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廣東水性光刻膠廠家

來源: 發(fā)布時間:2025-05-31

 吉田半導體納米壓印光刻膠 JT-2000:國產(chǎn)技術突破耐高溫極限

自主研發(fā) JT-2000 納米壓印光刻膠耐受 250℃高溫,,為國產(chǎn)納米器件制造提供關鍵材料,。吉田半導體 JT-2000 納米壓印光刻膠采用國產(chǎn)交聯(lián)樹脂,,在 250℃高溫下仍保持圖形保真度 > 95%。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動化工藝,,其高粘接強度與耐強酸強堿特性,適用于光學元件,、傳感器等精密器件,。產(chǎn)品已通過國內(nèi)科研機構驗證,,應用于國產(chǎn) EUV 光刻機前道工藝,幫助客戶實現(xiàn)納米結(jié)構加工自主化,。
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廣東吉田半導體材料有限公司的產(chǎn)品體系豐富且功能強大。

在光刻膠領域,,芯片光刻膠為芯片制造中的精細光刻環(huán)節(jié)提供關鍵支持,,確保芯片線路的精細刻畫;

納米壓印光刻膠適用于微納加工,,助力制造超精細的微納結(jié)構,;

LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產(chǎn)過程中的光刻需求,保障面板成像質(zhì)量,。

在電子焊接方面,,半導體錫膏與焊片性能,能實現(xiàn)可靠的電氣連接,,廣泛應用于各類電子設備組裝,。

靶材產(chǎn)品在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關鍵作用,通過精細控制材料沉積,,為半導體器件制造提供高質(zhì)量的薄膜材料,。憑借出色品質(zhì),遠銷全球,,深受眾多世界 500 強企業(yè)和電子加工企業(yè)青睞 ,。 山西正性光刻膠工廠LCD 光刻膠供應商哪家好?吉田半導體高分辨率 + 低 VOC 配方!

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廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,各有特性與優(yōu)勢,,適用于不同領域。

厚板光刻膠 JT - 3006:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,,抗深蝕刻性能良好,,符合歐盟 ROHS 標準,保質(zhì)期 1 年,。需保存在干燥區(qū)域并密封,,使用前要閱讀參考技術資料。適用于厚板的光刻加工,,在對精度,、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場景中發(fā)揮作用,如特定的電路板制造領域,。

水油光刻膠 SR - 3303:適用于光學儀器,、太陽能電池等領域的光刻工藝。品質(zhì)保障,、性能穩(wěn)定的特點,,由工廠研發(fā)且支持定制,工廠直銷,。

  1. 產(chǎn)品特點:耐溶劑型優(yōu)良,,抗潮耐水性好,耐印率高,;固含量高,,流平性好,涂布性能優(yōu)良,;經(jīng)特殊乳化聚合技術處理,,網(wǎng)版平滑、無白點,、無沙眼,、亮度高;剝膜性好,,網(wǎng)版可再生使用;解像性,、高架橋性好,,易做精細網(wǎng)點和線條;感光度高,,曝光時間短,,曝光寬容度大,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時間,提高工作效率 ,。
  2. 應用范圍:適用于塑料,、皮革、標牌,、印刷電路板(PCB),、廣告宣傳、玻璃,、陶瓷,、紡織品等產(chǎn)品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案,,滿足皮革制品精細印刷需求,,制作各類標牌保證圖案清晰,用于 PCB 制造滿足高精度要求等,。
技術突破加速國產(chǎn)替代,,國產(chǎn)化布局贏得市場。

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廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,主要涵蓋厚板,、負性、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,,以滿足不同領域的需求。

UV 納米壓印光刻膠:JT-2000 型號,,耐強酸強堿,,耐高溫達 250°C,長期可靠性高,,粘接強度高,,重量 100g。適用于需要在特殊化學和高溫環(huán)境下進行納米壓印光刻的工藝,,如半導體器件制造,。

其他光刻膠

  • 水油光刻膠 JT-2001:屬于水油兩用光刻膠,具有工廠研發(fā),、可定制,、使用、品質(zhì)保障,、性能穩(wěn)定的特點,,重量 1L。
  • 水油光刻膠 SR-3308:同樣為水油兩用光刻膠,,重量 5L,,具備上述通用優(yōu)勢,,應用場景。


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光刻膠新興及擴展應用,。廣東水性光刻膠廠家

 原料準備

? 主要成分:樹脂(成膜劑,如酚醛樹脂,、聚酰亞胺等),、感光劑(光引發(fā)劑或光敏化合物,如重氮萘醌,、光刻膠單體),、溶劑(溶解成分,如丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)),、添加劑(調(diào)節(jié)粘度,、感光度、穩(wěn)定性等,,如表面活性劑,、穩(wěn)定劑)。

? 原料提純:對樹脂,、感光劑等進行高純度精制(純度通常要求99.9%以上),,避免雜質(zhì)影響光刻精度。

 配料與混合

? 按配方比例精確稱量各組分,,在潔凈環(huán)境,,如萬中通過攪拌機均勻混合,形成膠狀溶液,。

? 控制溫度(通常20-30℃)和攪拌速度,,避免氣泡產(chǎn)生或成分分解。

 過濾與純化

? 使用納米級濾膜(孔徑0.05-0.2μm)過濾,,去除顆粒雜質(zhì)(如金屬離子,、灰塵),確保膠液潔凈度,,避免光刻時產(chǎn)生缺陷,。

 性能檢測

? 物理指標:粘度、固含量,、表面張力,、分子量分布等,影響涂布均勻性,。

? 化學指標:感光度,、分辨率、對比度,、耐蝕刻性,通過曝光實驗和顯影測試驗證。

? 可靠性:存儲穩(wěn)定性(常溫/低溫保存下的性能變化),、耐溫性(烘烤過程中的抗降解能力),。

 包裝與儲存

? 在惰性氣體(如氮氣)環(huán)境下分裝至避光容器(如棕色玻璃瓶或鋁罐),防止感光劑氧化或光分解,。

? 儲存條件:低溫(5-10℃),、避光、干燥,,部分產(chǎn)品需零下環(huán)境(如EUV光刻膠),。
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