根據(jù)2019年數(shù)據(jù),，全球半導(dǎo)體光刻膠**大廠商占據(jù)全球光刻膠市場87%份額。其中日本占有四家,，分別是JSR,、東京應(yīng)化(TOK)、信越化學(xué)與富士電子材料,，這四家的市場份額達(dá)到72%,，市場集中度明顯。在半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分領(lǐng)域,，日本廠商在市場中具有較強(qiáng)話語權(quán),。（1）g/i線光刻膠市場：日本的東京應(yīng)化、JSR,、住友化學(xué)和富士膠片分別占據(jù)26%,、15%、15%,、8%的份額,，在全球市場占據(jù)64%份額。（2）KrF光刻膠市場：日本企業(yè)東京應(yīng)化,、信越化學(xué)和JSR在全球KrF光刻膠細(xì)分市場分別占據(jù)34%,、22%和18%份額，合計(jì)占比達(dá)到74%,。（3）ArF光刻膠市場：日本企業(yè)JSR,、信越化學(xué)、東京應(yīng)化和住友化學(xué)包攬前四,，分別占據(jù)全球ArF光刻膠細(xì)分市場25%,、23%、20%和15%市場份額,，合計(jì)市場份額達(dá)到83%,。（4）EUV光刻膠市場：較先進(jìn)的EUV光刻膠領(lǐng)域完全被日本企業(yè)所主導(dǎo)，日本JSR、東京應(yīng)化,、信越化學(xué)成為EUV光刻膠市場可實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的廠商,。目前引入EUV工藝的*有三星電子和臺積電兩家公司。氧化物型光刻膠：這種類型的光刻膠由氧化硅或其他窄帶隙材料制成,。在制造高質(zhì)量微電子設(shè)備時(shí)非常有用,。嘉定g線光刻膠顯示面板材料

包括光刻膠在內(nèi)的微電子化學(xué)品有技術(shù)要求高、功能性強(qiáng),、產(chǎn)品更新快等特點(diǎn),，其產(chǎn)品品質(zhì)對下游電子產(chǎn)品的質(zhì)量和效率有非常大的影響。因此,，下游企業(yè)對微電子化學(xué)品供應(yīng)商的質(zhì)量和供貨能力十分重視,，常采用認(rèn)證采購的模式，需要通過送樣檢驗(yàn),、技術(shù)研討,、信息回饋、技術(shù)改進(jìn),、小批試做,、大批量供貨、售后服務(wù)評價(jià)等嚴(yán)格的篩選流程,。認(rèn)證時(shí)間久,，要求嚴(yán)苛；一般產(chǎn)品得到下游客戶的認(rèn)證需要較長的時(shí)間周期,。顯示面板行業(yè)通常為1-2年,，集成電路行業(yè)由于要求較高，認(rèn)證周期能達(dá)到2-3年時(shí)間,；認(rèn)證階段內(nèi),，光刻膠供應(yīng)商沒有該客戶的收入，這需要供應(yīng)收有足夠的資金實(shí)力,。光刻膠供應(yīng)商與客戶粘性大,；一般情況下，為了保持光刻膠供應(yīng)和效果的穩(wěn)定,，下游客戶與光刻膠供應(yīng)商一旦建立供應(yīng)關(guān)系后,，不會輕易更換。通過建立反饋機(jī)制,，滿足個(gè)性化需求,，光刻膠供應(yīng)商與客戶的粘性不斷增加。后來者想要加入到供應(yīng)商行列,，往往需要滿足比現(xiàn)有供應(yīng)商更高的要求,。所以光刻膠行業(yè)對新進(jìn)入者壁壘較高,。g線光刻膠印刷電路板彩色光刻膠及黑色光刻膠市場也呈現(xiàn)日韓企業(yè)主導(dǎo)的格局，國內(nèi)企業(yè)有雅克科技,、飛凱材料,、彤程新材等。

