吉田半導(dǎo)體納米壓印光刻膠 JT-2000：國產(chǎn)技術(shù)突破耐高溫極限

吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題，提升行業(yè)生產(chǎn)效率,，通過優(yōu)化材料配方與工藝,，吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低、蝕刻損傷等共性問題,，助力客戶降本增效,。
針對傳統(tǒng)光刻膠留膜率低、蝕刻損傷嚴重等問題,，吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%,，密集圖形側(cè)壁垂直度達標(biāo)率提升 15%。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術(shù),，在顯影過程中減少有機溶劑對有機半導(dǎo)體的損傷,，使芯片良率提升至 99.8%,。這些技術(shù)突破有效降低客戶生產(chǎn)成本，推動行業(yè)生產(chǎn)效率提升,。光刻膠：半導(dǎo)體之路上的挑戰(zhàn)與突破,。

聚焦先進封裝需求，吉田半導(dǎo)體提供從光刻膠到配套材料的一站式服務(wù),，助力高性能芯片制造,。
在 5G 芯片與 AI 處理器封裝領(lǐng)域，吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 SU-3 負性光刻膠支持 3μm 厚膜加工,，抗深蝕刻速率 > 500nm/min,，為高密度金屬互連提供可靠支撐。其 BGA 助焊膏采用低溫固化技術(shù)（180℃）,，焊接空洞率 < 5%,；針筒錫膏適用于 01005 超微型元件，印刷精度達 ±5μm,。通過標(biāo)準(zhǔn)化實驗室與快速響應(yīng)團隊,，公司為客戶提供工藝優(yōu)化建議，幫助降低生產(chǎn)成本,，增強市場競爭力,。厚板光刻膠 JT-3001,，抗深蝕刻,，PCB 電路板制造Preferred！惠州水性光刻膠品牌

光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,，23 年研發(fā)經(jīng)驗,，全自動化生產(chǎn)保障品質(zhì)!杭州油墨光刻膠生產(chǎn)廠家

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板,、負性,、正性、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領(lǐng)域的需求,。

UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號，耐強酸強堿,，耐高溫達 250°C,，長期可靠性高，粘接強度高,，重量 100g,。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進行納米壓印光刻的工藝，如半導(dǎo)體器件制造,。

其他光刻膠

• 水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠,，具有工廠研發(fā),、可定制、使用,、品質(zhì)保障,、性能穩(wěn)定的特點，重量 1L,。
• 水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠,，重量 5L，具備上述通用優(yōu)勢,，應(yīng)用場景,。

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