Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù),。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具,。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX,，并榮獲創(chuàng)新獎,。該系統(tǒng)是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）的精密加工微納米打印系統(tǒng),，可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué),。該系統(tǒng)的面世表示著Nanoscribe已進軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域,。具有全自動化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求,。雙光子灰度光刻技術(shù)多強大，如需了解詳情請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。湖北高分辨率灰度光刻激光直寫

Nanoscribe成立于2007年,，憑借著爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司（CarlZeissAG）的支持，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長成為了現(xiàn)在世界公認的微納米加工技術(shù)和3D打印市場的帶領(lǐng)者,，并于2017年在上海成立分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。公司主要產(chǎn)品有基于雙光子聚合技術(shù)（Two-PhotonPolymerization）并擁有多項國際專項的雙光子微納3D打印系統(tǒng)PhotonicProfessionalGT2。全球頭一臺工業(yè)級雙光子灰度光刻（2GL®)微納打印設(shè)備QuantumX受到普遍關(guān)注并被眾多高學(xué)府和高科技單位所采用,，例如哈佛大學(xué),，牛津大學(xué)等出名的院校，華為公司等,?？蓱?yīng)用于微納機器人,，再生醫(yī)學(xué)工程，微納光學(xué),，力學(xué)超材料等不同領(lǐng)域,。江蘇德國灰度光刻技術(shù)3D打印聚焦Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司，給您講解灰度光刻技術(shù),。

在雙光子灰度光刻工藝中,，激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現(xiàn)同步進行，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制,。Nanoscribe稱,，QuantumX在每個掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡單和復(fù)雜的光學(xué)形狀，具有可變的特征高度,。離散和精確的步驟,，以及本質(zhì)上為準(zhǔn)連續(xù)的形貌，可以在一個步驟中完成打印,，而不需要多步光刻或多塊掩模制造,。Quantum X支持多種類型襯底，包括透明和不透明的襯底,，可用于比較大尺寸為6英寸的晶圓,。Nanoscribe展示了其公司易于操作的光刻機，允許高縱橫比,，支持高結(jié)構(gòu),，無需掩模、旋涂和預(yù)烘烤或后烘烤,。

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,，PIC) 與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管,、電容器、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件,，比如激光器、電光調(diào)制器,、光電探測器,、光衰減器、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等,。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,，例如數(shù)據(jù)通訊，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等,。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù),，尤其是微型光子組件應(yīng)用,，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,，需要權(quán)衡對準(zhǔn),、效率和寬帶方面的種種要求。針對這些困難,，科學(xué)家們提出了寬帶光纖耦合概念,，并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設(shè)備而制造的3D耦合器得以實現(xiàn)。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘雙光子灰度光刻系統(tǒng)的應(yīng)用,。

    Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）,。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具,。這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到準(zhǔn)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,，并在不影響速度的情況下,，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合,，使其同時具備高速打印,，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。 Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術(shù),。天津高分辨率灰度光刻系統(tǒng)

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL ?)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。湖北高分辨率灰度光刻激光直寫

Nanoscribe成立于2007年,，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司,。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化,，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。湖北高分辨率灰度光刻激光直寫

納糯三維科技（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加楓路26號108室,，交通便利，環(huán)境優(yōu)美，是一家生產(chǎn)型企業(yè),。公司是一家外商獨資企業(yè)企業(yè),，以誠信務(wù)實的創(chuàng)業(yè)精神、專業(yè)的管理團隊,、踏實的職工隊伍,，努力為廣大用戶提供***的產(chǎn)品。以滿足顧客要求為己任,；以顧客永遠滿意為標(biāo)準(zhǔn),；以保持行業(yè)優(yōu)先為目標(biāo)，提供***的PPGT2,，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng),。納糯三維自成立以來,，一直堅持走正規(guī)化、專業(yè)化路線,，得到了廣大客戶及社會各界的普遍認可與大力支持,。