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廣州激光光刻膠工廠

來源： 發(fā)布時(shí)間：2025-06-19

技術(shù)趨勢(shì)與挑戰(zhàn)

 半導(dǎo)體先進(jìn)制程：

? EUV光刻膠需降低缺陷率（目前每平方厘米缺陷數(shù)＜10個(gè)），開發(fā)低粗糙度（≤5nm）材料,；

? 極紫外吸收問題：膠膜對(duì)13.5nm光吸收率高,，需厚度控制在50-100nm，挑戰(zhàn)化學(xué)增幅體系的靈敏度,。

 環(huán)保與低成本：

? 水性負(fù)性膠替代溶劑型膠（如PCB阻焊膠）,，減少VOC排放；

? 單層膠工藝替代多層膠,，簡(jiǎn)化流程（如MEMS厚膠的一次性涂布）,。

 新興領(lǐng)域拓展：

? 柔性電子：開發(fā)耐彎曲（曲率半徑＜5mm）、低模量感光膠,，用于可穿戴設(shè)備電路,；

? 光子芯片：高折射率膠（n＞1.8）制作光波導(dǎo)，需低傳輸損耗（＜0.1dB/cm）,。

典型產(chǎn)品與廠商

? 半導(dǎo)體正性膠：

? 日本信越（Shin-Etsu）的ArF膠（分辨率22nm,，用于12nm制程）；

? 美國陶氏（Dow）的EUV膠（靈敏度10mJ/cm2,，缺陷密度＜5個(gè)/cm2）,。

? PCB負(fù)性膠：

? 中國容大感光（LP系列）：耐堿性蝕刻，厚度20-50μm,，國產(chǎn)化率超60%,；

? 日本東京應(yīng)化（TOK）的THMR-V：全球PCB膠市占率30%，適用于高可靠性汽車板,。

? MEMS厚膠：

? 美國陶氏的SU-8：實(shí)驗(yàn)室常用,，厚度5-200μm，分辨率1μm（需優(yōu)化交聯(lián)均勻性）,；

? 德國Microresist的MR膠：耐深硅蝕刻,，線寬精度±2%，用于工業(yè)級(jí)MEMS制造,。

吉田半導(dǎo)體光刻膠,，45nm 制程驗(yàn)證，國產(chǎn)替代方案!廣州激光光刻膠工廠

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納米電子器件制造

? 半導(dǎo)體芯片：在22nm以下制程中,，EUV光刻膠（分辨率≤10nm）用于制備晶體管柵極,、納米導(dǎo)線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)芯片集成度提升（如3nm制程的FinFET/GAA晶體管）,。

? 二維材料器件：在石墨烯,、二硫化鉬等二維材料表面,，通過電子束光刻膠定義納米電極陣列，構(gòu)建單原子層晶體管或傳感器,。

 納米光子學(xué)與超材料

? 光子晶體與波導(dǎo)：利用光刻膠制備亞波長周期結(jié)構(gòu)（如光子晶體光纖,、納米級(jí)波導(dǎo)彎頭），調(diào)控光的傳播路徑,，用于集成光路或量子光學(xué)器件,。

? 超材料設(shè)計(jì)：在金屬/介質(zhì)基底上刻蝕納米級(jí)“魚網(wǎng)狀”“蝴蝶結(jié)”等圖案（如太赫茲超材料），實(shí)現(xiàn)對(duì)電磁波的超常調(diào)控（吸收,、偏振轉(zhuǎn)換）,。
厚膜光刻膠報(bào)價(jià)吉田半導(dǎo)體全流程解決方案，賦能客戶提升生產(chǎn)效率,。

