按顯示效果分類；光刻膠可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠,。負(fù)性光刻膠顯影時(shí)形成的圖形與光罩（掩膜版）相反,；正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同。兩者的生產(chǎn)工藝流程基本一致,，區(qū)別在于主要原材料不同,。

按照化學(xué)結(jié)構(gòu)分類；光刻膠可以分為光聚合型,，光分解型,，光交聯(lián)型和化學(xué)放大型。光聚合型光刻膠采用烯類單體,，在光作用下生成自由基,，進(jìn)一步引發(fā)單體聚合，生成聚合物,；光分解型光刻膠,，采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑，其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應(yīng),，可以制成正性光刻膠,；光交聯(lián)型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下,，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),，而起到抗蝕作用，可以制成負(fù)性光刻膠,。 光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面,。浦東黑色光刻膠溶劑

質(zhì)量控制技術(shù)：由于用戶對(duì)光刻膠的穩(wěn)定性、一致性要求高，包括不同批次間的一致性,，通常希望對(duì)感光靈敏度,、膜厚的一致性保持在較高水平，因此,，光刻膠生產(chǎn)商不僅要配備齊全的測(cè)試儀器,，還需要建立一套嚴(yán)格的QA體系以保證產(chǎn)品的質(zhì)量穩(wěn)定。原材料技術(shù)：光刻膠是一種經(jīng)過(guò)嚴(yán)格設(shè)計(jì)的復(fù)雜,、精密的配方產(chǎn)品,，由成膜劑、光敏劑,、溶劑和添加劑等不同性質(zhì)的原料,，通過(guò)不同的排列組合，經(jīng)過(guò)復(fù)雜,、精密的加工工藝而制成,。因此，光刻膠原材料的品質(zhì)對(duì)光刻膠的質(zhì)量起著關(guān)鍵作用,。對(duì)于半導(dǎo)體化學(xué)化學(xué)試劑的純度,，際半導(dǎo)體設(shè)備和材料組織（SEMI）制定了國(guó)際統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)。浙江正性光刻膠其他助劑光刻膠的國(guó)產(chǎn)化公關(guān)正在展開(kāi),，在面板屏顯光刻膠領(lǐng)域,，中國(guó)已經(jīng)出現(xiàn)了一批有競(jìng)爭(zhēng)力的本土企業(yè)。

伴隨全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)東移,，加上我國(guó)持續(xù)增長(zhǎng)的下游需求和政策支持力度,。同時(shí)，國(guó)內(nèi)晶圓廠進(jìn)入投產(chǎn)高峰期,，由于半導(dǎo)體光刻膠與下游晶圓廠具有伴生性特點(diǎn)，國(guó)內(nèi)光刻膠廠商將直接受益于晶圓廠制造產(chǎn)能的大幅擴(kuò)張,。當(dāng)前我國(guó)光刻膠與全球先進(jìn)水平有近40年的差距,，半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化的大趨勢(shì)下，國(guó)內(nèi)企業(yè)有望逐步突破與國(guó)內(nèi)集成電路制造工藝相匹配的光刻膠,，所以必須要對(duì)光刻膠足夠的重視,，不斷向日本和歐美等發(fā)達(dá)國(guó)家學(xué)習(xí)，努力開(kāi)發(fā)出性能優(yōu)異的國(guó)產(chǎn)光刻膠,，使我國(guó)在未來(lái)的市場(chǎng)中占據(jù)一席之地,。

