué)測量和分析藥物等各種不同應(yīng)用,。

這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產(chǎn)品，名為3D無掩模光刻,。無論您是進行科學(xué)研究還是制作工業(yè)手板,，這款產(chǎn)品都能滿足您的需求。它不僅高效,，而且精度非常高,，能夠適用于多種尺度和多種應(yīng)用領(lǐng)域，極大地節(jié)省了加工時間,。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型,，無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進行制作。如果您想要在科學(xué)研究或工業(yè)生產(chǎn)中得到更好的效果,，3D無掩模光刻是您的比較好選擇,。它能夠為您節(jié)省時間和精力，讓您專注于更重要的事情。立即購買,，體驗高效、高精度的3D無掩模光刻吧,！想要了解無掩膜光刻的特點和用途,，請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

作為基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的微細加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者,，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體,。“我們?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術(shù)而感到自豪,，憑借我們的技術(shù)支持,，我們的客戶實現(xiàn)了一個又一個突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力,、屢獲殊榮的公司,，與客戶保持良好密切的合作關(guān)系是我們保持優(yōu)于市場地位的關(guān)鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官MartinHermatschweiler表示?；?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識,，Nanoscribe為前列科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術(shù)支持，并推動生物打印,、微流體,、微納光學(xué)、微機械,、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展,。“我們非常期待加入CELLINK集團,，共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機遇”MartinHermatschweiler說道,。高精度無掩膜光刻寫，為您提供高效,、精細的加工解決方案,。雙光子聚合無掩膜光刻激光直寫

無掩膜光刻在生活中應(yīng)用。雙光子聚合無掩膜光刻激光直寫

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個光學(xué)元件,、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目,，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司雙光子聚合無掩膜光刻激光直寫