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LCD 正性光刻膠（YK-200）應(yīng)用場(chǎng)景：LCD 面板的電極圖案化（如 TFT-LCD 的柵極,、源漏極）、彩色濾光片制造,。特點(diǎn)：高感光度與均勻涂布性,，確保顯示面板的高對(duì)比度和色彩還原度。
厚膜光刻膠（JT-3001）應(yīng)用場(chǎng)景：Mini LED/Micro LED 顯示基板的巨量轉(zhuǎn)移技術(shù),，以及 OLED 面板的封裝工藝,。特點(diǎn)：膜厚可控（可達(dá)數(shù)十微米），滿足高密度像素陣列的精細(xì)加工需求,。
PCB 光刻膠（如 SU-3 負(fù)性光刻膠）應(yīng)用場(chǎng)景：高多層 PCB,、HDI（高密度互連）板的線路成像，以及 IC 載板的精細(xì)線路制作,。特點(diǎn)：抗電鍍性能優(yōu)異,，支持細(xì)至 50μm 以下的線寬 / 線距，適應(yīng) 5G 通信,、服務(wù)器等 PCB 需求,。

技術(shù)優(yōu)勢(shì)：23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破

 全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實(shí)現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化,。例如,，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，實(shí)現(xiàn)了3μm的分辨率,，適用于MEMS傳感器,、光學(xué)器件等領(lǐng)域。
技術(shù)壁壘：公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗(yàn),，掌握光刻膠主要原材料（如樹脂,、光酸）的合成技術(shù)，部分原材料純度達(dá)PPT級(jí),。

 細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn)

? 納米壓印光刻膠：在納米級(jí)圖案化領(lǐng)域（如量子點(diǎn)顯示,、生物芯片）實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破,，分辨率達(dá)3μm，填補(bǔ)國內(nèi)空缺,。

? LCD光刻膠：針對(duì)顯示面板行業(yè)需求,，開發(fā)出高感光度,、高對(duì)比度的光刻膠,，適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù),。

 研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證,，與新材料領(lǐng)域同伴們合作開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠，計(jì)劃2025年啟動(dòng)半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā),。
光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,，23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，全自動(dòng)化生產(chǎn)保障品質(zhì)!

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作為深耕半導(dǎo)體材料領(lǐng)域二十余年的綜合性企業(yè),，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終將技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)品質(zhì)量視為重要發(fā)展動(dòng)力,。公司位于東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群，依托區(qū)域產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢(shì),，持續(xù)為全球客戶提供多元化的半導(dǎo)體材料解決方案,。

公司產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠,、LCD 光刻膠,、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等,，原材料均嚴(yán)格選用美國,、德國、日本等國的質(zhì)量進(jìn)口材料,。通過全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備與精細(xì)化工藝控制,，確保每批次產(chǎn)品的穩(wěn)定性與一致性。例如,，納米壓印光刻膠采用特殊配方,，可耐受 250℃高溫及復(fù)雜化學(xué)環(huán)境，適用于高精度納米結(jié)構(gòu)制造,；LCD 光刻膠以高分辨率和穩(wěn)定性,，成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。


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光刻膠半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用,。廣州激光光刻膠工廠

  1. 產(chǎn)品特點(diǎn)：耐溶劑型優(yōu)良,，抗潮耐水性好,，耐印率高；固含量高,，流平性好,，涂布性能優(yōu)良；經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,，網(wǎng)版平滑,、無白點(diǎn)、無沙眼,、亮度高,；剝膜性好，網(wǎng)版可再生使用,；解像性,、高架橋性好，易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條,；感光度高,，曝光時(shí)間短，曝光寬容度大,，節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間,，提高工作效率 。
  2. 應(yīng)用范圍：適用于塑料,、皮革,、標(biāo)牌、印刷電路板（PCB）,、廣告宣傳,、玻璃、陶瓷,、紡織品等產(chǎn)品的印刷,。例如在塑料表面形成牢固圖案，滿足皮革制品精細(xì)印刷需求,，制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰,，用于 PCB 制造滿足高精度要求等。
廣州激光光刻膠工廠

標(biāo)簽： 錫片 光刻膠 錫膏