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杭州正性光刻膠價(jià)格

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-06-14

聚焦先進(jìn)封裝需求,,吉田半導(dǎo)體提供從光刻膠到配套材料的一站式服務(wù),,助力高性能芯片制造。
在 5G 芯片與 AI 處理器封裝領(lǐng)域,,吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 SU-3 負(fù)性光刻膠支持 3μm 厚膜加工,,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,,為高密度金屬互連提供可靠支撐。其 BGA 助焊膏采用低溫固化技術(shù)(180℃),,焊接空洞率 < 5%,;針筒錫膏適用于 01005 超微型元件,印刷精度達(dá) ±5μm,。通過標(biāo)準(zhǔn)化實(shí)驗(yàn)室與快速響應(yīng)團(tuán)隊(duì),,公司為客戶提供工藝優(yōu)化建議,幫助降低生產(chǎn)成本,,增強(qiáng)市場競爭力,。政策支持:500億加碼產(chǎn)業(yè)鏈。杭州正性光刻膠價(jià)格

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國產(chǎn)替代進(jìn)程加速
日本信越化學(xué)因地震導(dǎo)致KrF光刻膠產(chǎn)能受限后,,國內(nèi)企業(yè)加速驗(yàn)證本土產(chǎn)品,。鼎龍股份潛江工廠的KrF/ArF產(chǎn)線2024年12月獲兩家大廠百萬大單,二期300噸生產(chǎn)線在建,。武漢太紫微的T150A光刻膠性能參數(shù)接近日本UV1610,,已通過中芯國際14nm工藝驗(yàn)證。預(yù)計(jì)到2025年,,國內(nèi)KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率將從不足5%提升至10%。

 原材料國產(chǎn)化突破
光刻膠樹脂占成本50%-60%,,八億時(shí)空的光刻膠樹脂產(chǎn)線預(yù)計(jì)2025年實(shí)現(xiàn)百噸級(jí)量產(chǎn),,其產(chǎn)品純度達(dá)到99.999%,金屬雜質(zhì)含量低于1ppb,。怡達(dá)股份作為全球電子級(jí)PM溶劑前段(市占率超40%),,與南大光電合作開發(fā)配套溶劑,打破了日本關(guān)東化學(xué)的壟斷,。這些進(jìn)展使光刻膠生產(chǎn)成本降低約20%,。

 供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)緩解
合肥海關(guān)通過“空中專線”保障光刻膠運(yùn)輸,將進(jìn)口周期從28天縮短至17天,,碳排放減少18%,。國內(nèi)在建12座光刻膠工廠(占全球總數(shù)58%),預(yù)計(jì)2025年產(chǎn)能達(dá)3000噸/年,,較2023年增長150%,。
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作為東莞松山湖的企業(yè),吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年,,成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠,。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,,良率達(dá) 98% 以上,,已通過中芯國際等晶圓廠驗(yàn)證;JT-2000 突破耐高溫極限,在 250℃復(fù)雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性,,適用于 EUV 光刻前道工藝,。依托進(jìn)口原材料與全自動(dòng)化生產(chǎn)工藝,產(chǎn)品通過 ISO9001 認(rèn)證及歐盟 RoHS 標(biāo)準(zhǔn),,遠(yuǎn)銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作,,加速國產(chǎn)替代進(jìn)程。

光刻膠系列

厚板光刻膠 JT - 3001,,具備優(yōu)異分辨率,、感光度和抗深蝕刻性能,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),,保質(zhì)期 1 年,;

水油光刻膠 SR - 3308,容量 5L,;SU - 3 負(fù)性光刻膠,,分辨率優(yōu)異,對(duì)比度良好,,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),重量 100g,;

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000,,有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,分辨率高,,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好,;

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,,耐高溫達(dá) 250°C,,長期可靠性高,粘接強(qiáng)度高,,重量 100g,;

LCD 正性光刻膠 YK - 200,具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力,重量 100g,;

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300,,具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,,重量 100g,;

耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100,重量 1L,。 吉田半導(dǎo)體光刻膠,,45nm 制程驗(yàn)證,國產(chǎn)替代方案!

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吉田半導(dǎo)體突破 ArF 光刻膠技術(shù)壁壘,,國產(chǎn)替代再迎新進(jìn)展

自主研發(fā) ArF 光刻膠通過中芯國際驗(yàn)證,,吉田半導(dǎo)體填補(bǔ)國內(nèi)光刻膠空白。
吉田半導(dǎo)體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠,,分辨率達(dá) 90nm,,適用于 14nm 及以上制程,已通過中芯國際量產(chǎn)驗(yàn)證,。該產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與自主配方,,突破日本企業(yè)對(duì) ArF 光刻膠的壟斷。其光酸產(chǎn)率提升 30%,,蝕刻選擇比達(dá) 4:1,,性能對(duì)標(biāo)日本信越的 ArF 系列。吉田半導(dǎo)體的技術(shù)突破加速了國產(chǎn)芯片制造材料自主化進(jìn)程,,為國內(nèi)晶圓廠提供高性價(jià)比解決方案,。
吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品矩陣。江西網(wǎng)版光刻膠品牌

告別顯影殘留,!化學(xué)增幅型光刻膠助力封裝,。杭州正性光刻膠價(jià)格

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,主要涵蓋厚板,、負(fù)性、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,,以滿足不同領(lǐng)域的需求。

UV 納米壓印光刻膠:JT-2000 型號(hào),,耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,,耐高溫達(dá) 250°C,長期可靠性高,,粘接強(qiáng)度高,,重量 100g。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,,如半導(dǎo)體器件制造,。

其他光刻膠

  • 水油光刻膠 JT-2001:屬于水油兩用光刻膠,具有工廠研發(fā),、可定制,、使用、品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),,重量 1L,。
  • 水油光刻膠 SR-3308:同樣為水油兩用光刻膠,重量 5L,,具備上述通用優(yōu)勢,,應(yīng)用場景。


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標(biāo)簽: 錫膏 錫片 光刻膠