根據(jù)2019年數(shù)據(jù),，全球半導(dǎo)體光刻膠**大廠商占據(jù)全球光刻膠市場87%份額,。其中日本占有四家，分別是JSR,、東京應(yīng)化(TOK),、信越化學(xué)與富士電子材料，這四家的市場份額達(dá)到72%,，市場集中度明顯,。在半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分領(lǐng)域，日本廠商在市場中具有較強(qiáng)話語權(quán),。（1）g/i線光刻膠市場：日本的東京應(yīng)化,、JSR、住友化學(xué)和富士膠片分別占據(jù)26%,、15%,、15%、8%的份額,，在全球市場占據(jù)64%份額,。（2）KrF光刻膠市場：日本企業(yè)東京應(yīng)化、信越化學(xué)和JSR在全球KrF光刻膠細(xì)分市場分別占據(jù)34%,、22%和18%份額,，合計占比達(dá)到74%。（3）ArF光刻膠市場：日本企業(yè)JSR,、信越化學(xué),、東京應(yīng)化和住友化學(xué)包攬前四，分別占據(jù)全球ArF光刻膠細(xì)分市場25%,、23%,、20%和15%市場份額，合計市場份額達(dá)到83%,。（4）EUV光刻膠市場：較先進(jìn)的EUV光刻膠領(lǐng)域完全被日本企業(yè)所主導(dǎo),，日本JSR、東京應(yīng)化,、信越化學(xué)成為EUV光刻膠市場可實現(xiàn)量產(chǎn)的廠商,。目前引入EUV工藝的*有三星電子和臺積電兩家公司。一旦達(dá)成合作,，光刻膠廠商和下游集成電路制造商會形成長期合作關(guān)系,。浙江光刻膠其他助劑

    光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類，可分為 PCB 光刻膠、顯示面板光刻膠,、半導(dǎo)體光刻膠及其他光刻膠,。全球市場上不同種類光刻膠的市場結(jié)構(gòu)較為均衡。智研咨詢的數(shù)據(jù)還顯示,，受益于半導(dǎo)體、顯示面板,、PCB產(chǎn)業(yè)東移的趨勢,，自 2011年至今，光刻膠中國本土供應(yīng)規(guī)模年華增長率達(dá)到11%,，高于全球平均 5%的增速,。2019年中國光刻膠市場本土企業(yè)銷售規(guī)模約70億元，全球占比約 10%,，發(fā)展空間巨大,。目前，中國本土光刻膠以PCB用光刻膠為主,，平板顯示,、半導(dǎo)體用光刻膠供應(yīng)量占比極低。浙江光刻膠其他助劑國內(nèi)光刻膠市場增速遠(yuǎn)高于全球,，國內(nèi)企業(yè)投入加大,，未來有望實現(xiàn)技術(shù)趕超。

雖然在2007年之后,，一些波長更短的準(zhǔn)分子光刻光源技術(shù)陸續(xù)出現(xiàn),，但是這些波段的輻射都很容易被光刻鏡頭等光學(xué)材料吸收，使這些材料受熱產(chǎn)生膨脹而無法正常工作,。少數(shù)可以和這些波段的輻射正常工作的光學(xué)材料,，比如氟化鈣（螢石）等，成本長期居高不下,。再加上浸沒光刻和多重曝光等新技術(shù)的出現(xiàn),，193nm波長ArF光刻系統(tǒng)突破了此前 65nm 分辨率的瓶頸，所以在45nm 到10nm之間的半導(dǎo)體制程工藝中,，ArF光刻技術(shù)仍然得到了很大的應(yīng)用,。在與浸沒光刻相對的干法光刻中，光刻透鏡與光刻膠之間是空氣,。光刻膠直接吸收光源發(fā)出的紫外輻射并發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),。在浸沒光刻中，光刻鏡頭與光刻膠之間是特定液體,。這些液體可以是純水也可以是別的化合物液體,。光刻光源發(fā)出的輻射經(jīng)過這些液體的時候發(fā)生了折射，波長變短。這樣,，在不改變光源的前提條件下,，更短波長的紫外光被投影光刻膠上，提高了光刻加工的分辨率,。

