伴隨全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)東移,，加上我國(guó)持續(xù)增長(zhǎng)的下游需求和政策支持力度。同時(shí),，國(guó)內(nèi)晶圓廠進(jìn)入投產(chǎn)高峰期，由于半導(dǎo)體光刻膠與下游晶圓廠具有伴生性特點(diǎn),，國(guó)內(nèi)光刻膠廠商將直接受益于晶圓廠制造產(chǎn)能的大幅擴(kuò)張,。當(dāng)前我國(guó)光刻膠與全球先進(jìn)水平有近40年的差距，半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化的大趨勢(shì)下,，國(guó)內(nèi)企業(yè)有望逐步突破與國(guó)內(nèi)集成電路制造工藝相匹配的光刻膠,，所以必須要對(duì)光刻膠足夠的重視，不斷向日本和歐美等發(fā)達(dá)國(guó)家學(xué)習(xí),，努力開(kāi)發(fā)出性能優(yōu)異的國(guó)產(chǎn)光刻膠,，使我國(guó)在未來(lái)的市場(chǎng)中占據(jù)一席之地。彩色光刻膠及黑色光刻膠市場(chǎng)也呈現(xiàn)日韓企業(yè)主導(dǎo)的格局,，國(guó)內(nèi)企業(yè)有雅克科技,、飛凱材料、彤程新材等,。浦東濕膜光刻膠樹(shù)脂

1）增感劑（光引發(fā)劑）：是光刻膠的關(guān)鍵成分,，對(duì)光刻膠的感光度、分辨率起著決定性作用,。2）感光樹(shù)脂（聚合劑）：用于將光刻膠中不同材料聚合在一起,，構(gòu)成光刻膠的骨架,，決定光刻膠的硬度、柔韌性,、附著力等基本屬性,。3）溶劑：是光刻膠中比較大成分，目的是使光刻膠處于液態(tài),，但溶劑本身對(duì)光刻膠的化學(xué)性質(zhì)幾乎無(wú)影響,。4）助劑：通常是專有化合物，主要用來(lái)改變光刻膠特定化學(xué)性質(zhì),。根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域,，光刻膠可分為半導(dǎo)體光刻膠、LCD光刻膠和PCB光刻膠,，其技術(shù)壁壘依次降低（半導(dǎo)體光刻膠> LCD光刻膠> PCB光刻膠）,。從國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程來(lái)看，PCB光刻膠目前國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)度較快,，LCD光刻膠替代進(jìn)度相對(duì)較快,，而在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域國(guó)產(chǎn)技術(shù)較國(guó)外先進(jìn)技術(shù)差距比較大。蘇州半導(dǎo)體光刻膠溶劑光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類,，可分為 PCB 光刻膠,、顯示面板光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠及其他光刻膠,。

中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模增速超過(guò)全球,。隨著半導(dǎo)體制程節(jié)點(diǎn)不斷縮小，光刻工藝對(duì)光刻膠要求越來(lái)越高,，需求量也越來(lái)越大,。據(jù)智研咨詢數(shù)據(jù)，2018年全球半導(dǎo)體用光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約13億美元,，年復(fù)合增速為5.4%,，預(yù)計(jì)未來(lái)5年年均增速約8%-10%；中國(guó)半導(dǎo)體用光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約23億元人民幣,，年復(fù)合增速為9.8%,，預(yù)計(jì)未來(lái)5年年均增速約10%。以前,，光刻膠主要依賴進(jìn)口,，隨著科技的逐漸發(fā)展，國(guó)產(chǎn)化光刻膠趨勢(shì)越來(lái)越明顯,，相信國(guó)內(nèi)光刻膠技術(shù)會(huì)越來(lái)越成熟,，光刻膠國(guó)產(chǎn)化是必然趨勢(shì)。

