光刻膠(Photoresist)是一種對(duì)光敏感的高分子材料,主要用于光刻工藝中,,通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移,,是半導(dǎo)體、集成電路(IC),、印刷電路板(PCB),、液晶顯示(LCD)等制造領(lǐng)域的材料之一。
光刻膠特性與組成
? 光敏性:在特定波長(zhǎng)(如紫外光,、極紫外光EUV等)照射下,,會(huì)發(fā)生化學(xué)結(jié)構(gòu)變化(如交聯(lián)或分解),從而改變?cè)陲@影液中的溶解性,。
? 主要成分:
? 樹(shù)脂(成膜劑):形成基礎(chǔ)膜層,,決定光刻膠的機(jī)械和化學(xué)性能。
? 光敏劑:吸收光能并引發(fā)化學(xué)反應(yīng)(如光分解,、光交聯(lián)),。
? 溶劑:調(diào)節(jié)粘度,便于涂覆成膜,。
? 添加劑:改善性能(如感光度,、分辨率、對(duì)比度等),。
PCB廠商必看,!這款G-line光刻膠讓生產(chǎn)成本直降30%。正性光刻膠價(jià)格
吉田半導(dǎo)體 JT-3001 厚板光刻膠:歐盟 RoHS 認(rèn)證,,PCB 電路板制造
憑借抗深蝕刻性能與環(huán)保特性,,吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業(yè)材料。
吉田半導(dǎo)體推出的 JT-3001 厚板光刻膠,,分辨率達(dá) 1.5μm,,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,適用于高密度電路板制造,。產(chǎn)品通過(guò)歐盟 RoHS 認(rèn)證,,采用無(wú)鹵無(wú)鉛配方,符合環(huán)保要求,。其優(yōu)異的感光度與留膜率,,確保復(fù)雜線路圖形的成型,已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。公司提供從材料選型到工藝優(yōu)化的全流程支持,,助力客戶提升生產(chǎn)效率與良率,。
北京制版光刻膠國(guó)產(chǎn)廠商半導(dǎo)體材料選吉田,歐盟認(rèn)證,,支持定制化解決方案!
吉田半導(dǎo)體柯圖泰全系列感光膠:進(jìn)口品牌品質(zhì),,本地化服務(wù)支持
柯圖泰全系列感光膠依托進(jìn)口技術(shù),提供高性價(jià)比的絲網(wǎng)印刷解決方案,。
吉田半導(dǎo)體代理的柯圖泰全系列感光膠(如 PLUS 6000,、Autosol 2000),源自美國(guó)先進(jìn)配方,,分辨率達(dá) 120 線 / 英寸,,適用于玻璃、陶瓷等多種基材,。產(chǎn)品通過(guò) SGS 認(rèn)證,,符合電子行業(yè)有害物質(zhì)限制要求,其高感光度與耐摩擦性,,確保絲網(wǎng)印刷的清晰度與耐久性,。公司提供技術(shù)參數(shù)匹配、制版工藝指導(dǎo)等本地化服務(wù),,幫助客戶優(yōu)化生產(chǎn)流程,降低材料損耗,。
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產(chǎn)品特點(diǎn):耐溶劑型優(yōu)良,,抗潮耐水性好,耐印率高,;固含量高,,流平性好,涂布性能優(yōu)良,;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,網(wǎng)版平滑,、無(wú)白點(diǎn),、無(wú)沙眼、亮度高,;剝膜性好,網(wǎng)版可再生使用,;解像性,、高架橋性好,,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條;感光度高,,曝光時(shí)間短,,曝光寬容度大,,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間,,提高工作效率 ,。
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應(yīng)用范圍:適用于塑料、皮革,、標(biāo)牌,、印刷電路板(PCB),、廣告宣傳、玻璃,、陶瓷,、紡織品等產(chǎn)品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案,,滿足皮革制品精細(xì)印刷需求,,制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰,,用于 PCB 制造滿足高精度要求等。
吉田半導(dǎo)體公司基本概況,。
技術(shù)優(yōu)勢(shì):23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破
全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實(shí)現(xiàn)了從樹(shù)脂合成,、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化,。例如,其納米壓印光刻膠通過(guò)自主開(kāi)發(fā)的樹(shù)脂體系,,實(shí)現(xiàn)了3μm的分辨率,,適用于MEMS傳感器,、光學(xué)器件等領(lǐng)域,。
技術(shù)壁壘:公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗(yàn),,掌握光刻膠主要原材料(如樹(shù)脂,、光酸)的合成技術(shù),,部分原材料純度達(dá)PPT級(jí)。