包括光刻膠在內(nèi)的微電子化學(xué)品有技術(shù)要求高,、功能性強(qiáng)、產(chǎn)品更新快等特點(diǎn),，其產(chǎn)品品質(zhì)對下游電子產(chǎn)品的質(zhì)量和效率有非常大的影響,。因此，下游企業(yè)對微電子化學(xué)品供應(yīng)商的質(zhì)量和供貨能力十分重視,，常采用認(rèn)證采購的模式,，需要通過送樣檢驗、技術(shù)研討,、信息回饋,、技術(shù)改進(jìn)、小批試做,、大批量供貨,、售后服務(wù)評價等嚴(yán)格的篩選流程。認(rèn)證時間久,，要求嚴(yán)苛,；一般產(chǎn)品得到下游客戶的認(rèn)證需要較長的時間周期。顯示面板行業(yè)通常為1-2年,，集成電路行業(yè)由于要求較高,，認(rèn)證周期能達(dá)到2-3年時間；認(rèn)證階段內(nèi),，光刻膠供應(yīng)商沒有該客戶的收入,，這需要供應(yīng)收有足夠的資金實力。光刻膠供應(yīng)商與客戶粘性大,；一般情況下,，為了保持光刻膠供應(yīng)和效果的穩(wěn)定，下游客戶與光刻膠供應(yīng)商一旦建立供應(yīng)關(guān)系后,，不會輕易更換,。通過建立反饋機(jī)制，滿足個性化需求,，光刻膠供應(yīng)商與客戶的粘性不斷增加,。后來者想要加入到供應(yīng)商行列，往往需要滿足比現(xiàn)有供應(yīng)商更高的要求,。所以光刻膠行業(yè)對新進(jìn)入者壁壘較高,。光刻膠只是一種形象的說法,，因為光刻膠從外觀上呈現(xiàn)為膠狀液體。

在半導(dǎo)體集成電路光刻技術(shù)開始使用深紫外（DUV）光源以后,，化學(xué)放大（CAR）技術(shù)逐漸成為行業(yè)應(yīng)用的主流,。在化學(xué)放大光刻膠技術(shù)中，樹脂是具有化學(xué)基團(tuán)保護(hù)因而難以溶解的聚乙烯,?；瘜W(xué)放大光刻膠使用光致酸劑（PAG）作為光引發(fā)劑。當(dāng)光刻膠曝光后,，曝光區(qū)域的光致酸劑（PAG）將會產(chǎn)生一種酸,。這種酸在后熱烘培工序期間作為催化劑，將會移除樹脂的保護(hù)基團(tuán)從而使得樹脂變得易于溶解,。化學(xué)放大光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍,，對深紫外光源具有良好的光學(xué)敏感性,，同時具有高對比度，對高分辨率等優(yōu)點(diǎn),。按照曝光波長分類,；光刻膠可分為紫外光刻膠（300~450nm）、深紫外光刻膠（160~280nm）,、極紫外光刻膠（EUV,，13.5nm）、電子束光刻膠,、離子束光刻膠,、X射線光刻膠等。不同曝光波長的光刻膠,，其適用的光刻極限分辨率不同,。通常來說，在使用工藝方法一致的情況下,，波長越短,，加工分辨率越佳。產(chǎn)品純度,、金屬離子雜質(zhì)控制等也是光刻膠生產(chǎn)工藝中需面臨的技術(shù)難關(guān),，光刻膠純度不足會導(dǎo)致芯片良率下降。昆山濕膜光刻膠顯影

光刻膠也稱為光致抗蝕劑,，是一種光敏材料,，受到光照后特性會發(fā)生改變，主要應(yīng)用于電子工業(yè)和印刷工業(yè)領(lǐng)域,。浙江光刻膠其他助劑

光刻膠所屬的微電子化學(xué)品是電子行業(yè)與化工行業(yè)交叉的領(lǐng)域,，是典型的技術(shù)密集行業(yè),。從事微電子化學(xué)品業(yè)務(wù)需要具備與電子產(chǎn)業(yè)前沿發(fā)展相匹配的關(guān)鍵生產(chǎn)技術(shù)，如混配技術(shù),、分離技術(shù),、純化技術(shù)以及與生產(chǎn)過程相配套的分析檢驗技術(shù)、環(huán)境處理與監(jiān)測技術(shù)等,。同時,，下游電子產(chǎn)業(yè)多樣化的使用場景要求微電子化學(xué)品生產(chǎn)企業(yè)有較強(qiáng)的配套能力，以及時研發(fā)和改進(jìn)產(chǎn)品工藝來滿足客戶的個性化需求,。光刻膠的生產(chǎn)工藝主要過程是將感光材料,、樹脂、溶劑等主要原料在恒溫恒濕 1000 級的黃光區(qū)潔凈房進(jìn)行混合,，在氮?dú)鈿怏w保護(hù)下充分?jǐn)嚢?，使其充分混合形成均相液體，經(jīng)過多次過濾,，并通過中間過程控制和檢驗,，使其達(dá)到工藝技術(shù)和質(zhì)量要求，然后做產(chǎn)品檢驗,，合格后在氮?dú)鈿怏w保護(hù)下包裝,、打標(biāo)、入庫,。浙江光刻膠其他助劑