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深圳負(fù)性光刻膠感光膠

來(lái)源： 發(fā)布時(shí)間：2025-06-14

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以全球化視野布局市場(chǎng),，通過(guò)嚴(yán)格的質(zhì)量管控與完善的服務(wù)體系贏得客戶信賴(lài)。公司產(chǎn)品不僅通過(guò) ISO9001 認(rèn)證,，更以進(jìn)口原材料和精細(xì)化生產(chǎn)流程保障品質(zhì)，例如錫膏產(chǎn)品采用無(wú)鹵無(wú)鉛配方,，符合環(huán)保要求,，適用于電子產(chǎn)品制造。其銷(xiāo)售網(wǎng)絡(luò)覆蓋全球,，與富士康,、聯(lián)想等企業(yè)保持長(zhǎng)期合作，并在全國(guó)重點(diǎn)區(qū)域設(shè)立辦事處,，提供本地化技術(shù)支持與售后服務(wù),。

作為廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)，吉田半導(dǎo)體始終將技術(shù)研發(fā)視為核心競(jìng)爭(zhēng)力。公司投入大量資源開(kāi)發(fā)新型光刻膠及焊接材料,，例如 BGA 助焊膏和針筒錫膏,，滿足精密電子組裝的需求。同時(shí),，依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)集群優(yōu)勢(shì),，公司強(qiáng)化供應(yīng)鏈協(xié)同，縮短交付周期,，為客戶提供高效解決方案,。未來(lái)，吉田半導(dǎo)體將持續(xù)深化技術(shù)創(chuàng)新與全球合作,，助力中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺(tái)階,。
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技術(shù)優(yōu)勢(shì)：23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破

 全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實(shí)現(xiàn)了從樹(shù)脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化,。例如,，其納米壓印光刻膠通過(guò)自主開(kāi)發(fā)的樹(shù)脂體系，實(shí)現(xiàn)了3μm的分辨率,，適用于MEMS傳感器,、光學(xué)器件等領(lǐng)域。
技術(shù)壁壘：公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗(yàn),，掌握光刻膠主要原材料（如樹(shù)脂,、光酸）的合成技術(shù)，部分原材料純度達(dá)PPT級(jí),。

 細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn)

? 納米壓印光刻膠：在納米級(jí)圖案化領(lǐng)域（如量子點(diǎn)顯示,、生物芯片）實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破，分辨率達(dá)3μm,，填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空缺,。

? LCD光刻膠：針對(duì)顯示面板行業(yè)需求，開(kāi)發(fā)出高感光度,、高對(duì)比度的光刻膠,，適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù),。

 研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證,，與新材料領(lǐng)域同伴們合作開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體光刻膠，計(jì)劃2025年啟動(dòng)半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā),。
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吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈：

  • 芯片制造：YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國(guó)際,、長(zhǎng)江存儲(chǔ),，支持國(guó)產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn),。
  • 顯示面板：YK-200 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%，成為京東方,、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴,。
  • 新能源領(lǐng)域：無(wú)鹵無(wú)鉛焊片通過(guò) UL 認(rèn)證，批量應(yīng)用于寧德時(shí)代儲(chǔ)能系統(tǒng),，年供貨量超 500 噸,。
  • 研發(fā)投入：年研發(fā)費(fèi)用占比超 15%，承擔(dān)國(guó)家 02 專(zhuān)項(xiàng)課題,，獲 “國(guó)家技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)”。
  • 產(chǎn)能規(guī)模：光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,，納米壓印光刻膠占全球市場(chǎng)份額 15%,。
  • 質(zhì)量體系：通過(guò) ISO9001、IATF 16949 等認(rèn)證,，生產(chǎn)過(guò)程執(zhí)行 8S 管理,，批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%。
吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā),，加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破,，目標(biāo)在 2027 年前實(shí)現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn)。同時(shí),，深化國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同,，構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈，為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻(xiàn) “吉田力量”,。
從突破國(guó)際壟斷到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),，吉田半導(dǎo)體以自研自產(chǎn)為引擎，走出了一條中國(guó)半導(dǎo)體材料企業(yè)的崛起之路,。未來(lái),，公司將以更具競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品與技術(shù)，助力中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺(tái)階,。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板、負(fù)性,、正性,、納米壓印及光刻膠等類(lèi)別，以滿足不同領(lǐng)域的需求,。

UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號(hào),，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，耐高溫達(dá) 250°C,，長(zhǎng)期可靠性高,，粘接強(qiáng)度高，重量 100g。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,，如半導(dǎo)體器件制造,。

其他光刻膠

  • 水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠，具有工廠研發(fā),、可定制,、使用、品質(zhì)保障,、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),，重量 1L。
  • 水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠,，重量 5L,，具備上述通用優(yōu)勢(shì)，應(yīng)用場(chǎng)景,。


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LCD顯示

? 彩色濾光片（CF）：

? 黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素，線寬精度±2μm,，透光率<0.1%,。

? RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍(lán)像素，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性,。

? 陣列基板（Array）：

? 柵極絕緣層光刻膠：用于TFT-LCD的柵極圖案化,，分辨率≤3μm。

 OLED顯示（柔性/剛性）

? 像素定義層（PDL）光刻膠：在基板上形成有機(jī)發(fā)光材料的 confinement 結(jié)構(gòu),，線寬精度±1μm,，需耐溶劑侵蝕（適應(yīng)蒸鍍工藝）。

? 觸控電極（如ITO/PET）：通過(guò)光刻膠圖形化實(shí)現(xiàn)透明導(dǎo)電線路,，線寬≤5μm,。

 Mini/Micro LED

? 巨量轉(zhuǎn)移前的芯片制備：使用高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）定義微米級(jí)LED陣列，良率要求>99.99%,。
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負(fù)性光刻膠的工藝和應(yīng)用場(chǎng)景,。深圳負(fù)性光刻膠感光膠

工藝流程

? 目的：去除基板表面油污、顆粒,，增強(qiáng)感光膠附著力,。

? 方法：

? 化學(xué)清洗（硫酸/雙氧水、去離子水）,；

? 表面處理（硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化,，PCB基板用粗化處理）,。

 涂布（Coating）

? 方式：

? 旋涂：半導(dǎo)體/顯示領(lǐng)域，厚度控制精確（納米至微米級(jí)）,，轉(zhuǎn)速500-5000rpm,；

? 噴涂/輥涂：PCB/MEMS領(lǐng)域，適合大面積或厚膠（微米至百微米級(jí),，如負(fù)性膠可達(dá)100μm）,。

? 關(guān)鍵參數(shù)：膠液黏度、涂布速度,、基板溫度（影響厚度均勻性）,。

 前烘（Soft Bake）

? 目的：揮發(fā)溶劑，固化膠膜,，增強(qiáng)附著力和穩(wěn)定性,。

? 條件：

? 溫度：60-120℃（正性膠通常更低，如90℃,；負(fù)性膠可至100℃以上）,；

? 時(shí)間：5-30分鐘（根據(jù)膠厚調(diào)整,，厚膠需更長(zhǎng)時(shí)間）,。

 曝光（Exposure）

? 光源：

? 紫外光（UV）：G線（436nm）、I線（365nm）用于傳統(tǒng)光刻（分辨率≥1μm）,；

? 深紫外（DUV）：248nm（KrF）,、193nm（ArF）用于半導(dǎo)體先進(jìn)制程（分辨率至20nm）；

? 極紫外（EUV）：13.5nm,，用于7nm以下制程（只能正性膠適用）,。

? 曝光方式：

? 接觸式/接近式：掩膜版與膠膜直接接觸（PCB、MEMS,，低成本但精度低）,；

? 投影式：通過(guò)物鏡聚焦（半導(dǎo)體，分辨率高,，如ArF光刻機(jī)精度達(dá)22nm）,。

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標(biāo)簽： 錫片 錫膏 光刻膠