質(zhì)量控制技術(shù)：由于用戶對光刻膠的穩(wěn)定性,、一致性要求高,，包括不同批次間的一致性，通常希望對感光靈敏度,、膜厚的一致性保持在較高水平,，因此，光刻膠生產(chǎn)商不僅要配備齊全的測試儀器,，還需要建立一套嚴(yán)格的QA體系以保證產(chǎn)品的質(zhì)量穩(wěn)定,。原材料技術(shù)：光刻膠是一種經(jīng)過嚴(yán)格設(shè)計(jì)的復(fù)雜、精密的配方產(chǎn)品,，由成膜劑,、光敏劑、溶劑和添加劑等不同性質(zhì)的原料,，通過不同的排列組合，經(jīng)過復(fù)雜,、精密的加工工藝而制成,。因此，光刻膠原材料的品質(zhì)對光刻膠的質(zhì)量起著關(guān)鍵作用,。對于半導(dǎo)體化學(xué)化學(xué)試劑的純度,，際半導(dǎo)體設(shè)備和材料組織（SEMI）制定了國際統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)。

環(huán)化橡膠型光刻膠：屬于聚烴類——雙疊氮系光刻膠,。這種膠是將天然橡膠溶解后,，用環(huán)化劑環(huán)化制備而成的。一般來說,，橡膠具有較好的耐腐蝕性,，但是它的感光活性很差。橡膠的分子量在數(shù)十萬以上,，因此溶解性甚低,，無論在光刻膠的配制還是顯影過程中都有很大困難。因此無法直接采用橡膠為原料配制光刻膠,。這一類光刻膠的重要組成部分為交聯(lián)劑,，又稱架橋劑，可以起到光化學(xué)固化作用,，依賴于帶有雙感光性官能團(tuán)的交聯(lián)劑參加反應(yīng),，交聯(lián)劑曝光后產(chǎn)生雙自由基,，它和聚烴類樹脂相作用，在聚合物分子鏈之間形成橋鍵,，變?yōu)槿S結(jié)構(gòu)的不溶性物質(zhì),。光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料,，受到光照后特性會發(fā)生改變,，主要應(yīng)用于電子工業(yè)和印刷工業(yè)領(lǐng)域。

在雙重曝光工藝中,，若光刻膠可以接受多次光刻曝光而不在光罩遮擋的區(qū)域發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),，就可以節(jié)省一次刻蝕，一次涂膠和一次光刻膠清洗流程,。由于在非曝光區(qū)域光刻膠仍然會接受到相對少量的光刻輻射,，在兩次曝光過程后，非曝光區(qū)域接受到的輻射有可能超過光刻膠的曝光閾值E0,，而發(fā)生錯誤的光刻反應(yīng),。如果非曝光區(qū)域的光刻膠在兩次曝光后接受到的輻射能量仍然小于其曝光閾值E0，那么就是一次合格的雙重曝光,。從這個(gè)例子可以看出,，與單次曝光不同，雙重曝光要求光刻膠的曝光閾值和光刻光源的照射強(qiáng)度之間的權(quán)衡,。光刻膠又稱光致抗蝕劑,，是一種對光敏感的混合液體。浙江化學(xué)放大型光刻膠顯示面板材料

光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類,，可分為 PCB 光刻膠,、顯示面板光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠及其他光刻膠,。嘉定g線光刻膠顯示面板材料

g-line與i-line光刻膠均使用線性酚醛成分作為樹脂主體,，重氮萘醌成分（DQN 體系）作為感光劑。未經(jīng)曝光的DQN成分作為抑制劑,，可以十倍或者更大的倍數(shù)降低光刻膠在顯影液中的溶解速度,。曝光后，重氮萘醌(DQN)基團(tuán)轉(zhuǎn)變?yōu)橄┩?，與水接觸時(shí),，進(jìn)一步轉(zhuǎn)變?yōu)檐崃u酸，從而得以在曝光區(qū)被稀堿水顯影時(shí)除去,。由此,，曝光過的光刻膠會溶解于顯影液而被去除，而未曝光的光刻膠部分則得以保留,。雖然g-line光刻膠和i-line 光刻膠使用的成分類似,，但是其樹脂和感光劑在微觀結(jié)構(gòu)上均有變化,，因而具有不同的分辨率。G-line光刻膠適用于0.5um(500nm)以上尺寸的集成電路制作,，而i-line光刻膠使用于0.35um（350nm至0.5um（500nm）尺寸的集成電路制作,。嘉定g線光刻膠顯示面板材料

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