目前中國(guó)光刻膠國(guó)產(chǎn)化水平嚴(yán)重不足，重點(diǎn)技術(shù)差距在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域,，有2-3代差距,，隨著下游半導(dǎo)體行業(yè)、LED及平板顯示行業(yè)的快速發(fā)展，未來(lái)國(guó)內(nèi)光刻膠產(chǎn)品國(guó)產(chǎn)化替代空間巨大,。當(dāng)今,，中國(guó)通過(guò)國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金（大基金）撬動(dòng)全社會(huì)資源對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進(jìn)行投資和扶持。同時(shí),，國(guó)內(nèi)光刻膠企業(yè)積極抓住中國(guó)晶圓制造擴(kuò)產(chǎn)的百年機(jī)遇,，發(fā)展光刻膠業(yè)務(wù)，力爭(zhēng)早日追上國(guó)際先進(jìn)水平,，打進(jìn)國(guó)內(nèi)新建晶圓廠的供應(yīng)鏈,。光刻膠的國(guó)產(chǎn)化公關(guān)正在展開(kāi)，在面板屏顯光刻膠領(lǐng)域,，中國(guó)已經(jīng)出現(xiàn)了一批有競(jìng)爭(zhēng)力的本土企業(yè),。在半導(dǎo)體和面板光刻膠領(lǐng)域，盡管國(guó)產(chǎn)光刻膠距離國(guó)際先進(jìn)水平仍然有差距,，但是在政策的支持和自身的不懈努力之下,，中國(guó)已經(jīng)有一批光刻膠企業(yè)陸續(xù)實(shí)現(xiàn)了技術(shù)突破。光刻膠下游為印刷電路板,、顯示面板和電子芯片,，廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子、航空航天等領(lǐng)域,。

導(dǎo)體光刻膠的涂敷方法主要是旋轉(zhuǎn)涂膠法,，具體可以分為靜態(tài)旋轉(zhuǎn)法和動(dòng)態(tài)噴灑法。靜態(tài)旋轉(zhuǎn)法：首先把光刻膠通過(guò)滴膠頭堆積在硅片的中心,，然后低速旋轉(zhuǎn)使得光刻膠鋪開(kāi),，再以高速旋轉(zhuǎn)甩掉多余的光刻膠。在高速旋轉(zhuǎn)的過(guò)程中,，光刻膠中的溶劑會(huì)揮發(fā)一部分,。靜態(tài)涂膠法中的光刻膠堆積量非常關(guān)鍵，量少了會(huì)導(dǎo)致光刻膠不能充分覆蓋硅片,，量大了會(huì)導(dǎo)致光刻膠在硅片邊緣堆積甚至流到硅片的背面,，影響工藝質(zhì)量。動(dòng)態(tài)噴灑法：隨著硅片尺寸越來(lái)越大,，靜態(tài)涂膠已經(jīng)不能滿足新型的硅片加工需求,。相對(duì)靜態(tài)旋轉(zhuǎn)法而言，動(dòng)態(tài)噴灑法在光刻膠對(duì)硅片進(jìn)行澆注的時(shí)刻就開(kāi)始以低速旋轉(zhuǎn)幫助光刻膠進(jìn)行**初的擴(kuò)散,。這種方法可以用較少量的光刻膠形成更均勻的光刻膠鋪展,，以高速旋轉(zhuǎn)形成滿足厚薄與均勻度要求的光刻膠膜。光刻膠只是一種形象的說(shuō)法,，因?yàn)楣饪棠z從外觀上呈現(xiàn)為膠狀液體,。蘇州干膜光刻膠

亞甲基雙苯醚型光刻膠：這種類型的光刻膠適用于制造精度較低的電路元件。浦東黑色光刻膠溶劑

X射線對(duì)物質(zhì)的化學(xué)作用類似電子束，X射線曝光時(shí),，X射線本身并不能直接引起光刻膠的反應(yīng),，它的能量是消耗的光電子放射過(guò)程而產(chǎn)生低能電子束上。正是這些低能電子使光刻膠的分子離化,，并激勵(lì)產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),，使光刻膠分子間的結(jié)合鍵解離，或鍵合成高分子,，在某些顯影液中變成易溶或不溶,。X射線光刻膠和電子束光刻膠沒(méi)有本質(zhì)的區(qū)別  ，因此所有的電子束膠都可以與X射線光刻膠混用,，一部分248 nm光學(xué)光刻膠亦可用作X射線光刻膠 ,，X射線光刻膠的分辨率十分高，例如早期正性的光刻膠有用含氟的聚甲基丙烯酸酯  ,，負(fù)膠有用甲基丙烯酸縮水甘油酯-丙烯酸乙酯共聚體和聚丙烯酸-2,3-二氯-1-丙酯,。浦東黑色光刻膠溶劑

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