   光刻膠又稱光致抗蝕劑,，是一種對(duì)光敏感的混合液體,。其組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑,、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹(shù)脂,、單體,、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過(guò)光化學(xué)反應(yīng),，經(jīng)曝光,、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場(chǎng)景,，這里的待加工基片可以是集成電路材料,，顯示面板材料或者印刷電路板。據(jù)第三方機(jī)構(gòu)智研咨詢統(tǒng)計(jì),，2019年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)近90億美元,，自 2010年至今CAGR約5.4%。預(yù)計(jì)該市場(chǎng)未來(lái)3年仍將以年均5%的速度增長(zhǎng),，至2022年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將超過(guò)100億美元,。光刻膠發(fā)展至今已有百年歷史，現(xiàn)已用于集成電路,、顯示,、PCB 等領(lǐng)域，是光刻工藝的重要材料,。

在半導(dǎo)體集成電路光刻技術(shù)開(kāi)始使用深紫外（DUV）光源以后,，化學(xué)放大（CAR）技術(shù)逐漸成為行業(yè)應(yīng)用的主流。在化學(xué)放大光刻膠技術(shù)中,，樹(shù)脂是具有化學(xué)基團(tuán)保護(hù)因而難以溶解的聚乙烯,。化學(xué)放大光刻膠使用光致酸劑（PAG）作為光引發(fā)劑,。當(dāng)光刻膠曝光后,，曝光區(qū)域的光致酸劑（PAG）將會(huì)產(chǎn)生一種酸,。這種酸在后熱烘培工序期間作為催化劑,，將會(huì)移除樹(shù)脂的保護(hù)基團(tuán)從而使得樹(shù)脂變得易于溶解?；瘜W(xué)放大光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍,，對(duì)深紫外光源具有良好的光學(xué)敏感性，同時(shí)具有高對(duì)比度,，對(duì)高分辨率等優(yōu)點(diǎn),。按照曝光波長(zhǎng)分類；光刻膠可分為紫外光刻膠（300~450nm）,、深紫外光刻膠（160~280nm）,、極紫外光刻膠（EUV,，13.5nm）、電子束光刻膠,、離子束光刻膠,、X射線光刻膠等。不同曝光波長(zhǎng)的光刻膠,，其適用的光刻極限分辨率不同,。通常來(lái)說(shuō)，在使用工藝方法一致的情況下,，波長(zhǎng)越短,，加工分辨率越佳。按照化學(xué)結(jié)構(gòu)分類：光刻膠可以分為光聚合型,，光分解型,，光交聯(lián)型和化學(xué)放大型。江蘇光刻膠溶劑

半導(dǎo)體光刻膠的涂敷方法主要是旋轉(zhuǎn)涂膠法,，具體可以分為靜態(tài)旋轉(zhuǎn)法和動(dòng)態(tài)噴灑法,。浦東濕膜光刻膠樹(shù)脂

受制于國(guó)內(nèi)光刻膠技術(shù)發(fā)展水平，目前我國(guó)前沿光刻膠的自給率仍然保持較低水平,。盡管國(guó)內(nèi)光刻膠市場(chǎng)保持良好的增長(zhǎng)趨勢(shì),，但以KrF、ArF光刻膠為主的半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域國(guó)內(nèi)市場(chǎng)份額仍然較小,，前沿光刻膠市場(chǎng)長(zhǎng)期為國(guó)外巨頭所壟斷,。從技術(shù)水平來(lái)看，目前中國(guó)本土光刻膠的整體技術(shù)水平與國(guó)際先進(jìn)水平存在明顯差距,，且主要集中在技術(shù)含量較低的PCB光刻膠領(lǐng)域,，而在半導(dǎo)體光刻膠和LCD光刻膠方面自給率較低。具體而言,，半導(dǎo)體光刻膠中g(shù)線/i線光刻膠國(guó)產(chǎn)化率為10%,，而ArF/KrF光刻膠的國(guó)產(chǎn)化率為1%，對(duì)于前沿的EUV光刻膠目前仍處于研發(fā)階段,。浦東濕膜光刻膠樹(shù)脂

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