細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn)
? 納米壓印光刻膠:在納米級(jí)圖案化領(lǐng)域(如量子點(diǎn)顯示,、生物芯片)實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破,,分辨率達(dá)3μm,,填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空缺,。
? LCD光刻膠:針對(duì)顯示面板行業(yè)需求,開(kāi)發(fā)出高感光度,、高對(duì)比度的光刻膠,,適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù),。
研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證,,與新材料領(lǐng)域同伴們合作開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體光刻膠,,計(jì)劃2025年啟動(dòng)半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā),。
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作為中國(guó)半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè),,吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終以自研自產(chǎn)為戰(zhàn)略,,通過(guò) 23 年技術(shù)沉淀與持續(xù)創(chuàng)新,成功突破多項(xiàng) “卡脖子” 技術(shù),,構(gòu)建起從原材料到成品的全鏈條國(guó)產(chǎn)化能力,。其自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品已覆蓋芯片制造,、顯示面板,、精密電子等領(lǐng)域,為國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供關(guān)鍵支撐,。
吉田半導(dǎo)體依托自主研發(fā)中心與產(chǎn)學(xué)研合作,,在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)多項(xiàng)技術(shù)突破:
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YK-300 正性光刻膠:分辨率達(dá) 0.35μm,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,,適用于 45nm 及以上制程,良率達(dá) 98% 以上,,成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低 40%,已通過(guò)中芯國(guó)際量產(chǎn)驗(yàn)證,。
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SU-3 負(fù)性光刻膠:支持 3μm 厚膜加工,,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,成功應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片封裝,,良率提升至 98.5%,。
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JT-2000 納米壓印光刻膠:突破 250℃耐高溫極限,圖形保真度 > 95%,,性能對(duì)標(biāo)德國(guó) MicroResist 系列,已應(yīng)用于國(guó)產(chǎn) EUV 光刻機(jī)前道工藝,。
正性光刻膠價(jià)格
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司是一家有著先進(jìn)的發(fā)展理念,先進(jìn)的管理經(jīng)驗(yàn),,在發(fā)展過(guò)程中不斷完善自己,,要求自己,不斷創(chuàng)新,,時(shí)刻準(zhǔn)備著迎接更多挑戰(zhàn)的活力公司,,在廣東省等地區(qū)的電工電氣中匯聚了大量的人脈以及**,,在業(yè)界也收獲了很多良好的評(píng)價(jià),這些都源自于自身的努力和大家共同進(jìn)步的結(jié)果,,這些評(píng)價(jià)對(duì)我們而言是比較好的前進(jìn)動(dòng)力,,也促使我們?cè)谝院蟮牡缆飞媳3謯^發(fā)圖強(qiáng)、一往無(wú)前的進(jìn)取創(chuàng)新精神,,努力把公司發(fā)展戰(zhàn)略推向一個(gè)新高度,,在全體員工共同努力之下,全力拼搏將共同吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起攜手走向更好的未來(lái),,創(chuàng)造更有價(jià)值的產(chǎn)品,,我們將以更好的狀態(tài),更認(rèn)真的態(tài)度,,更飽滿的精力去創(chuàng)造,,去拼搏,去努力,,讓我們一起更好更快的成長(zhǎng),!